显示装置以及制造该显示装置的方法与流程

显示装置以及制造该显示装置的方法
1.相关申请的交叉引用
2.本技术要求2020年9月14日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2020-0117773号的优先权，该韩国专利申请的公开内容通过引用整体合并于此。
技术领域
3.本发明构思的一个或多个实施例涉及显示装置以及制造该显示装置的方法，并且更具体地，涉及其中显示区域增大以便在作为电子元件的部件被设置在其中的区域中显示图像的显示装置以及制造该显示装置的方法。


背景技术：

4.近年来，显示装置的用途已经多样化。例如，显示装置变得更薄和更轻，并且因此，扩大了显示装置的使用。
5.由于显示装置用于各种目的，因此可存在设计显示装置的形状的各种方法，并且增加了可链接到显示装置或与显示装置相关联的功能。


技术实现要素：

6.本发明构思的一个或多个实施例包括其中显示区域增大以便在作为电子元件的部件被设置在其中的区域中显示图像的显示装置以及制造该显示装置的方法。然而，这些目的是示例，并且不限制本发明构思的范围。
7.附加方面部分地将在下面的描述中阐述并且部分地将根据描述是明显的，或者可以通过本发明构思的实施例的实践来领会。
8.根据本发明构思的实施例，显示装置包括基板，基板包括主显示区域和部件区域。部件区域包括辅助显示区域和透射区域。主显示元件被布置在主显示区域中。辅助显示元件被布置在部件区域中。薄膜封装层覆盖主显示元件和辅助显示元件。光学功能层被布置在薄膜封装层上，并且包括偏振层。偏振层包括布置在透射区域中的第一部分以及布置在主显示区域和辅助显示区域中的第二部分。
9.第一部分可以被脱色。
10.第一部分和第二部分各自可以包括碘，并且包括在第一部分中的碘的含量可以小于包括在第二部分中的碘的含量。
11.第一部分和第二部分各自可以进一步包括硼，并且包括在第一部分中的硼的含量可以小于包括在第二部分中的硼的含量。
12.第一部分的透光率可以大于第二部分的透光率。
13.光学功能层可以进一步包括设置在偏振层下方的保护层。
14.光学功能层可以进一步包括设置在偏振层上方的保护膜。
15.显示装置可以进一步包括设置在部件区域中并且具有与透射区域相对应的第一孔的底部金属层。
16.根据本发明构思的实施例，显示装置包括基板，基板包括主显示区域和部件区域。部件区域包括透射区域。薄膜封装层覆盖主显示区域和部件区域。光学功能层被布置在薄膜封装层上，并且包括偏振层。偏振层包括布置在透射区域中的第一部分以及布置在主显示区域中的第二部分。
17.根据本发明构思的实施例，制造显示装置的方法包括：在包括主显示区域和部件区域的基板上形成薄膜封装层，部件区域包括辅助显示区域和透射区域；在薄膜封装层上形成偏振材料层；在偏振材料层上形成光刻胶层；使光刻胶层的局部曝光；通过使用显影液对光刻胶层进行显影并通过对偏振材料层进行脱色，形成具有布置在透射区域中的第一部分以及布置在主显示区域和辅助显示区域中的第二部分的偏振层；以及将酸溶液施加到偏振层上。
18.显影液可以包括碱性材料。
19.第一部分可以通过显影液被脱色。
20.第一部分和第二部分各自可以包括碘，并且包括在第一部分中的碘的含量可以小于包括在第二部分中的碘的含量。
21.第一部分和第二部分各自可以进一步包括硼，并且包括在第一部分中的硼的含量可以小于包括在第二部分中的硼的含量。
22.第一部分的透光率可以大于第二部分的透光率。
23.将酸溶液施加到偏振层上可以包括中和偏振层。
24.根据本发明构思的实施例，制造显示装置的方法包括：在包括主显示区域和部件区域的基板上形成薄膜封装层，部件区域包括辅助显示区域和透射区域；在薄膜封装层上形成偏振材料层和保护膜；通过使用激光束移除保护膜的至少局部，以在保护膜中形成开口；通过将碱性溶液施加在被开口暴露的偏振材料层上，形成包括布置在透射区域中的第一部分以及布置在主显示区域和辅助显示区域中的第二部分的偏振层；以及将酸溶液施加在偏振层上。
