玻璃基板清洗方法及清洗设备与流程

1.本技术涉及玻璃生产技术领域，尤其涉及一种玻璃基板清洗方法及清洗设备。


背景技术：

2.玻璃基板是显示面板的重要原材料之一，玻璃表面清洗的干净程度对后续产品的显示效果会有一定影响，进而显示产品对玻璃基板表面的颗粒数及表面缺陷有严格的要求，因而玻璃基板在进行显示产品生产前需要进行清洗玻璃基板表面颗粒高或表面缺陷多会造成面板厂膜层脱落、断线等不良，影响面板厂的良品率。
3.目前，玻璃基板在清洗方法简单，无法保证玻璃基板表面的较高清洁度，往往会出现颗粒高、表面缺陷、表面存在污渍、水滴等，不仅降低了玻璃基板的良品率，又会造成面板厂膜层脱落、断线等不良。


技术实现要素：

4.本技术实施例提供一种玻璃基板清洗方法及清洗设备，以解决现有玻璃基板清洗工艺简单，无法保证玻璃基板的表面清洁度从而造成玻璃基板的领频率低甚至是影响后续显示产品的生产问题。
5.为解决上述技术问题，本技术实施例提供如下技术方案：
6.本技术第一方面提供一种玻璃基板清洗方法，其包括如下步骤：
7.初步清洗玻璃基板；
8.一次吹扫所述玻璃基板；
9.盘刷清洗所述玻璃基板；
10.二次吹扫所述玻璃基板；
11.复洗并干燥所述玻璃基板；
12.对所述玻璃基板除静电。
13.在本技术第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中初步清洗玻璃基板的步骤，具体为：
14.高压喷淋清洗所述玻璃基板；
15.超声波清洗所述玻璃基板。
16.在本技术第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中复洗并干燥所述玻璃基板的步骤，具体为：
17.超纯水高压喷淋复洗所述玻璃基板；
18.三次吹扫所述玻璃基板；
19.风刀干燥所述玻璃基板。
20.在本技术第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中对所述玻璃基板除静电的步骤，之后还包括：
21.对比清洗玻璃基板并对比清洗结果，以确定所述玻璃基板清洗方法可继续运行。
22.在本技术第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中高压喷淋清洗所述玻璃基板的步骤，具体为：
23.高压喷淋水的压力为0.5mpa-2mpa、温度为40-60℃、流量为120-160l/min；高压喷淋水的喷淋角度与所述玻璃基板的流向相逆且呈10-90
°
；
24.超声波清洗所述玻璃基板的步骤，具体为：
25.通过高频振板喷出带有高频超声波的水清洗所述玻璃基板表面的杂质；其中，所述高频振板的频率为600khz-1000khz。
26.在本技术第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中一次吹扫所述玻璃基板、二次吹扫所述玻璃基板以及三次吹扫所述玻璃基板的步骤，具体为：
27.利用风切装置向所述玻璃基板吹扫水气混合物；
28.其中，气体压力0.1-0.5mpa，水流压力0.1-0.15mpa。
29.在本技术第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中盘刷清洗所述玻璃基板的步骤，具体为：
30.利用盘刷机控制上下盘刷转速200-500rpm，盘刷压入量0.1-0.5mm对所述玻璃基板进行刷洗，同时加入浓度为1％-4％、温度为40-60℃的碱性清洗剂。
31.在本技术第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中超纯水高压喷淋复洗所述玻璃基板的步骤，具体为：
32.利用15-18兆欧的纯净水对所述玻璃基板进行最终喷淋，喷淋水的温度为40-60℃、喷淋压力为0.25-0.45mpa、喷淋流量为120-160l/min、喷淋角度与所述玻璃基板的流向相逆且呈10-90
