基于异步电路的数模混合设计方法及工艺移植方法与流程

技术特征：
1.一种基于异步电路的数模混合设计方法，其特征在于，包括以下步骤：确定异步电路的设计指标；构建数字电路和模拟电路；根据所述数字电路和所述模拟电路构建待仿真混合电路；构建层次化文件；根据所述层次化文件对所述待仿真混合电路配置仿真环境，以及对所述待仿真混合电路进行功能仿真；根据所述仿真环境、所述设计指标和所述功能仿真的仿真结果对所述混合电路进行性能仿真；根据所述性能仿真的仿真结果确定目标模数混合电路。2.根据权利要求1所述的一种基于异步电路的数模混合设计方法，其特征在于，所述异步电路包括运算逻辑单元，所述运算逻辑单元的逻辑功能包括或、与、异或、非、左移、右移、加法和减法；所述设计指标包括功耗、延时和芯片面积。3.根据权利要求1所述的一种基于异步电路的数模混合设计方法，其特征在于，所述根据所述数字电路和所述模拟电路构建待仿真混合电路，包括：根据所述模拟电路确定所述待仿真混合电路的关键路径；根据所述数字电路确定所述待仿真混合电路的非关键路径；根据所述模拟电路和所述关键路径、以及所述数字电路和所述非关键路径构建待仿真混合电路。4.根据权利要求1所述的一种基于异步电路的数模混合设计方法，其特征在于，所述构建层次化文件，包括：构建与所述待仿真混合电路同名的第一电路图；将所述第一电路图对应的视图设置为所述层次化文件；将所述第一电路图对应的工具设置为层次编辑器；将待仿真混合电路中的模拟电路和数字电路的视图设置为原始视图类型；采用晶体管生成模拟电路的电路图，采用verilog hdl对数字电路做行为描述。5.根据权利要求1所述的一种基于异步电路的数模混合设计方法，其特征在于，所述根据所述层次化文件对所述待仿真混合电路配置仿真环境，包括：在库路径编辑器内添加连接库，根据所述层次化文件，确定所述待仿真混合电路的数字电路和模拟电路的接口电平。6.根据权利要求1所述的一种基于异步电路的数模混合设计方法，其特征在于，所述根据所述仿真环境、所述设计指标和所述功能仿真的仿真结果对所述混合电路进行性能仿真，包括：确定所述功能仿真的仿真结果均满足所述设计指标，根据所述仿真环境对所述混合电路进行性能仿真。7.一种基于异步电路的工艺移植方法，其特征在于，包括以下步骤：确定源工艺、目标工艺、源库和目标库，所述源库下包括权利要求1-6任一项所述的基于异步电路的数模混合设计方法得到的模数混合电路；确定所述源库和所述目标库的第一对应关系，以及确定所述源工艺与所述目标工艺的第二对应关系；
获取所述源工艺和所述目标工艺的器件移植参数；构建所述器件移植参数的第三对应关系；确定模数混合电路与移植电路的第四对应关系，所述第四对应关系包括所述源工艺的晶体管的原始视图类型与所述目标工艺的晶体管的原始视图类型的对应关系；确定所述源库下的模数混合电路已打开，控制启动移动功能并调用移植代码，在所述目标库中生成所述目标工艺下的电路。8.根据权利要求7所述的一种基于异步电路的工艺移植方法，其特征在于，所述源工艺下的模拟电路对应的晶体管所属电路工艺尺寸为180nm，所述目标工艺下的模拟电路对应的晶体管所属电路工艺尺寸为55nm。9.根据权利要求8所述的一种基于异步电路的工艺移植方法，其特征在于，所述器件移植参数包括晶体管重复数、晶体管的栅的个数、晶体管的长度和晶体管的宽度。10.根据权利要求7所述的一种基于异步电路的工艺移植方法，其特征在于，在所述确定源工艺、目标工艺、源库和目标库时，所述方法还包括：确定常用元件的共用库。

技术总结
本发明公开了一种基于异步电路的数模混合设计方法及工艺移植方法，可应用于电路设计技术领域。本发明的数模混合设计方法，包括以下步骤：确定异步电路的设计指标；构建数字电路和模拟电路；根据所述数字电路和所述模拟电路构建待仿真混合电路；构建层次化文件；根据所述层次化文件对所述待仿真混合电路配置仿真环境，以及对所述待仿真混合电路进行功能仿真；根据所述仿真环境、所述设计指标和所述功能仿真的仿真结果对所述混合电路进行性能仿真；根据所述性能仿真的仿真结果确定目标模数混合电路。本发明无需设计师另外花费过多的时间学习异步电路的设计过程，即能快速完成异步电路的模数混合电路的设计，以有效降低电路设计难度。计难度。计难度。


技术研发人员：马勇 杨文吒 虞志益 颜家杰 张强 周才屯 赵天聪 解光慈
受保护的技术使用者：中山大学
技术研发日：2021.11.16
技术公布日：2022/3/15