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用于在kHzRF发生器的操作循环内调谐MHzRF发生器的系统和方法与流程

2022-03-18 12:03:42 来源:中国专利 TAG:

技术特征:

1.一种调谐方法,其包括:

针对第一射频发生器的第一组一个或多个操作循环,访问与第二射频发生器相关联的多个反射参数值;

通过将所述多个反射参数值应用于射频路径的至少一部分的基于计算机的模型,根据所述多个反射参数值来计算多个负载阻抗参数值,其中所述射频路径介于所述第二射频发生器和等离子体室的电极之间;

接收将由所述第二射频发生器产生的射频信号的多个调频参数;

通过将所述多个负载阻抗参数值应用于所述基于计算机的模型来确定所述多个调频参数的值,其中确定所述多个调频参数的值以最小化所述基于计算机的模型的输入处的反射系数参数;以及

在所述第一射频发生器的第二组一个或多个操作循环期间根据所述多个调频参数的值控制所述第二射频发生器。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述访问所述多个反射参数值、所述计算所述多个负载阻抗参数值、所述确定所述调频参数的值以及所述控制所述第二射频发生器在处理所述等离子体室中的衬底期间执行。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述多个反射参数值包括多个电压反射系数值,并且其中,所述反射系数参数是平均功率反射系数。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第二组一个或多个操作循环在所述第一组一个或多个操作循环之后。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一组包括所述第一射频发生器的两个或更多个操作循环,并且其中,所述多个反射参数值中的每一个是在所述第一组中的所述两个或更多循环中计算的多个反射系数值的平均值。

6.根据权利要求1所述的方法,其还包括:

针对所述第一射频发生器的第三组一个或多个操作循环,重复所述访问所述多个反射参数值、所述计算所述多个负载阻抗参数值、以及所述确定所述多个调频参数的值;以及

在所述第一射频发生器的第四组一个或多个操作循环期间重复所述控制所述第二射频发生器,

其中所述第三组在所述第二组之后,而所述第四组在所述第三组之后。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述多个反射参数值包括多个复电压和电流值。

8.根据权利要求1所述的方法,其中所述基于计算机的模型包括多个电路元件,其中所述多个电路元件中的两个相邻的电路元件通过连接而彼此耦合,并且其中所述基于计算机的模型具有与所述射频路径的阻抗基本上相同的阻抗。

9.根据权利要求1所述的方法,其中所述基于计算机的模型包括多个电路元件,其中所述多个电路元件中的两个相邻的电路元件通过连接而彼此耦合,并且其中所述多个电路元件代表所述射频路径的多个电路部件并且以与所述射频路径的多个电路部件连接的方式相同的方式连接。

10.根据权利要求1所述的方法,其中,所述射频路径包括:

将所述第二射频发生器与匹配网络的分支耦合的射频电缆,

所述分支,

将所述匹配网络与所述等离子体室耦合的射频传输线,以及

所述等离子体室的电极。

11.根据权利要求1所述的方法,其还包括通过将所述多个负载阻抗参数值应用于所述基于计算机的模型来确定匹配网络的电容,其中所述匹配网络耦合在所述第二射频发生器和所述等离子体室之间以及在所述第一射频发生器和所述等离子体室之间。

12.根据权利要求1所述的方法,其中,所述将所述多个负载阻抗参数值应用于所述基于计算机的模型包括:

经由所述基于计算机的模型从所述基于计算机的模型的输出反向传播所述多个负载阻抗参数值以促进计算在所述基于计算机的模型的所述输入处的第一多个反射参数输入值,其中当所述多个调频参数的量能用于所述基于计算机的模型时,确定所述第一多个反射参数输入值;

计算所述第一多个反射参数输入值的第一平均值;

经由所述基于计算机的模型从所述基于计算机的模型的所述输出反向传播所述多个负载阻抗参数值以促进计算在所述基于计算机的模型的所述输入处的第二多个反射参数输入值,其中当所述多个调频参数的所述值能用于所述基于计算机的模型时,确定所述第二多个反射参数输入值;