°
；
33.风刀干燥所述玻璃基板的步骤，具体为：
34.风刀的吹出方向与所述玻璃基板的流向相逆且呈10-20
°
，风刀的吹出压力为70-120pa。
35.在本技术第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中对比清洗玻璃基板并对比清洗结果，以确定所述玻璃基板清洗方法可继续使用的步骤，具体为：
36.对于同一款玻璃基板进行对比清洗通过减小所述玻璃清洗方法中的至少部分参数进行清洗；或者删减所述玻璃基板清洗方法中的至少一个步骤进行清洗；
37.对比清洗结果以确定所述玻璃基板清洗方法可继续使用的步骤。
38.本技术第二方面提供一种清洗设备，其包括控制器、传送装置以及沿所述传送装置的传输方向于所述传送装置上依次设置的初步清洗单元、第一吹扫单元、盘刷清洗单元、第二吹扫单元、复洗干燥单元以及离子风机单元；
39.所述控制器与所述传送装置信号连接，以控制所述传送装置启动/停止传输玻璃基板；
40.所述控制器与所述初步清洗单元、所述第一吹扫单元、所述盘刷清洗单元、所述第二吹扫单元、所述复洗干燥单元以及所述离子风机单元信号连接，以控制所述初步清洗单元、所述第一吹扫单元、所述盘刷清洗单元、所述第二吹扫单元、所述复洗干燥单元以及所述离子风机单元的启动/停止；
41.其中，所述初步清洗单元、所述第一吹扫单元、所述盘刷清洗单元、所述第二吹扫单元、所述复洗干燥单元以及所述离子风机单元的入口和/或出口位置均设有位置检测器，
所述位置检测器与所述控制器相接，所述控制器能够根据所述位置检测器的信号启动/停止所述初步清洗单元、所述第一吹扫单元、所述盘刷清洗单元、所述第二吹扫单元、所述复洗干燥单元以及所述离子风机单元。
42.相较于现有技术，本技术第一方面提供的玻璃基板清洗方法，通过对玻璃基板进行初步清洗、一次吹扫后进行盘刷清洗，以实现对玻璃基板表面的颗粒和杂质进行初步清除，避免其被带入盘刷清洗流程对玻璃基板表面造成划伤；同时在盘刷清洗后先经过二次吹扫再进行复洗和干燥，进一步地保证玻璃基板表面的清洁度且保证清洁效果，避免盘刷清洗过程中存在残留的清洗剂影响后续工序；再者除静电的设置也能够防止玻璃基板吸附杂质，再次提高玻璃基板的清洗效果；有效解决了现有玻璃基板清洗工艺简单，无法保证玻璃基板的表面清洁度从而造成玻璃基板的领频率低甚至是影响后续显示产品的生产问题。
附图说明
43.通过参考附图阅读下文的详细描述，本技术示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本技术的若干实施方式，相同或对应的标号表示相同或对应的部分，其中：
44.图1示意性地示出了本技术实施例提供的玻璃基板清洗方法的流程示意图；
45.图2示意性地示出了本技术实施例提供的玻璃基板清洗方法的详细流程示意图；
46.图3示意性地示出了本技术实施例提供的玻璃基板清洗方法的另一种流程示意图；
47.图4示意性地示出了本技术实施例提供的玻璃基板清洗设备的结构示意图；
48.附图标号说明：清洗设备1、传送装置2、传送轴21、滚轮22、导向轮23、气浮块24、初步清洗单元3、喷嘴31、高压喷淋设备32、超声波设备33、高频振板34、第一吹扫单元4、风切装置41、盘刷清洗单元5、盘刷机51、盘刷52、第二吹扫单元6、复洗干燥单元7、风刀吹干机71、离子风机单元8、第三吹扫单元9。
具体实施方式
49.下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
50.需要注意的是，除非另有说明，本技术使用的技术术语或者科学术语应当为本技术所属领域技术人员所理解的通常意义。
51.本技术实施例的技术方案为解决上述技术问题，总体思路如下：
52.实施例1
