一种多晶硅块料清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种多晶硅技术领域，尤其涉及一种多晶硅块料清洗装置。


背景技术：

2.多晶硅在还原炉中完成制备后，需要经过拆炉、转运、破碎等工序，在处理过程中，硅料表面污染或混入非硅杂质，导致纯度下降，不能满足下游使用的质量需求，因此需要对多晶硅进行清洗，去除硅料表面的杂质。多晶硅块料根据表观质量可分为致密料、菜花料和珊瑚料等类型，菜花料和珊瑚料孔洞中存在的杂质在清洗时很难清洗干净。此外叠在一起的硅料，由于清洗不充分，清洗完毕之后，表面会存留一定量的清洗液。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于克服现有技术中多晶硅清洗存在的问题，提供了一种多晶硅块料的清洗装置。
4.本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的：
5.主要提供一种多晶硅块料清洗装置，所述清洗装置包括：
6.清洗平台；
7.依次设在所述清洗平台上的清洗池、漂洗池、超声波池、甩干槽和烘箱；所述清洗池、漂洗池、超声波池和甩干槽的底部均设有旋转台；以及
8.用于盛放多晶硅块料的载料装置，所述载料装置放置在所述旋转台上。
9.作为一选项，一种多晶硅块料清洗装置，所述清洗池包括依次连接的一级清洗池、二级清洗池和三级清洗池。
10.作为一选项，一种多晶硅块料清洗装置，所述三级清洗池中设有金属检测仪。
11.作为一选项，一种多晶硅块料清洗装置，所述载料装置为花篮。
12.作为一选项，一种多晶硅块料清洗装置，所述烘箱为内循环蒸汽加热箱。
13.作为一选项，一种多晶硅块料清洗装置，所述甩干槽中设有甩干桶。
14.作为一选项，一种多晶硅块料清洗装置，所述一级清洗池、二级清洗池和三级清洗池均为酸液池。
15.作为一选项，一种多晶硅块料清洗装置，所述旋转台和所述载料装置可拆卸连接，所述载料装置的底部设有固定槽，所述旋转台包括旋转底座，所述旋转底座上设有连接柱，所述连接柱与所述固定槽连接。
16.作为一选项，一种多晶硅块料清洗装置，所述旋转底座内部设有控制所述旋转台旋转的控制组件。
17.作为一选项，一种多晶硅块料清洗装置，所述旋转台上设有鼓氮按钮，所述鼓氮按钮与所述控制组件连接。
18.需要进一步说明的是，上述各选项对应的技术特征可以相互组合或替换构成新的技术方案。
19.与现有技术相比，本实用新型有益效果是：
20.(1)本实用新型通过设置旋转台配合清洗、漂洗以及甩干等过程，使得硅块料、硅料孔洞得到充分清洗，避免清洗剂残留，且能够清理块料孔洞中存在的杂质。
21.(2)使用多级清洗池配合漂洗池、超声波池和甩干槽，整个清洗过程连续性强，可实现多晶硅块料清洗的产业化。
22.(3)三级清洗池中设有金属检测仪，根据硅料清洗情况和清洗完硅料后清洗液金属杂质测定，当发现金属杂质超标时，将三级清洗池中的清洗液放入二级清洗池中，使得最后一级的清洗池中清洗液最优，保证清洗效果，也使清洗剂得到高效利用。
23.(4)烘箱为内循环蒸汽加热箱，避免烘干过程中杂质进入烘房。
24.(5)旋转台和所述载料装置可拆卸连接，载料装置通过固定槽与旋转台卡紧，使得旋转过程中载料装置不会倾斜或者掉落，防止多晶硅块料掉到清洗液中，带来麻烦。
25.(6)旋转台上设有鼓氮按钮，开启鼓氮按钮可向清洗池中吹入氮气，加快清洗液的流速，使得硅料、硅料孔洞得到充分清洗。
附图说明
26.图1为本实用新型一种多晶硅块料清洗装置的结构示意图；
27.图2为本实用新型清洗池的结构示意图；
28.图3为本实用新型带甩干桶的清洗装置的结构示意图；
29.图4为本实用新型载料装置的结构示意图；
30.图5为本实用新型旋转台的结构示意图。
31.图中标号说明：1、清洗平台；2、清洗池；3、漂洗池；4、超声波池；5、甩干槽；6、烘箱；7、旋转台；8、载料装置；9、多晶硅块料；21、一级清洗池；22、二级清洗池；23、三级清洗池；51、甩干桶；231、金属检测仪；81、固定槽；71、控制组件；72、控制组件；73、连接柱；74、旋转底座。
具体实施方式
32.下面结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
33.在本实用新型的描述中，需要说明的是，属于“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系为基于附图所述的方向或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，属于“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
34.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，属于“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术
语在本实用新型中的具体含义。
35.此外，下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