25.第一部分可以通过碱性溶液被脱色。
26.第一部分和第二部分各自可以包括碘，并且包括在第一部分中的碘的含量可以小于包括在第二部分中的碘的含量。
27.移除保护膜的至少部分可以包括移除保护膜的至少部分，该至少部分对应于透射区域。
28.根据本发明构思的实施例，制造显示装置的方法包括：在包括主显示区域和部件区域的基板上形成薄膜封装层，部件区域包括透射区域；在薄膜封装层上形成偏振材料层；在偏振材料层上形成光刻胶层；使光刻胶层的局部曝光；通过使用显影液对光刻胶层进行显影并通过对偏振材料层进行脱色，形成包括布置在透射区域中的第一部分以及布置在主显示区域中的第二部分的偏振层；以及将酸溶液施加到偏振层上。
29.根据本发明构思的实施例，显示装置包括基板，基板包括主显示区域和部件区域。部件区域包括透射区域。光学功能层包括布置在显示元件上的偏振层，显示元件被布置在主显示区域中。偏振层在主显示区域和部件区域中连续地延伸。偏振层包括被脱色的第一部分。第一部分被布置在透射区域中。
附图说明
30.根据下面结合附图进行的描述，本发明构思的特定实施例的上述及其他方面、特征和优点将更明显，在附图中：
31.图1a和图1b是根据本发明构思的实施例的显示装置的透视图；
32.图2是根据本发明构思的实施例的显示装置的一部分的截面图；
33.图3是根据本发明构思的实施例的显示装置的平面图；
34.图4和图5是根据本发明构思的实施例的驱动子像素的像素电路的等效电路图；
35.图6是根据本发明构思的实施例的主显示区域中的像素排列结构的平面图；
36.图7和图8是根据本发明构思的实施例的部件区域中的像素排列结构的平面图；
37.图9是根据本发明构思的实施例的显示装置的一部分的截面图，该部分对应于主显示区域和部件区域；
38.图10至图12是根据本发明构思的实施例的显示装置的一部分的截面图；
39.图13是根据本发明构思的实施例的显示装置的一部分的截面图；
40.图14是根据本发明构思的实施例的图13的区域a的放大图；
41.图15是根据本发明构思的实施例的图13的区域a的放大图；
42.图16是根据本发明构思的实施例的显示装置的平面图；
43.图17至图23是图示根据本发明构思的实施例的制造显示装置的方法的截面图；并且
44.图24至图27是图示根据本发明构思的实施例的制造显示装置的方法的截面图。
具体实施方式
45.现在将详细参考实施例，这些实施例的示例被图示在附图中，其中相同的附图标记始终指代相同的元件。就此而言，本实施例可以具有不同的形式并且不应理解为限于本文中陈述的描述。因此，下面仅通过参考附图描述实施例，以解释本发明构思的方面。如本文中使用的，术语“和/或”包括所关联列出的项目中的一个或多个的任意和全部组合。在整个公开中，表述“a、b和c中的至少一个”表示仅a、仅b、仅c、a和b两者、a和c两者、b和c两者、a、b和c中的全部或它们的变体。
46.尽管本发明构思能进行各种修改并且具有可替代形式，不过本发明构思的实施例在附图中以示例的方式被示出，并且将在本文中被详细描述。通过参考附图以及下面详细描述的实施例，本发明构思的效果和特性及其实现方法将变得明显。然而，本发明构思不限于下文中公开的实施例，并且可以以各种形式来实现。
47.将理解，虽然本文可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种部件，但这些部件不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个部件与另一部件区分开。
48.如本文中使用的，单数表述“一”和“该(所述)”旨在也包括复数形式，除非上下文另外清楚地指示。
49.将进一步理解，本文中使用的术语“包括”和/或“包含”指定存在所陈述的特征或部件，但不排除一个或多个其他特征或部件的存在或附加。
50.将理解，当层、区域或元件被称为形成在另一层、另一区域或另一元件“上”时，其可以直接或间接形成在该另一层、另一区域或另一元件上。也就是说，例如，可以存在居间