53.参考附图1，本技术实施例提供的玻璃基板清洗方法，其所在的清洗环境要求为环境压力高于大气压10pa-15pa，洁净度2000-5000级，洁净度按《洁净厂房设计规范》gb50073-2001标准；本实施例提供的玻璃基板清洗方法包括如下步骤：
54.101、初步清洗玻璃基板；
55.具体的，玻璃基板经过磨边工序后进入到清洗工序，此步骤利用水洗对所述玻璃
基板进行初步清洗，使得能够去除磨边工序带来的研磨粉以及玻璃基板表面较大的颗粒物或杂质；
56.其中，初步清洗的方法可以为高压喷淋、超声波清洗等方法中的一种或多种，例如：参考附图4，玻璃基板在整个清洗过程中需要被传动装置2持续的传送，传送到各个工序位置时进行对应的清洗步骤，所述传送装置2即为能够对物料进行传送的设备，例如：传送带传送或者滚轮传送等，其是本领域技术人员能够轻易理解并实现的，在此不做过多赘述。当玻璃基板被传送到所述初步清洗单元3的位置，则控制器控制所述初步清洗单元3对玻璃基板进行清洗；其中，初步清洗单元3中具有喷嘴31，以对应玻璃基板的上下表面同时进行喷淋清洗。
57.102、一次吹扫所述玻璃基板；
58.具体的，参考附图4，当玻璃基板被传送至所述第一吹扫单元4的位置，则控制器控制附图4中的第一吹扫单元4向所述玻璃基板吹扫水气混合物，具体的是通过控制器控制第一吹扫单元4中的风切装置41向所述玻璃基板的上下表面进行吹扫水气混合物，以去除附着在玻璃基板表面的杂质或异物；
59.其中，本实施例中将所述风切装置41的气体压力设置为0.1-0.5mpa，水流压力设置为0.1-0.15mpa，以利用压缩空气的高速气流把液体分离为雾状颗粒，高速气流将所述玻璃基板表面在初步清洗过程中形成的水膜吹散，同时高速的液体粒子冲击玻璃表面以起到清扫颗粒物和杂质的效果，以免大量颗粒物或杂质被带入盘刷清洗步骤在盘刷的挤压下对所述玻璃基板造成蹭伤；所述风切装置41为本领域技术人员能够轻易理解的设备，相比于现有风切设备的使用，本实施例中控制所述风切装置41吹出的不仅仅是气体，而是水气混合物，以增大其冲击力。
60.其中，所述气体压力和水流压力的控制与选择取决于被清洗玻璃基板的规格，例如：当玻璃基板的厚度较小时，如果气压和水流压力过大则有可能造成玻璃基板的破损，则可以理解的是：上述数据范围可以通过经验和多次试验得到，并且在本技术实施例提供的清洗方法的前提下，上述数据范围可以根据玻璃基板的规格进行设计调整。
61.103、盘刷清洗所述玻璃基板；
62.参考附图4，当玻璃基板被传送至盘刷清洗单元5的位置时，控制器控制盘刷清洗单元5中的盘刷机51配合碱性清洗剂同时作用清洗所述玻璃基板的上下表面，通过物理和化学的方法将玻璃基板表面的颗粒及杂质去除；具体的，盘刷机中控制上下盘刷52转速200-500rpm，盘刷压入量0.1-0.5mm以适当压力或者说摩擦力对所述玻璃基板进行刷洗，同时利用浓度为1％-4％、温度为40-60℃的碱性清洗剂对所述玻璃基板表面的颗粒及杂质进行化学反应消除，例如：氢氧化钾。
63.其中，所述盘刷52转数、盘刷52压入量的控制与选择取决于被清洗玻璃基板的规格，例如：转数过大且盘刷52压入量过大时，则有可能会造成上下盘刷之间的空间过小，对所述玻璃基板的压力加大，极易使得所述玻璃基板无法正常传送、发生叠片、撞片甚至发生破碎；所述清洗剂的浓度和温度的选取设置也取决于玻璃基板，若玻璃基板进入清洗程序前发现其表面的颗粒物或杂质较多，则将所述清洗剂的浓度和温度调整的大一些，以保证对颗粒物或杂质的清除效果。则可以理解的是：上述数据范围可以通过经验和多次试验得到，并且在本技术实施例提供的清洗方法的前提下，上述数据范围可以根据玻璃基板的规
格进行设计调整。
64.104、二次吹扫所述玻璃基板；
65.具体的，参考附图4，当玻璃基板被传送至所述第二吹扫单元6的位置，则控制器控制附图4中的第二吹扫单元6向所述玻璃基板吹扫水气混合物；控制器控制风切装置41向所述玻璃基板吹扫水气混合物；控制器控制风切装置41向玻璃基板的上下表面进行吹扫水气混合物，以去除附着在玻璃基板表面的杂质或异物。
