对基板作业机的制作方法

技术特征：
1.一种对基板作业机，对基板进行预定的作业，所述对基板作业机具备：等离子体单元，产生等离子体；存储装置，存储有条件数据；以及控制装置，基于所述条件数据来调整由所述等离子体单元向所述基板照射的等离子体的照射量。2.一种对基板作业机，对基板进行预定的作业，所述对基板作业机具备：等离子体单元，产生等离子体；通信电路，设为能够与存储有条件数据的外部设备进行通信；以及控制装置，基于所述条件数据来调整由所述等离子体单元向所述基板照射的等离子体的照射量。3.根据权利要求1或2所述的对基板作业机，其中，所述控制装置根据对所述基板的等离子体照射时间来调整所述照射量。4.根据权利要求3所述的对基板作业机，其中，所述对基板作业机具备搬运所述基板的搬运装置，所述控制装置根据由所述搬运装置搬运所述基板的速度而改变所述照射时间。5.根据权利要求3所述的对基板作业机，其中，所述对基板作业机具备使所述等离子体单元移动的移动装置，所述控制装置根据通过所述移动装置使所述等离子体单元移动的速度而改变所述照射时间。6.根据权利要求1或2所述的对基板作业机，其中，所述对基板作业机具备用于向所述基板转印转印剂的转印针，所述条件数据是将所述转印针的照射条件及所述基板的照射条件与表面自由能建立关联所得的数据表，所述控制装置执行如下处理：检索处理，通过所述转印剂的表面自由能而从所述数据表中检索所述转印针的照射条件和所述基板的照射条件；转印针照射处理，在通过所述检索处理所检索到的所述转印针的照射条件下，向所述转印针照射来自所述等离子体单元的等离子体，使所述转印针的表面自由能近似于所述转印剂的表面自由能；以及基板照射处理，在通过所述检索处理所检索到的所述基板的照射条件下，向所述基板照射来自所述等离子体单元的等离子体，使所述基板的表面自由能近似于所述转印剂的表面自由能。7.根据权利要求6所述的对基板作业机，其中，所述数据表包括：第一数据表，是对应所述转印针和所述基板各自的每个种类而将所述转印针的照射条件和所述基板的照射条件与表面自由能建立关联所得的；以及第二数据表，是将所述转印剂的种类与表面自由能建立关联所得的，
所述控制装置通过设定所述转印针、所述基板以及所述转印剂各自的种类来执行决定在所述检索处理中使用的表面自由能的决定处理。

技术总结
一种对基板作业机，对基板进行预定的作业，对基板作业机具备：等离子体单元，产生等离子体；存储装置，存储有条件数据；以及控制装置，基于条件数据来调整由等离子体单元向基板照射的等离子体的照射量。照射的等离子体的照射量。照射的等离子体的照射量。


技术研发人员：土谷祐介 太田桂资 神藤高广
受保护的技术使用者：株式会社富士
技术研发日：2019.08.21
技术公布日：2022/3/18