层、区域或元件。当层、区域或元件被称为“直接”形成在另一层、区域或元件上时，可以不存在居间层、区域或元件。
51.为便于说明，可以夸大附图中的元件的尺寸。例如，为便于说明，附图中的元件的尺寸和厚度被随机标示，并且因此，本发明构思不必限于附图的图示。
52.在本说明书中，表述“a和/或b”可以指示a、b、或者a和b。此外，在该说明书中，表述“a和b中的至少一个”可以指示a、b、或者a和b。
53.在下文描述的实施例中，“在第一方向或第二方向上延伸的线”不仅表示以线形形状延伸的线，而且还表示以之字形形状、圆形形状等在第一方向或第二方向上延伸的线。
54.在下文的实施例中，表述“平面”指示当向下观察物体时的形状，并且表述“截面”指示当从侧向视角观察垂直截取的物体时的形状。在下面的实施例中，当部件被称为“重叠”时，该部件可以是“平面”或“截面”重叠。
55.在下文中，将参考附图详细描述本发明构思的实施例。此外，当通过参考附图给出描述时，将通过使用相同的附图标记指代相同的元件或对应的元件。
56.图1a和图1b是根据本发明构思的实施例的显示装置1的示意性透视图。
57.参考图1a的实施例，显示装置1可以包括显示区域da以及显示区域da外部的外围区域dpa。显示区域da可以包括部件区域ca以及(例如，在x和/或y方向上)至少部分地围绕部件区域ca的主显示区域mda。部件区域ca和主显示区域mda中的每个可以单独或一起显示图像。外围区域dpa可以是其中未设置显示元件并且其上不产生图像的非显示区域。如图1a的实施例中所示，显示区域da可以完全被外围区域dpa围绕。
58.图1a图示了一个部件区域ca位于主显示区域mda中。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，在实施例中，显示装置1可以包括两个或更多个部件区域ca。在实施例中，两个或更多个部件区域ca可以具有彼此不同的形状和尺寸。当从与显示装置1的上表面近似垂直的方向观察部件区域ca时(例如，在x和y方向上限定的平面中)，部件区域ca可以具有各种形状，诸如包括星形形状、菱形形状、四边形形状等的多边形形状、圆形形状、椭圆形形状等。然而，本发明构思的实施例并不限于此。此外，图1a的实施例图示了当从与显示装置1的上表面近似垂直的方向观察时(例如，在x和y方向上限定的平面中)，部件区域ca被设置在主显示区域mda的上中心处(例如，在 y方向上)，并且主显示区域mda具有基本四边形形状。然而，本发明构思的实施例并不限于此，并且部件区域ca可以被设置在具有四边形形状的主显示区域mda的一侧，诸如右上侧、左上侧等。
59.显示装置1可以通过使用设置在主显示区域mda中的多个主子像素pm和设置在部件区域ca中的多个辅助子像素pa来提供图像。
60.如下面参考图2的实施例所描述的，部件40是可以设置在部件区域ca中、显示面板下方的电子元件。在实施例中，部件40可以是使用红外线或可见光线的相机，并且可以包括捕获装置。在实施例中，部件40可以包括太阳能电池、闪光装置、照度传感器、接近传感器、虹膜传感器等。在实施例中，部件40可以具有用于接收声音的功能。为了防止或限制部件40的功能受到限制，部件区域ca可以包括透射区域ta，光和/或声音可以穿过透射区域ta。光和/或声音可以从部件40输出到外部，或者可以从外部传播到部件40。在根据实施例的显示面板和包括显示面板的显示装置的情况下，当光透过部件区域ca时，透光率(例如，包含可见光、紫外光和/或红外光的光谱的透射率)可以是大约10％或更大。例如，在实施例中，透
过部件区域ca的透光率可以是大约40％或更大、大约25％或更大、大约50％或更大、大约85％或更大、或大约90％或更大。
