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用于含氟涂料废水的回收处理系统的制作方法

2022-04-16 15:02:20 来源:中国专利 TAG:


1.本发明涉及一种用于含氟涂料废水的回收处理系统,属于废水处理设备技术领域。


背景技术:

2.目前,采用的含氟废水处理技术为简单的一级物化沉淀,借助石灰乳调节废水ph值的同时将废水中的氟离子转化成氟化钙,缺乏专门针对氟离子的量来调节石灰的用量,导致投药量与原水不匹配,出现投药不足或投药过量的现象。
3.如果投药过量导致用药大、产生的污泥多、运行成本高,如果投药不足,反应效率低,氟离子的去除率只能达90%左右。


技术实现要素:

4.根据以上现有技术中的不足,本发明要解决的技术问题是:为解决上述问题之一,提供一种用于含氟涂料废水的回收处理系统。
5.本发明所述的用于含氟涂料废水的回收处理系统,其特征在于:包括主管道,所述主管道自前到后依次设置有首段测量装置、中段检测装置和尾段检测装置,所述首段测量装置与中段检测装置之间的主管道上安装有一次加药沉淀装置,所述中段检测装置与尾段检测装置之间的主管道上安装有二次加药沉淀装置,首段测量装置,用于实时地测量新注入含氟废水的氟离子浓度,以获得初始测量值;一次加药沉淀装置,用于向所述主管道内首次加入药剂,利用所述药剂对主管道中的含氟废水进行首次去氟离子处理;中段检测装置,用于实时地测量一次加药后含氟废水的氟离子浓度,以获得中间测量值;二次加药沉淀装置,用于向所述主管道内再次加入药剂,利用所述药剂对主管道中的含氟废水进行二次去氟离子处理;尾段检测装置,用于实时地测量二次加药后含氟废水的氟离子浓度,以获得末端测量值;根据初始测量值和中间测量值的差值调整一次加药沉淀装置的供药量,根据中间测量值和末端测量值的差值调整二次加药沉淀装置的供药量。
6.优选地,所述一次加药沉淀装置包括沉淀罐体,所述沉淀罐体的上盖上贯穿设置有中心管,所述中心管的上端延伸至沉淀罐体外侧,下端延伸至沉淀罐体内底部,所述中心管上端封闭,下端开口,近封闭端设置有上隔板,所述上隔板与中心管形成正压风腔,中心管的外壁上设置有与正压风腔相连通的连接管,通过连接管与药剂风送装置的出料口连接,所述上隔板上设置有贯穿上隔板的送药管,所述上隔板下方的中心管上设置有连通中心管内外的排气管,所述沉淀罐体的顶板上还设置有放气阀。
7.优选地,所述沉淀罐体的底部安装有支腿,所述支腿使得沉淀罐体的底板与地面之间具有预留间隙,沉淀罐体的底板中部安装有减速电机,所述减速电机上安装有竖向的搅拌轴,所述搅拌轴延伸至中心管内中部,并在端部安装有搅拌桨。
8.优选地,所述还包括供液管,供液管与上游的主管道连接,另一端贯穿中心管的盲端、上隔板延伸至上隔板下方。
9.优选地,所述药剂为粉末状,药剂中的氢氧化钙加入量为890mg/l-1250mg/l,高效絮凝剂pam加入量为12ppm-15ppm,所述第一复配药剂改善氟化钙沉降性能,提高氢氧化钙沉淀单元固液分离效果。
10.优选地,所述首段测量装置、中段检测装置及尾段检测装置均为在线监测装置将检测到的水中氟离子的含量传输到电脑端,并控制药剂风送装置工作。
11.优选地,所述主管道的进口连接供料泵。
12.优选地,所述反应结束后,主管道末端出水氟离子的浓度为13mg/l以下,且氟离子的去除效率大于99.8%。
13.优选地,所述放气阀为电控阀,与电脑端电性连接。
14.优选地,所述沉淀罐体底部一侧为出渣口。
15.与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:本发明所述的用于含氟涂料废水的回收处理系统,首段测量装置,用于实时地测量新注入含氟废水的氟离子浓度,以获得初始测量值;一次加药沉淀装置,用于向所述主管道内首次加入药剂,利用所述药剂对主管道中的含氟废水进行首次去氟离子处理;中段检测装置,用于实时地测量一次加药后含氟废水的氟离子浓度,以获得中间测量值;二次加药沉淀装置,用于向所述主管道内再次加入药剂,利用所述药剂对主管道中的含氟废水进行二次去氟离子处理;尾段检测装置,用于实时地测量二次加药后含氟废水的氟离子浓度,以获得末端测量值;根据初始测量值和中间测量值的差值调整一次加药沉淀装置的供药量,根据中间测量值和末端测量值的差值调整二次加药沉淀装置的供药量,使得投药精确,更能满足使用要求。
16.本发明所述的用于含氟涂料废水的回收处理系统,一次加药沉淀装置采用新型的设计,供药量,使得投药精确,更能满足使用要求,反应更加充分。
附图说明
17.为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中,类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中,各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
18.图1为本发明的结构示意图;图2为一次加药沉淀装置的结构示意图。