计算所述第二多个反射参数输入值的第二平均值;以及

确定所述第二平均值是否低于所述第一平均值。

13.根据权利要求1所述的方法,其中所接收的所述多个调频参数描述与所述第一射频发生器的所述一个或多个操作循环中的一个相关联的周期函数。

14.根据权利要求13所述的方法,其中,所述周期函数是梯形函数、正弦函数、脉冲函数和锯齿函数中的一者。

15.一种调谐方法,其包括:

在配方开发过程中,

针对第一射频发生器的成组的一个或多个操作循环,访问与第二射频发生器相关联的多个反射参数值;

通过将所述多个反射参数值应用于射频路径的至少一部分的基于计算机的模型,根据所述多个反射参数值来计算多个负载阻抗参数值,其中所述射频路径介于所述第二射频发生器和等离子体室的电极之间;

接收将由所述第二射频发生器产生的射频信号的多个调频参数;

通过将所述多个负载阻抗参数值应用于所述基于计算机的模型来确定所述多个调频参数的值,其中确定所述多个调频参数的值以最小化所述基于计算机的模型的输入处的一个或多个反射系数参数;

在另一等离子体室内处理衬底期间,

根据在所述配方开发期间确定的所述多个调频参数的所述值控制第三射频发生器,其中所述控制所述第三射频发生器在第四射频发生器的成组的一个或多个操作循环期间执行。

16.根据权利要求15所述的方法,其中在所述配方开发期间被最小化的所述一个或多个反射系数参数包括平均功率反射系数,并且其中所述多个反射参数值包括多个电压反射系数值。

17.根据权利要求15所述的方法,其中,所述第三射频发生器被指定为具有与所述第二射频发生器的操作频率相同的操作频率,并且所述第四射频发生器被指定为具有与所述第一射频发生器的操作频率相同的操作频率。

18.根据权利要求15所述的方法,其中所述第一射频发生器的所述成组的一个或多个操作循环包括所述第一射频发生器的两个或更多个操作循环,并且其中所述多个反射参数值中的每一个是在所述第一射频发生器的所述两个或更多个操作循环中确定的多个反射系数值的平均值。

19.根据权利要求15所述的方法,其中,所述多个反射参数值包括多个复电压和电流值。

20.根据权利要求15所述的方法,其中,所述多个调频参数定义梯形函数、或正弦函数、或矩形函数、或三角函数。

21.根据权利要求15所述的方法,其还包括通过将所述多个负载阻抗参数值应用于所述基于计算机的模型来确定匹配网络的电容,其中所述匹配网络耦合在所述第三射频发生器和所述另一等离子体室之间以及在所述第四射频发生器和所述另一等离子体室之间。

22.根据权利要求15所述的方法,其中,所述将所述多个负载阻抗参数值应用于所述基于计算机的模型包括:

经由所述基于计算机的模型从所述基于计算机的模型的输出反向传播所述多个负载阻抗参数值以计算在所述基于计算机的模型的所述输入处的第一多个反射参数输入值,其中当所述多个调频参数的量能用于所述基于计算机的模型时,确定所述第一多个反射参数输入值;

计算所述第一多个反射参数输入值的第一平均值;

经由所述基于计算机的模型从所述基于计算机的模型的所述输出反向传播所述多个负载阻抗参数值以计算在所述基于计算机的模型的所述输入处的第二多个反射参数输入值,其中当所述多个调频参数的所述值能用于所述基于计算机的模型时,确定所述第二多个反射参数输入值;

计算所述第二多个参数输入值的第二平均值;以及

确定所述第二平均值低于所述第一平均值。

23.一种调谐方法,其包括:

在配方开发过程中,

针对第一射频发生器的成组的一个或多个操作循环,访问与第二射频发生器相关联的多个反射参数值;

通过将所述多个反射参数值应用于射频路径的至少一部分的基于计算机的模型,根据所述多个反射参数值来计算多个负载阻抗参数值,所述射频路径介于所述第二射频发生器和等离子体室的电极之间;

接收将由所述第二射频发生器产生的射频信号的多个调频参数,其中,所述多个调频参数包括所述射频信号的频率变化;

通过将所述多个负载阻抗参数值应用于所述基于计算机的模型来确定所述多个调频参数的值,其中确定所述多个调频参数的值以最小化所述基于计算机的模型的输入处的一个或多个反射系数参数;