61.如图1a的实施例中所示，多个辅助子像素pa可以被设置在部件区域ca中。多个辅助子像素pa可以发光以产生图像。显示在部件区域ca中的图像可以对应于辅助图像，辅助图像可以具有比显示在主显示区域mda中的图像低的分辨率。例如，当部件区域ca包括光和/或声音可以透过的透射区域ta，并且在透射区域ta中未设置子像素时，部件区域ca中的每单位面积设置的辅助子像素pa的数量可以小于主显示区域mda中的每单位面积设置的主子像素pm的数量。
62.如图1b的实施例中所示，在部件区域ca中可以不布置辅助子像素pa。在辅助子像素pa未布置在部件区域ca中的实施例中，透射区域ta可以增大，并且因此，部件区域ca可以具有增大的透光率。
63.图2是根据本发明构思的实施例的显示装置1的一部分的示意性截面图。
64.参考图2的实施例，显示装置1可以包括显示面板10以及被布置成与显示面板10重叠的部件40。显示装置1可以包括布置在显示面板10上方的覆盖窗50。
65.显示面板10可以包括部件区域ca和主显示区域mda，部件区域ca是与部件40基本重叠(例如，在z方向上重叠)的区域，主图像显示在主显示区域mda中。显示面板10可以包括基板100、在基板100上的显示层disl、触摸屏层tsl、光学功能层ofl以及布置在基板100下方的面板保护构件pb。
66.显示层disl可以包括电路层pcl、显示元件层edl以及诸如薄膜封装层tfel或封装基板的封装构件encm，电路层pcl包括主薄膜晶体管tft和辅助薄膜晶体管tft'，显示元件层edl包括作为显示元件的主有机发光二极管oled和辅助有机发光二极管oled'。诸如无机绝缘层il和il'的绝缘层可以分别被设置在显示层disl中以及基板100与显示层disl之间。
67.在实施例中，基板100可以包括绝缘材料，诸如选自玻璃、石英和聚合物树脂中的至少一种材料。基板100可以包括刚性基板或可以弯曲、折叠或卷曲的柔性基板。
68.主薄膜晶体管tft以及与其连接的主有机发光二极管oled可以被设置在显示面板10的主显示区域mda中，以形成主子像素pm。辅助薄膜晶体管tft'以及与其连接的辅助有机发光二极管oled'可以被布置在显示面板10的部件区域ca中，以形成辅助子像素pa。例如，部件区域ca中的、辅助子像素pa被布置在其中的区域可以被称为辅助显示区域ada。在辅助子像素pa未被布置在部件区域ca中的实施例中，部件区域ca可以不包括辅助显示区域ada。
69.例如，部件区域ca可以包括透射区域ta，透射区域ta不包括布置在其上的显示元件。透射区域ta可以是从布置在部件区域ca中的部件40发射或入射到部件40上的光/信号可以穿过的区域。辅助显示区域ada和透射区域ta可以交替地设置在部件区域ca中。例如，如图2的实施例中所示，辅助显示区域ada和透射区域ta可以在x方向上被设置。在显示元件未被设置在部件区域ca中的实施例中，部件区域ca可以仅包括透射区域ta。
70.底部金属层bml可以被布置在部件区域ca中。底部金属层bml可以被设置成与辅助薄膜晶体管tft'的下部分重叠(例如，在z方向上)。例如，底部金属层bml可以被布置在辅助薄膜晶体管tft'与基板100之间(例如，在z方向上)。底部金属层bml可以阻挡外部光到达辅助薄膜晶体管tft'。在一些实施例中，恒定电压或信号可以被施加到底部金属层bml，以防止由于静电放电而损坏像素电路。在实施例中，部件区域ca可以包括设置在其中的多个底
部金属层bml。此外，在实施例中，不同的电压可以被施加到底部金属层bml，以防止由于静电放电而损坏像素电路。然而，在实施例中，部件区域ca可以仅包括一个底部金属层bml，底部金属层bml包括布置在透射区域ta中的孔。
71.显示元件层edl可以被薄膜封装层tfel或封装基板覆盖。在一些实施例中，薄膜封装层tfel可以包括至少一个无机层以及至少一个有机层。例如，如图2的实施例中所示，薄膜封装层tfel可以包括第一无机层131、第二无机层133以及在第一无机层131与第二无机层133之间的有机层132。
