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一种碳化硅陶瓷真空浇筑工艺的制作方法

2022-04-25 02:40:31 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种碳化硅陶瓷真空浇筑工艺,其特征在于:所述碳化硅陶瓷真空浇筑工艺包括以下步骤:s1:配料称量;s2:反应料混合和装炉;s3:炼制;s4:化学处理;s5:脱水干燥;s6:浇筑准备;s7:进行浇筑;s8:检测;s9:入库。2.根据权利要求1所述的一种碳化硅陶瓷真空浇筑工艺,其特征在于:所述s1配料称量包括以下步骤:s101:回炉料的准备,sic>75%,sio2 si<15%,固定碳<6%,杂质<4%;s102:焙烧料的准备,焙烧料包括焦炭、木屑和食盐,以100t计,焦炭0~45kg,木屑35~55l,食盐3%~5%;s103:保温料的准备,保温料的焦炭与石英比为0.6。3.根据权利要求1所述的一种碳化硅陶瓷真空浇筑工艺,其特征在于:所述s2反应料混合包括以下步骤:第一步:在炉底先铺上一层未反应料,然后添加新配料到约炉芯到炉底的二分之一高度,在其上面铺一层非晶形料,然后继续加配料至炉芯水平;第二步:炉芯放在配料制成的底盘上,中间略凸起以适应在炉役过程中出现的塌陷,炉芯上部铺放混好的配料;第三步:炉芯上部铺放混好的配料同时也放非品质料或生产未反应料,炉子装好后形成中间高、两边低的状态。4.根据权利要求1所述的一种碳化硅陶瓷真空浇筑工艺,其特征在于:所述s3炼制包括以下步骤:s301:通电升温合成;s302:浇水冷却;s303:破碎处理。5.根据权利要求1所述的一种碳化硅陶瓷真空浇筑工艺,其特征在于:所述s4化学处理包括以下步骤:第一步:硫酸酸洗,除去合成料中的含铁、铝、钙和镁杂质;第二步:沉淀池沉淀,沉淀后的污水进行污水中和后排出;第三步:沉渣处理,沉渣进行水洗过筛后重新作为保温料进行二次炼制。6.根据权利要求1所述的一种碳化硅陶瓷真空浇筑工艺,其特征在于:所述s5脱水干燥过程后控制水分为2%~3%。7.根据权利要求1所述的一种碳化硅陶瓷真空浇筑工艺,其特征在于:所述s6浇筑准备包括以下步骤:
第一步:进行材料的预热和计量;第二步:嵌件,进行预处理,嵌件涂覆粘结剂或半导电橡胶;第三步:脱气,填料抽空干燥,固态环氧树脂熔化抽真空,固化剂抽真空,先将填料和环氧树脂一次混合抽真空,然后与固化剂混合。8.根据权利要求1所述的一种碳化硅陶瓷真空浇筑工艺,其特征在于:所述s7进行浇筑包括以下步骤:第一步:前固化,浇注料在固化炉中固化成型,固化度至80%以上;第二步:脱模装模,保持适当温度将产品卸模并快速装入下一模;第三步:后固化,脱模后的产品集中固化,提高固化度,释放内应力;第四步:后处理,清理产品浇口,合模缝及其它缺陷。9.根据权利要求1所述的一种碳化硅陶瓷真空浇筑工艺,其特征在于:所述s8检测包括以下步骤:第一步:质量检测,检测成品表面是否存在气孔、缩孔缩痕、裂纹和杂质;第二步:进行问题溯源和修正。

技术总结
本发明涉及碳化硅陶瓷生产技术领域,尤其涉及一种碳化硅陶瓷真空浇筑工艺。包括S1:配料称量;碳化硅是一种无机物,化学式为SiC,是用石英砂、石油焦、木屑和食盐作为原料通过电阻炉高温冶炼而成,碳化硅化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性能好,SiC陶瓷的优异性能与其独特结构密切相关。SiC是共价键很强的化合物,通过炉芯放在配料制成的底盘上,中间略凸起以适应在炉役过程中出现的塌陷,炉芯上部铺放混好的配料,炉芯上部铺放混好的配料同时也放非品质料或生产未反应料,炉子装好后形成中间高、两边低的状态,提高炉内反应效果,脱模后的产品集中固化,提高固化度,释放内应力,第四步为后处理,清理产品浇口,合模缝及其它缺陷。模缝及其它缺陷。模缝及其它缺陷。


技术研发人员:徐方园 杨建 郑鹏 谈成
受保护的技术使用者:扬州中卓泵业有限公司
技术研发日:2021.12.28
技术公布日:2022/4/22
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