19.图中:1、主管道 2、首段测量装置 3、中段检测装置 4、尾段检测装置 5、一次加药沉淀装置 5.1、沉淀罐体 5.2、药剂风送装置 5.3、支腿 5.4、减速电机 5.5、搅拌轴 5.6、搅拌桨 5.7、中心管 5.8、上隔板 5.9、送药管 5.10、排气管 5.11、放气阀 5.12、供液管 6、二次加药沉淀装置。
具体实施方式
20.下面结合附图对本发明做进一步描述:以下通过具体实施例对本发明作进一步说明,但不用以限制本发明,凡在本发明精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
实施例
21.如图1-2所示,所述用于含氟涂料废水的回收处理系统,包括主管道1,所述主管道1自前到后依次设置有首段测量装置2、中段检测装置3和尾段检测装置4,所述首段测量装置2与中段检测装置3之间的主管道1上安装有一次加药沉淀装置5,所述中段检测装置3与尾段检测装置4之间的主管道1上安装有二次加药沉淀装置6,首段测量装置2,用于实时地测量新注入含氟废水的氟离子浓度,以获得初始测量值;一次加药沉淀装置5,用于向所述主管道1内首次加入药剂,利用所述药剂对主管道1中的含氟废水进行首次去氟离子处理;中段检测装置3,用于实时地测量一次加药后含氟废水的氟离子浓度,以获得中间测量值;二次加药沉淀装置6,用于向所述主管道1内再次加入药剂,利用所述药剂对主管道1中的含氟废水进行二次去氟离子处理;尾段检测装置4,用于实时地测量二次加药后含氟废水的氟离子浓度,以获得末端测量值;根据初始测量值和中间测量值的差值调整一次加药沉淀装置5的供药量,根据中间测量值和末端测量值的差值调整二次加药沉淀装置6的供药量。
22.本实施例中,所述一次加药沉淀装置5包括沉淀罐体5.1,所述沉淀罐体5.1的上盖上贯穿设置有中心管5.7,所述中心管5.7的上端延伸至沉淀罐体5.1外侧,下端延伸至沉淀罐体5.1内底部,所述中心管5.7上端封闭,下端开口,近封闭端设置有上隔板5.8,所述上隔板5.8与中心管5.7形成正压风腔,中心管5.7的外壁上设置有与正压风腔相连通的连接管,通过连接管与药剂风送装置5.2的出料口连接,所述上隔板5.8上设置有贯穿上隔板5.8的送药管5.9,所述上隔板5.8下方的中心管5.7上设置有连通中心管5.7内外的排气管5.10,所述沉淀罐体5.1的顶板上还设置有放气阀5.11;所述沉淀罐体5.1的底部安装有支腿5.3,所述支腿5.3使得沉淀罐体5.1的底板与地面之间具有预留间隙,沉淀罐体5.1的底板中部安装有减速电机5.4,所述减速电机5.4上安装有竖向的搅拌轴5.5,所述搅拌轴5.5延伸至中心管5.7内中部,并在端部安装有搅拌桨5.6;所述还包括供液管5.12,供液管5.12与上游的主管道1连接,另一端贯穿中心管5.7的盲端、上隔板5.8延伸至上隔板5.8下方;所述药剂为粉末状,药剂中的氢氧化钙加入量为1000mg/l,高效絮凝剂pam加入量为15ppm,所述第一复配药剂改善氟化钙沉降性能,提高氢氧化钙沉淀单元固液分离效果;所述首段测量装置2、中段检测装置3及尾段检测装置4均为在线监测装置将检测到的水中氟离子的含量传输到电脑端,并控制药剂风送装置5.2工作;所述主管道1的进口连接供料泵;所述反应结束后,主管道1末端出水氟离子的浓度为13mg/l以下,且氟离子的去除效率大于99.8%;所述放气阀5.11为电控阀,与电脑端电性连接;所述沉淀罐体5.1底部一侧为出渣口。
23.本发明的工作原理:首段测量装置,用于实时地测量新注入含氟废水的氟离子浓度,以获得初始测量值;一次加药沉淀装置,用于向所述主管道内首次加入药剂,利用所述药剂对主管道中的含氟废水进行首次去氟离子处理;中段检测装置,用于实时地测量一次加药后含氟废水的氟离子浓度,以获得中间测量值;二次加药沉淀装置,用于向所述主管道内再次加入药剂,利用所述药剂对主管道中的含氟废水进行二次去氟离子处理;尾段检测
装置,用于实时地测量二次加药后含氟废水的氟离子浓度,以获得末端测量值;根据初始测量值和中间测量值的差值调整一次加药沉淀装置的供药量,根据中间测量值和末端测量值的差值调整二次加药沉淀装置的供药量,使得投药精确,更能满足使用要求。
24.一次加药沉淀装置5采用新型结构,废水通过供料泵由主管道1的进水端流入,主管道1内废水通过供液管5.12进入中心管5.7中(通过放气阀5.11排气量水面基本与上隔板5.8平齐),同时药剂通过药剂风送装置5.2风送至中心管5.7中,再结合处初混,并在搅拌桨5.6作用下再混,气体通过排气管5.10、放气阀5.11排出,气体的流动过程中也具有混合作用(作用在沉淀罐体5.1上部),药剂混匀后在沉淀罐体5.1中充分反应,固体渣沉淀在沉淀罐体5.1内底部,上清液流入二次加药沉淀装置6中,二次加药沉淀装置6与一次加药沉淀装置5的工作原理相同,不再赘述。
25.以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征以及本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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