66.其中，本实施例中将风切装置41的气体压力设置为0.1-0.5mpa，水流压力设置为0.1-0.15mpa，以利用压缩空气的高速气流把液体分离为雾状颗粒，高速气流将所述玻璃基板表面在初步清洗过程中形成的水膜吹散，同时高速的液体粒子冲击玻璃表面以起到清扫颗粒物和杂质的效果，以进一步地对所述玻璃基板表面残留的水渍和清洗剂进行吹扫，避免清洗剂残留影响后续生产工序及产品的质量，例如：若清洗剂残留，极易造成显示面板镀膜的失败。
67.其中，所述气体压力和水流压力的控制与选择取决于被清洗玻璃基板的规格，例如：当玻璃基板的厚度较小时，如果气压和水流压力过大则有可能造成玻璃基板的破损，则可以理解的是：上述数据范围可以通过经验和多次试验得到，并且在本技术实施例提供的清洗方法的前提下，上述数据范围可以根据玻璃基板的规格进行设计调整。
68.105、复洗并干燥所述玻璃基板；
69.具体的，参考附图4，为了避免清洗剂残留，本实施例中对所述玻璃基板进行清水复洗并干燥以保证前述清洗效果。
70.其中，当玻璃基板被传送到复洗干燥单元7的位置时，控制器控制对其上下表面进行复洗，复洗的方法可以为高压喷淋、超声波清洗等方法中的一种或多种；其中，复洗干燥单元7中同样具有喷嘴31，以对应玻璃基板的上下表面同时进行喷淋清洗。
71.106、对所述玻璃基板除静电；
72.具体的，参考附图4，玻璃基板被传送至离子风机单元8的位置时，控制器控制离子风机向所述玻璃基板的上下表面吹出带有正负电荷的气流以去除其表面的静电，避免静电吸附额外的灰尘及影响颗粒，造成前述清洗效果被影响。
73.根据上述所列，本技术第一方面提供的玻璃基板清洗方法，通过对玻璃基板进行初步清洗、一次吹扫后进行盘刷清洗，以实现对玻璃基板表面的颗粒和杂质进行初步清除，避免其被带入盘刷清洗流程对玻璃基板表面造成划伤；同时在盘刷清洗后先经过二次吹扫再进行复洗和干燥，进一步地保证玻璃基板表面的清洁度且保证清洁效果，避免盘刷清洗过程中存在残留的清洗剂影响后续工序；再者除静电的设置也能够防止玻璃基板吸附杂质，再次提高玻璃基板的清洗效果，保证产线的稳定生产，提高产品竞争力；有效解决了现有玻璃基板清洗工艺简单，无法保证玻璃基板的表面清洁度从而造成玻璃基板的领频率低甚至是影响后续显示产品的生产问题。
74.本文中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，具体地理解为：可以同时包含有a与b，可以单独存在a，也可以单独存在b，能够具备上述三种任一种情况。
75.进一步地，参考附图2，本技术实施例提供的玻璃基板清洗方法，在具体实施中，为了保证初步清洗的清洗效果，并且使其能够为后续清洗步骤打下良好基础，本实施例中可
以将步骤101详细设置为包括如下步骤：
76.201、高压喷淋清洗所述玻璃基板；
77.具体的，参考附图4，利用初步清洗单元3中的高压喷淋设备32经由喷嘴31将喷淋水向玻璃基板的上下表面同时喷淋；喷淋水压过低对去除所述玻璃基板表面污染物的效果不是很明显，喷淋水压过高会造成玻璃基板表面蹭伤或玻璃向前传送阻力大不稳定，所以本实施例中通过经验判断以及实验获取将高压喷淋水的压力设置为0.5mpa-2mpa、温度设置为40-60℃、流量设置为120-160l/min；高压喷淋水的喷淋角度与所述玻璃基板的流向相逆且呈10-90
°
。
78.其中，可以理解的是：随着所述玻璃基板的厚度减小，喷淋对应的压力和流量也要对应减小；随着玻璃基板上颗粒物或杂质量的增大，喷淋角度则越大。
79.202、超声波清洗所述玻璃基板；
80.具体的，参考附图4，利用初步清洗单元3中的超声波设备33对玻璃基板进行超声波作用，以将水滴、颗粒物等震荡脱离玻璃基板表面；其中，超声波设备33中具有高频振板34，高频振板34位于玻璃基板的上方或下方，当高频振板34发出高频震荡时，则能够将超声波能量发送至玻璃，使其表面的水滴或颗粒物收到震荡而脱落；超声波的频率根据颗粒或污染物的类型进行设计调节，过低不利于对所述玻璃基板表面颗粒或污染物的震洗，过高的频率会造成玻璃基板传送过程的不稳定，进而本实施例中通过高频振板34喷出将震动频率设置为600khz-1000khz。