72.在实施例中，第一无机层131和第二无机层133可以包括氧化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铪、氧化锌、氧化硅、氮化硅和氧氮化硅当中的一种或多种无机绝缘材料。有机层132可以包括聚合物类材料。聚合物类材料可以包括丙烯酸类树脂、环氧类树脂、聚酰亚胺、聚乙烯等。
73.在显示元件层edl被封装基板封装的实施例中，封装基板可以被设置成面对基板100，其中显示元件层edl被布置在封装基板与基板100之间(例如，在z方向上)。封装基板与显示元件层edl之间可以具有间隙。封装基板可以包括玻璃。包括玻璃料等的密封剂可以被布置在基板100与封装基板之间，并且密封剂可以被设置在上述外围区域dpa中。布置在外围区域dpa中的密封剂可以围绕显示区域da，并且防止水渗过显示区域da的侧表面。
74.触摸屏层tsl可以基于诸如触摸事件等的外部输入获取坐标信息。在实施例中，触摸屏层tsl可以包括触摸电极以及连接到触摸电极的触摸线。触摸屏层tsl可以基于磁电容法或互电容法感测外部输入。
75.在实施例中，触摸屏层tsl可以形成在薄膜封装层tfel上。在另一实施例中，触摸屏层tsl可以单独形成在触摸基板上，并且然后可以通过粘合层(诸如光学透明粘合剂(oca))联接到薄膜封装层tfel上。例如，触摸屏层tsl可以直接形成在薄膜封装层tfel上方，并且在此情况下，在触摸屏层tsl与薄膜封装层tfel之间可以不设置粘合层。
76.光学功能层ofl可以包括反射预防层。反射预防层可以降低从外部朝向显示装置1入射的光(例如，外部光)的反射率。
77.在比较实施例中，开口可以形成在光学功能层ofl中，以增大透射区域ta的透光率。然而，光学功能层ofl可以通过诸如oca的粘合剂联接到覆盖窗50或触摸屏层tsl上。因此，当光学功能层ofl的开口的内部未完全填充oca时，可能产生气泡并且因此影响可视性。
78.根据本发明构思的实施例，光学功能层ofl可以不包括开口。光学功能层ofl的被布置在透射区域ta中的局部可以被脱色。因此，在透射区域ta的透光率可以由于光学功能层ofl的布置在透射区域ta中的脱色部分而增大的同时，也可以防止由于气泡等引起的缺陷。
79.覆盖窗50可以被布置在显示面板10上方，以保护显示面板10。
80.光学功能层ofl可以通过oca联接到覆盖窗50或触摸屏层tsl上。oca可以被施加到光学功能层ofl的上部分和下部分。可替代地，oca可以不被施加到光学功能层ofl的上部分和下部分中的任一个。
81.面板保护构件pb可以联接在基板100下方，以支撑和保护基板100。面板保护构件pb可以包括位于部件区域ca中的开口pb_op。当面板保护构件pb包括开口pb_op时，部件区域ca的透光率可以增大。在实施例中，面板保护构件pb可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯或
聚酰亚胺。
82.部件区域ca的面积可以大于部件40的面积。因此，提供在面板保护构件pb中的开口pb_op的面积可以不对应于部件区域ca的面积。例如，如图2的实施例中所示，提供在面板保护构件pb中的开口pb_op的面积可以小于部件区域ca的面积。
83.尽管图2的实施例示出了布置在部件区域ca中的单个部件40，但多个部件40可以被布置在部件区域ca中。多个部件40可以具有彼此不同的功能。例如，多个部件40可以包括相机(例如，成像装置)、太阳能电池、闪光装置、接近传感器、照度传感器和虹膜传感器中的至少两个。
84.图3是根据本发明构思的实施例的显示装置1的平面图。
85.参考图3的实施例，包含在显示装置1中的各种部件可以被布置在基板100上方。基板100可以包括显示区域da以及围绕显示区域da的外围区域dpa。显示区域da可以包括显示主图像的主显示区域mda以及显示辅助图像的部件区域ca。部件区域ca包括不显示辅助图像的透射区域ta。辅助图像可以形成主图像的一部分，或者可以是独立于主图像的图像。
