恒温控制系统及具有其的涂布显影装置的制作方法

1.本技术属于半导体设备领域，具体涉及一种恒温控制系统及具有其的涂布显影装置。


背景技术：

2.本部分提供的仅仅是与本公开相关的背景信息，其并不必然是现有技术。
3.在半导体设备、lcd基板的制造工艺中，通过光刻技术，可在基板上形成抗蚀图案。光刻技术是通过一些列的工序来进行的：例如在半导体晶圆等基板上涂布光刻胶，在晶圆的表面形成胶膜，在使用光掩模对胶膜进行曝光之后，进行显影处理，由此得到期望的图案。其中，光刻胶的涂布和显影液的涂布是由涂布显影装置完成的，由于光刻胶和显影液的温度对光刻胶的涂布和显影效果具有直接影响，因此，在涂布显影装置中通常设置有恒温控制系统，用于保证光刻胶和显影液的温度，以提高产品良率。现有的部分恒温控制系统以循环水作为温度控制媒介，为了提供驱使水循环的动力，通常利用水泵来给水加压。这种方式会导致循环水的管线压力比较高，容易引发水泄漏的问题，一旦发生泄漏，则会进一步导致污染基板以及相关设备，诱发品质事故。


技术实现要素：

4.本技术的第一方面提出了一种恒温控制系统，包括：输水管路；恒温控制器，在所述恒温控制器的内部设置有内部水路，所述输水管路和所述内部水路连接以形成水循环回路，在所述恒温控制器的内部还设置有布置在所述内部水路上的真空泵。
5.本技术的第二方面提出了一种涂布显影装置，包括上述任一实施例中的恒温控制系统。
附图说明
6.通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出具体实施方式的目的，而并不认为是对本技术的限制。在整个附图中，用相同的附图标记表示相同的部件。在附图中：
7.图1是本技术实施例的恒温控制系统的示意图；
8.图2是本技术实施例的控制单元、温度检测件和调温件的连接示意图；
9.图3是本技术实施例的涂布显影装置的示意图。
10.附图中各标记表示如下：
11.1：恒温控制系统；
12.10：输水管路；
13.11：出水管路、12：回水管路；
14.20：恒温控制器；
15.21：内部管路、22真空泵、23：水箱、24：调温件、25：温度检测件、26：控制单元；
16.2：喷嘴；
17.3：机械臂；
18.4：供液管；
19.5：旋转电机；
20.6：托盘；
21.9：基板。
具体实施方式
22.以下，将参照附图来描述本公开的实施例。但是应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本公开的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本公开的概念。
23.在附图中示出了根据本公开实施例的各种结构示意图。这些图并非是按比例绘制的，其中为了清楚表达的目的，放大了某些细节，并且可能省略了某些细节。图中所示出的各种区域、层的形状以及它们之间的相对大小、位置关系仅是示例性的，实际中可能由于制造公差或技术限制而有所偏差，并且本领域技术人员根据实际所需可以另外设计具有不同形状、大小、相对位置的区域/层。
24.在本公开的上下文中，当将一层/元件称作位于另一层/元件“上”时，该层/元件可以直接位于该另一层/元件上，或者它们之间可以存在居中层/元件。另外，如果在一种朝向中一层/元件位于另一层/元件“上”，那么当调转朝向时，该层/元件可以位于该另一层/元件“下”。
25.如图1所示，本技术的第一方面提出了一种恒温控制系统1，其包括输水管路10和恒温控制器20，其中，在恒温控制器20的内部设置有内部水路21，输水管路10和内部水路21连接，以形成水循环回路，在恒温控制器20的内部还设置有布置在内部水路21上的真空泵22。
26.根据本技术提出的恒温控制系统1，其输水管路10和恒温控制器20的内部管路21连接，从而形成水循环回路，即恒温控制器20输出的恒温水在输水管路10中流动，最终回到恒温控制器20。输水管路10和在其中循环流动的恒温水，用于保证涂布显影装置中的光刻胶或显影液处于恒温的状态，从而提高产品良率。本技术中的恒温控制系统1以真空泵22作为水循环的动力源，在真空泵22运行时，输水管路10中的水在真空泵22的抽吸作用下，形成单向流动的循环水，这种以真空泵22作为水循环的动力的方式，将现有的给水加压的方式改变为给水减压的方式，由此使得输水管路10不易发生泄漏，进而可以避免因泄漏而导致产品质量事故的问题。