81.其中，可以理解的是：随着所述玻璃基板上颗粒物或污染物附着性的增大，震动频率则越大。
82.进一步地，参考附图2，本技术实施例提供的玻璃基板清洗方法，在具体实施中，为了保证初步清洗的清洗效果，并且使其能够为后续清洗步骤打下良好基础，本实施例中可以将步骤105详细设置为包括如下步骤：
83.501、超纯水高压喷淋复洗所述玻璃基板；
84.具体的，参考附图4，复洗过程中同样利用一高压喷淋设备32，将15-18兆欧、过滤精度≤0.3μm的纯净水经由喷嘴31对所述玻璃基板的上下表面进行最终喷淋，喷淋水的温度为40-60℃、喷淋压力为0.25-0.45mpa、喷淋流量为120-160l/min、喷淋角度与所述玻璃基板的流向相逆且呈10-90
°
。
85.其中，可以理解的是：随着所述玻璃基板的厚度减小，喷淋对应的压力和流量也要对应减小；随着玻璃基板上颗粒物或杂质量的增大，喷淋角度则越大。
86.502、三次吹扫所述玻璃基板；
87.具体的，参考附图4，利用第三吹扫单元9中的风切装置41向所述玻璃基板吹扫水气混合物；
88.其中，第三吹扫单元9与前述的第一吹扫单元4、第二吹扫单元6结构及工作条件相同，例如：气体压力0.1-0.5mpa，水流压力0.1-0.15mpa，以利用压缩空气的高速气流把液体分离为雾状颗粒，高速气流将所述玻璃基板表面在初步清洗过程中形成的水膜吹散，同时高速的液体粒子冲击玻璃表面以起到清扫颗粒物和杂质的效果，以进一步地对所述玻璃基板表面残留的水渍和清洗剂进行吹扫，避免清洗剂残留影响后续生产工序及产品的质量，例如：若清洗剂残留，极易造成显示面板镀膜的失败。
89.其中，所述气体压力和水流压力的控制与选择取决于被清洗玻璃基板的规格，例如：当玻璃基板的厚度较小时，如果气压和水流压力过大则有可能造成玻璃基板的破损，则可以理解的是：上述数据范围可以通过经验和多次试验得到，并且在本技术实施例提供的清洗方法的前提下，上述数据范围可以根据玻璃基板的规格进行设计调整。
90.503、风刀干燥所述玻璃基板；
91.具体的，为了干燥复洗后的玻璃基板，参考附图4，通过风刀吹干机71对玻璃基板的上下表面进行吹干干燥，风刀的吹出方向与所述玻璃基板的流向相逆且呈10-20
°
，风刀的吹出压力为70-120pa，且风刀吹干机内外压差4-8pa。
92.其中，所述气体压力和风刀角度的控制与选择取决于被清洗玻璃基板的规格，例如：当玻璃基板的厚度较小时，如果气压压力过大则有可能造成玻璃基板的破损；再例如：随着玻璃基板上颗粒物或杂质量的增大，喷淋角度则越大；则可以理解的是：上述数据范围可以通过经验和多次试验得到，并且在本技术实施例提供的清洗方法的前提下，上述数据范围可以根据玻璃基板的规格进行设计调整。
93.进一步地，参考附图3，本技术实施例提供的玻璃基板清洗方法，在具体实施中，为了保证适用于不同规格玻璃基板的清洗效果，本实施例中于步骤106后设置步骤107；
94.107、对比清洗玻璃基板并对比清洗结果，以确定所述玻璃基板清洗方法可继续运行；
95.具体的，为了保证利用本实施例提供的前述步骤101-106的玻璃基板清洗方法对玻璃基板清洗后使得玻璃基板表面的颗粒书、污渍占比满足要求，进而本实施例中对于同一款玻璃基板进行对比清洗，通过减小所述玻璃清洗方法中的至少部分参数进行清洗；或者删减所述玻璃基板清洗方法中的至少一个步骤进行清洗；
96.后续对比前后的清洗结果以确定所述玻璃基板清洗方法是否可以继续运行。