在另一等离子体室内处理衬底期间,

根据在所述配方开发期间确定的所述多个调频参数的所述值控制第三射频发生器,其中控制所述第三射频发生器包括将所述多个调频参数的所述值应用于所述第三射频发生器的基准操作频率上。

24.根据权利要求23所述的方法,其中,所述多个调频参数定义梯形函数、或正弦函数、或矩形函数、或三角函数。

25.根据权利要求23所述的方法,其中在所述配方开发期间被最小化的所述一个或多个反射系数参数包括平均功率反射系数,并且其中所述多个反射参数值包括多个电压反射系数值。

26.根据权利要求23所述的方法,其中所述基准频率用于最小化与所述第三射频发生器相关联的基于功率的参数。

27.一种调谐方法,包括:

在配方开发过程中,

针对第一射频发生器的成组的一个或多个操作循环,访问与第二射频发生器相关联的多个反射参数值,其中所述多个反射参数值中的每一个对应于所述第一射频发生器的所述一个或多个操作循环中的每一个的区间;

通过将所述多个反射参数值应用于射频路径的至少一部分的基于计算机的模型,根据所述多个反射参数值来计算多个负载阻抗参数值,其中所述射频路径介于所述第二射频发生器和等离子体室的电极之间;

通过将所述多个负载阻抗参数值应用于所述基于计算机的模型来确定多个调频参数的值,其中确定所述多个调频参数的所述值以使所述区间中的每个区间的所述基于计算机的模型的所述输入处的多个反射系数参数值最小化;

在另一等离子体室内处理衬底期间,

根据在所述配方开发期间确定的所述多个调频参数的所述值控制第三射频发生器,其中所述控制所述第三频率发生器在第四射频发生器的成组的一个或多个操作循环期间执行。

28.根据权利要求27所述的方法,其中,所述反射系数参数包括功率反射系数参数。

29.根据权利要求27所述的方法,其中所述第一射频发生器的所述成组的一个或多个操作循环包括所述第一射频发生器的两个或更多个操作循环,并且其中,所述多个反射参数值中的每一个是在所述第一射频发生器的所述两个或更多个操作循环中确定的多个反射系数值的平均值。

30.根据权利要求27所述的方法,其中,所述多个调频参数包括将由所述第三射频发生器输出的射频信号的平均频率和将由所述第三射频发生器输出的所述射频信号的频率变化,并且其中,所述频率变化是针对将由所述第四射频发生器产生的射频信号的每个区间。

31.根据权利要求27所述的方法,其中将所述多个负载阻抗参数值应用于所述基于计算机的模型以确定匹配网络的电容,并且其中所述匹配网络耦合在所述第三射频发生器和所述另一等离子体室之间以及在所述第四射频发生器和所述另一等离子体室之间。

32.根据权利要求27所述的方法,其中所述将所述多个负载阻抗参数值应用于所述基于计算机的模型包括:

经由所述基于计算机的模型从所述基于计算机的模型的输出反向传播所述多个负载阻抗参数值中的第一个以促进计算在所述基于计算机的模型的输入处的第一反射参数输入值,其中当所述多个调频参数的量能用于所述基于计算机的模型时,确定所述第一反射参数输入值;

经由所述基于计算机的模型从所述基于计算机的模型的输出反向传播所述多个负载阻抗参数值中的所述第一个以计算在所述基于计算机的模型的输入处的第二反射参数输入值,其中当所述多个调频参数所述值能用于所述基于计算机的模型时,确定所述第二反射参数输入值;

确定所述第二反射参数输入值是否低于所述第一反射参数输入值。


技术总结
描述了用于在千赫(kHz)RF发生器的操作循环内调谐兆赫射频(RF)发生器的系统和方法。在所述方法中的一种中,将预定的周期性波形提供给处理器。处理器使用基于计算机的模型来确定预定周期性波形的多个频率参数。频率参数被应用于兆赫RF发生器以在千赫RF发生器的一个或多个操作循环期间产生具有频率参数的RF信号。

技术研发人员:阿瑟·M·霍瓦尔德;约翰·C·小瓦尔科;
受保护的技术使用者:朗姆研究公司;
技术研发日:2020.05.06
技术公布日:2022.03.18
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