27.进一步地，输水管路10包括出水管路11和回水管路12，出水管路11连接恒温控制器20的内部管路21的出口，出水管路11用于将恒温控制器20中的恒温水向外输出，回水管路12连接恒温控制器20的内部管路21的进口，回水管路12用于回收恒温水。
28.在本技术的一些实施例中，在恒温控制器20的内部还设置有水箱23，水箱23设置在内部水路21上，水箱23用于盛装水，在恒温控制系统1不工作时，水容纳于水箱23中，当恒温控制系统1工作时，恒温控制器20将水箱23中的水的温度调整至预设温度后，再使达到预设温度的水在输水管路10和内部水路21之间循环流动。
29.在本技术的一些实施例中，沿水循环流动的方向，水箱23位于真空泵22的下游，由此，在真空泵22工作时，真空泵22对输水管路10中的水形成抽吸作用，在输水管路10中形成负压，在负压的作用下，水箱23内的水被抽吸至输水管路10中，而真空泵22抽吸到的水经过内部水路21再回到水箱23中，由此，形成了恒温水的循环过程。
30.在本技术的一些实施例中，如图2所示，恒温控制器20包括调温件24、温度检测件25和控制单元26，其中，调温件24设置在水箱23中，用于改变水箱23中的水的温度，温度检测件25设置在水箱23中，用于检测水箱23中的水的温度，控制单元26与调温件24、温度检测件25电连接，用于根据温度检测件25所检测到的温度控制调温件24的工作状态。具体地，恒温控制系统1在运行状态下，温度检测件25实时检测水箱23中的水的当前温度，控制单元26根据水的当前温度和预设温度的差值，控制调温件24的工作状态，即当所述差值在允许范围内，则调温件24关闭，当所述差值超出允许范围时，则调温件24开启，对水的温度进行调整。
31.在本技术的一些实施例中，真空泵22为旋转叶片真空泵、旋转齿轮真空泵、活塞真空泵、隔膜真空泵、水封式真空泵和罗茨真空泵之一。上述各类真空泵22均可以满足恒温控制系统1的使用要求。
32.如图3所示，本技术的第二方面提出了一种涂布显影装置，其包括上述任一实施例中的恒温控制系统1。
33.根据本技术提出的涂布显影装置，由于具有上述的恒温控制系统1，因此，其可以获得上述的实施例所具有的一切有益效果。
34.在本技术的一些实施例中，涂布显影装置还包括喷嘴2、机械臂3和供液管4，喷嘴2安装于机械臂3，喷嘴2用于在晶圆等基板9上涂布光刻胶或涂布显影液，供液管4与喷嘴2连接，用于为喷嘴供料(光刻胶或显影液)。
35.在本技术的一些实施例中，供液管4设置在输水管路10的内部，由此，通过输水管路10中的恒温水，可以对供液管4中的光刻胶或显影液起到很好的温度保持作用，从而有利于提高产品良率。
36.在本技术的一些实施例中，涂布显影装置还包括旋转电机5，旋转电机5用于带动基板9转动，在利用喷嘴2喷洒光刻胶的同时，通过旋转电机5带动基板9持续转动，从而实现光刻胶在基板9的表面的均匀涂布。
37.在本技术的一些实施例中，涂布显影装置还包括与旋转电机5的转轴连接的托盘6，托盘6用于固定基板9。旋转电机5在运行时带动托盘6转动，固定在托盘6上的基板9随之同步进行转动。由此，实现了旋转电机5驱动基板9转动的过程。进一步地，输水管路10的一部分绕设在旋转电机5上，由此，使得恒温水也能够用于冷却旋转电机5。
38.在以上的描述中，对于各层的构图、刻蚀等技术细节并没有做出详细的说明。但是本领域技术人员应当理解，可以通过各种技术手段，来形成所需形状的层、区域等。另外，为了形成同一结构，本领域技术人员还可以设计出与以上描述的方法并不完全相同的方法。另外，尽管在以上分别描述了各实施例，但是这并不意味着各个实施例中的措施不能有利地结合使用。
39.以上对本公开的实施例进行了描述。但是，这些实施例仅仅是为了说明的目的，而并非为了限制本公开的范围。本公开的范围由所附权利要求及其等价物限定。不脱离本公
开的范围，本领域技术人员可以做出多种替代和修改，这些替代和修改都应落在本公开的范围之内。