97.具体的，针对同一款玻璃基板，首先利用前述实施例提供的步骤101-106的玻璃基板清洗方法进行清洗，记录效果；而后通过将前述实施例提供的步骤101-106的玻璃基板清洗方法中的至少部分参数减小或者是删减至少一个步骤后对玻璃基板进行清洗，记录效果；接着，比较前后结果，以确定采用本实施例提供的玻璃基板清洗方法清洗出来的玻璃基板的效果是否能够达到产品要求的标准的，如果达标则表示对于该款玻璃基板可以继续采用本实施例提供的玻璃基板清洗方法进行清洗，反之则需要调整个步骤参数直至清洗效果达标。
98.例如：首先按照前述步骤将清洗操作环境压力设置为高于大气压12pa，洁净度3000级；
99.第一次、控制器控制传送装置2运行，将高压喷淋设备32的水压调到0.15mpa，喷淋角度与玻璃基板流向成15
°
进行喷淋清洗；将超声波震动频率调至800khz进行震动清洗；盘刷清洗单元5使用4组尼伦盘刷和4组海绵盘刷，盘刷转速300rpm，盘刷压入量0.3mm，碱性清洗剂浓度2％，水温50℃进行盘刷清洗；利用18兆欧纯净水进行喷淋复洗，喷淋角度30
°
；风切装置41吹扫后再次利用风刀吹干机71吹干，风刀与玻璃基板流向的角度在13
°
，刀压在90pa；最后使用离子风机去除玻璃基板表面静电，记录清洗结果。
100.第二次、按上述第一次的方法清洗玻璃基板，改变以下控制条件：
101.1、清洗操作环境压力高于大气压15pa，洁净度3000级；
102.2、高压喷淋设备32的水压调整为0.10mpa；
103.3、盘刷清洗时使用水温调整为25℃；
104.4、关闭离子风机；
105.记录清洗结果。
106.第三次、按第一次的方法清洗玻璃基板，改变以下控制条件：
107.1、关闭第三吹扫单元9，不进行第三次吹扫；
108.2、盘刷清洗单元5使用的碱性清洗剂浓度调整为1％；
109.3、风刀吹干机71的刀压调整为110pa；
110.记录清洗结果。
111.参考下表，统计第一次至第三次清洗后玻璃基板表面颗粒数量平均值、玻璃基板表面污渍占比以及玻璃表面水滴占比结果：
[0112][0113]
通过对比上述数据可以看出，本实施例提供的玻璃基板清洗方法，能保证玻璃清洗后的品质要求，具备非常好的产品品质，可以针对该款玻璃基板进行继续运行清洗。
[0114]
实施例2
[0115]
参考附图4，本技术实施例提供一种清洗设备1，其包括控制器(图中未示出)、传送装置2以及沿所述传送装置2的传输方向于所述传送装置2上依次设置的初步清洗单元3、第一吹扫单元4、盘刷清洗单元5、第二吹扫单元6、复洗干燥单元7以及离子风机单元8；
[0116]
所述控制器(图中未示出)与所述传送装置2信号连接，以控制所述传送装置2启动/停止传输玻璃基板；
[0117]
所述控制器(图中未示出)与所述初步清洗单元3、所述第一吹扫单元4、所述盘刷清洗单元5、所述第二吹扫单元6、所述复洗干燥单元7以及所述离子风机单元8信号连接，以控制所述初步清洗单元3、所述第一吹扫单元4、所述盘刷清洗单元5、所述第二吹扫单元6、所述复洗干燥单元7以及所述离子风机单元8的启动/停止；
[0118]
其中，所述初步清洗单元3、所述第一吹扫单元4、所述盘刷清洗单元5、所述第二吹扫单元6、所述复洗干燥单元7以及所述离子风机单元8的入口和/或出口位置均设有位置检测器(图中未示出)，所述位置检测器(图中未示出)与所述控制器(图中未示出)相接，所述控制器(图中未示出)能够根据所述位置检测器(图中未示出)的信号启动/停止所述初步清洗单元3、所述第一吹扫单元4、所述盘刷清洗单元5、所述第二吹扫单元6、所述复洗干燥单元7以及所述离子风机单元8。
[0119]
具体的，所述控制器(图中未示出)具有数据收发、分析、处理、比较及程序编辑功能；所述位置检测器(图中未示出)具有位置检测或距离检测功能，可以在玻璃基板进入或