36.本实用新型主要通过设置旋转台配合多级清洗、漂洗以及甩干等过程，使得硅块料、硅料孔洞得到充分清洗，避免清洗剂残留，且能够清理块料孔洞中存在的杂质，同时，使用多级清洗池配合漂洗池、超声波池和甩干槽，整个清洗过程连续性强，可实现多晶硅块料清洗的产业化。
37.实施例1
38.在一示例性实施例中，如图1所示，提供一种多晶硅块料清洗装置，所述清洗装置包括：
39.清洗平台1；
40.依次设在所述清洗平台1上的清洗池2、漂洗池3、超声波池4、甩干槽5和烘箱6；所述清洗池2、漂洗池3、超声波池4和甩干槽5的底部均设有旋转台7；以及
41.用于盛放多晶硅块料9的载料装置8，所述载料装置8放置在所述旋转台7上。
42.具体地，将多晶硅块料9放入载料装置8，在实际中可使用机械臂或者其他手段将装满硅料的载料装置8放入清洗池2，开启旋转台7对多晶硅块料9进行清洗，清洗一段时间后，取出载料装置8放进漂洗池3中进行漂洗，漂洗一段时间后放入超声波池4中进行超声波清洗，最后通过甩干槽5进行甩干，并利用烘箱6进行烘干。
43.进一步地，使用时，通过机械臂或者其他能够避免人工操作受到清洗液腐蚀的手段，从外部将载料装置8放在旋转台7上，载料装置8与旋转台7可以是独立连接也可以是可拆卸连接。
44.在上述过程中，由于在清洗池2、漂洗池3、超声波池4和甩干槽5的底部均设有旋转台7，在相应的工序时，开启旋转台7，得硅块料、硅料孔洞得到充分清洗，避免清洗剂残留，且能够清理块料孔洞中存在的杂质。
45.实施例2
46.在实施例1的基础上，提供一种多晶硅块料清洗装置，如图1、2所示，所述清洗池2包括依次连接的一级清洗池21、二级清洗池22和三级清洗池23。
47.进一步地，一种多晶硅块料清洗装置，所述载料装置8为花篮。
48.具体地，将多晶硅块料9放入花篮，然后用机械臂将装满硅料的花篮放入一级清洗池21，开启转动台7，清洗2-5分钟，旋转台转速为35-45转/分钟；然后将装满硅料的花篮放入二级清洗池22，开启转动台，清洗4-10分钟，旋转台转速为40-50转/分钟；然后将装满硅料的花篮放入三级清洗池23，开启转动台7，清洗10-15分钟，旋转台转速为40-50转/分钟；然后将装满硅料的花篮放入漂洗池3，开启转动台7，清洗15-20分钟，旋转台转速为30-35转/分钟。
49.然后将装满硅料的花篮放入超声波池4，开启旋转台7，超声清洗10-20分钟，漂洗硅料表面的清洗液；然后将装满硅料的花篮放入甩干槽5，开启转动台7，旋转台转速为100转/分钟；然后将装满硅料的花篮放入烘房，进行烘干。
50.进一步地，使用多级清洗池配合漂洗池3、超声波池4和甩干槽5，整个清洗过程连续性强，可实现多晶硅块料清洗的产业化。
51.实施例3
52.在另一实施例中，提供一种多晶硅块料清洗装置，所述一级清洗池21、二级清洗池22和三级清洗池23均为同种清洗池，具体地，三个清洗池均为酸液池，当三级清洗池23中清洗液老化时排入二级清洗池22，二级清洗池22内清洗液再排入一级清洗池21，最后废酸从一级清洗池21排出。三道清洗池之间循环交替，保证最后一道清洗池内清洗液是最新、最优化的，保证硅料的清洗效果，同时也使清洗剂得到高效利用。
53.具体地，可在一级清洗池21和二级清洗池22之间，二级清洗池22和三级清洗池23之间设置管道，在管道上设置控制阀，控制阀保证清洗液只能从后级清洗池流向前级清洗池。
54.实施例4
55.在实施例2的基础上，提供一种多晶硅块料清洗装置，如图2所示，所述三级清洗池23中设有金属检测仪231。
56.具体地，二级清洗池22中清洗的块料表面存有清洗液斑时，将二级清洗池22中的清洗液放入一级清洗池21中；三级清洗池23中设有金属检测仪，根据硅料清洗情况和清洗完硅料后清洗液金属杂质测定，当发现金属杂质超标，如实际中，当三级清洗池23中清洗完硅料后清洗液金属杂质超过0.1ppm时，将三级清洗池23中的清洗液放入二级清洗池22中，使清洗剂得到高效利用，也能够对金属杂质的含量进行测定，对后续清洗过程进行指导。
57.实施例5
58.基于实施例1，提供一种多晶硅块料清洗装置，所述烘箱6为内循环蒸汽加热箱，避免烘干过程中杂质进入烘房。
59.进一步地，一种多晶硅块料清洗装置，如图3所示，所述甩干槽5中设有甩干桶51。
60.实施例6
61.在另一示例性实施例中，提供一种多晶硅块料清洗装置，如图4、5所示，所述旋转台7和所述载料装置8可拆卸连接，所述载料装置8的底部设有固定槽81，所述旋转台7包括旋转底座74，所述旋转底座74上设有连接柱73，所述连接柱73与所述固定槽81连接。
62.进一步地，一种多晶硅块料清洗装置，所述旋转底座74内部设有控制所述旋转台7旋转的控制组件71。
63.载料装置8通过固定槽81与旋转台7卡紧，使得旋转过程中载料装置8不会倾斜或者掉落，防止多晶硅块料9掉到清洗液中，带来麻烦。在其他实施例中，旋转台7可以只是一个旋转底座74，固定槽81直接卡在旋转底座74上。
64.进一步地，一种多晶硅块料清洗装置，所述旋转台7上设有鼓氮按钮72，所述鼓氮按钮72与所述控制组件71连接，开启鼓氮按钮72可向清洗池2、漂洗池3、超声波池4等中吹入氮气，加快清洗液的流速，使得硅料、硅料孔洞得到充分清洗。
65.以上具体实施方式是对本实用新型的详细说明，不能认定本实用新型的具体实施方式只局限于这些说明，对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演和替代，都应当视为属于本实用新型的保护范围。