退出每个清洗工位的时候向控制器发送信号，例如：位置传感器、距离传感器、红外线传感器，只要能够检测在特定位置到玻璃基板的到达即可，参考附图4，本实施例前述每个清洗单元都具有一外罩箱体，以使得每一步骤的清洗都在箱体内进行，传送装置2依次穿过每个箱体对玻璃基板进行传送，进而位置检测器(图中未示出)可以设置在每个箱体的进口处或出口处，例如：位置检测器设置在进口处时，当玻璃基板进入一个清洗单元时，控制器则收到玻璃基板进入的消息随机控制对应的清洗单元开始工作；相对的，当位置检测器设置在出口处时，当玻璃基板退出一个清洗单元时，控制器则收到玻璃基板即将进入下一个清洗单元的消息随机控制对应的清洗单元开始工作。
[0120]
其中，所述传送装置2即为能够对物料进行传送的设备，例如：附图4所示的，中间设有并排的传送轴21、传送轴上设置滚轮22，并且传送轴21的两端设有导向轮23，防止玻璃基板传送过程中发生偏移，其是本领域技术人员能够轻易理解并实现的，在此不做过多赘述。
[0121]
其中，参考附图4，初步清洗单元3包括高压喷淋设备32和超声波设备33，两设备的结构及工作原理均为本领域技术人员熟知的；所述高压喷淋设备32在传送装置2的上下分别设置若干喷嘴31，使得玻璃基板进入高压喷淋设备所在箱体后能够位于上下喷嘴之间，进而能够将喷淋水向玻璃基板的上下表面同时喷淋，该设置为本领域技术人员能够轻易理解并实现的，在此不做过多赘述。
[0122]
其中，参考附图4，超声波设备33中包括高频振板34，玻璃基板进入超声波设备33所在箱体后能够平行所述高频振板34，此时高频振板34位于玻璃基板的上方或下方将超声波能量发送至玻璃，使其表面的水滴或颗粒物收到震荡而脱落。
[0123]
其中，参考附图4，第一吹扫单元4、第二吹扫单元6以及第三吹扫单元9结构和工作原理均相同，均包括风切装置41，风切装置41为本领域技术人员熟知的设备，其能够向所述玻璃基板吹扫水气混合物。
[0124]
其中，参考附图4，盘刷清洗单元5包括盘刷机51，盘刷机51包括上下相对设置的盘刷52，盘刷机51的结构及工作原理均为本领域技术人员熟知的，玻璃基板进入盘刷清洗单元5所在箱体后位于上下盘刷52之间，而后配合碱性清洗剂同时作用清洗所述玻璃基板的上下表面。
[0125]
其中，参考附图4，复洗干燥单元7包括高压喷淋设备32、第三吹扫单元9以及风刀吹干机71；
[0126]
高压喷淋设备32经由喷嘴31将15-18兆欧、过滤精度≤0.3μm的纯净水经由喷嘴31对所述玻璃基板的上下表面进行最终喷淋，以起到复洗的作用。
[0127]
第三吹扫单元9与前述的第一吹扫单元4、第二吹扫单元6结构及工作条件相同，目的在于垂钓玻璃基板表面复洗过程中的水滴，为干燥做准备，加快干燥的速率。
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风刀吹干机71为本领域技术人员熟知的设备，其能对玻璃基板的上下表面进行吹干干燥。
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其中，参考附图4，离子风机单元8中的离子风机为本领域技术人员熟知的设备，其结构和工作原理在此不做过多赘述。对应离子风机单元8的传送装置2需要设置成气浮的形式，以能够将玻璃基板悬置去静电，防止玻璃基板接触到其他部件再次产生静电或吸附颗粒物，则传送装置2上设有气浮块24以向上吹气承托玻璃基板使其悬浮运动，当然可以理解
的是，该位置两侧的导向轮还是存在的，以对应玻璃基板边缘的区域进行导向传送；上述设置为本领域技术人员能够轻易理解并实现的，在此不做过多不赘述。
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以上所述，仅为本技术的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本技术揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本技术的保护范围之内。因此，本技术的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。