86.多个主子像素pm可以被设置在主显示区域mda中。主子像素pm中的每个可以包括诸如主有机发光二极管oled(参见图2)的显示元件。在实施例中，每个主子像素pm可以发射例如红光、绿光、蓝光或白光。然而，本发明构思的实施例并不限于此，并且主子像素pm可以发射具有各种不同的颜色的光。主显示区域mda可以被封装构件覆盖，并且可以被保护免受外部空气、水分等的影响。
87.如上所述，部件区域ca可以位于主显示区域mda的一侧，或者可以被设置在显示区域da中并且被主显示区域mda围绕。
88.例如，多个辅助子像素pa可以被设置在部件区域ca中。辅助子像素pa中的每个可以包括诸如辅助有机发光二极管oled'(参见图2)的显示元件。每个辅助子像素pa可以发射例如红光、绿光、蓝光或白光。然而，本发明构思的实施例并不限于此，并且辅助子像素pa可以发射具有各种不同的颜色的光。部件区域ca可以被封装构件覆盖，并且可以被保护免受外部空气、水分等的影响。在另一实施例中，辅助子像素pa可以不被布置在部件区域ca中。在辅助子像素pa未被布置在部件区域ca中的实施例中，部件区域ca的透光率可以增大。
89.部件区域ca可以具有透射区域ta。透射区域ta可以被设置成围绕多个辅助子像素pa。在另一实施例中，透射区域ta可以被设置成相对于多个辅助子像素pa具有格子形状。
90.由于部件区域ca具有不包括辅助子像素pa的透射区域ta，因此部件区域ca的分辨率可以低于主显示区域mda的分辨率。例如，在实施例中，部件区域ca的分辨率可以是主显示区域mda的分辨率的大约1/2、3/8、1/3、1/4、2/9、1/8、1/9、1/16等。例如，主显示区域mda的分辨率可以是大约400ppi或更高，并且部件区域ca的分辨率可以是大约200ppi或大约100ppi。然而，本发明构思的实施例并不限于此。
91.驱动主子像素pm和辅助子像素pa的像素电路中的每个可以电连接到设置在外围区域dpa中的外部电路。第一扫描驱动电路sdrv1、第二扫描驱动电路sdrv2、端子部分pad、驱动电压供给线11和公共电压供给线13可以被设置在外围区域dpa中。
92.第一扫描驱动电路sdrv1可以被配置为通过扫描线sl将扫描信号施加到驱动主子像素pm和辅助子像素pa的像素电路中的每个。第一扫描驱动电路sdrv1可以被配置为通过发射控制线el将发射控制信号施加到像素电路中的每个。如图3的实施例中所示，第二扫描
驱动电路sdrv2可以位于基于主显示区域mda与第一扫描驱动电路sdrv1相对的侧，并且可以与第一扫描驱动电路sdrv1近似平行。主显示区域mda的主子像素pm的像素电路中的一个或多个可以电连接到第一扫描驱动电路sdrv1，并且主子像素pm的剩余像素电路可以电连接到第二扫描驱动电路sdrv2。部件区域ca的辅助子像素pa的像素电路中的一个或多个可以电连接到第一扫描驱动电路sdrv1，并且辅助子像素pa的剩余像素电路可以电连接到第二扫描驱动电路sdrv2。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，在实施例中，第二扫描驱动电路sdrv2可以被省略。
93.端子部分pad可以被布置在基板100的一侧。例如，在图3中所示的实施例中，端子部分pad被布置在基板100的下端(例如，在-y方向上)。端子部分pad可以不被绝缘层覆盖并且可以被暴露，并且可以连接到显示电路板30。显示驱动器32可以被布置在显示电路板30上。显示驱动器32可以被配置为产生要传输到第一扫描驱动电路sdrv1和第二扫描驱动电路sdrv2的控制信号。此外，显示驱动器32可以将驱动电压elvdd(参见图4)供给到驱动电压供给线11，并且将公共电压elvss(参见图4)供给到公共电压供给线13。驱动电压elvdd可以通过连接到驱动电压供给线11的驱动电压线pl被施加到主子像素pm和辅助子像素pa的像素电路，并且公共电压elvss可以被施加到公共电压供给线13并因此被施加到显示元件的对电极。显示驱动器32可以被配置为产生数据信号，并且所产生的数据信号可以通过扇出布线fw以及连接到扇出布线fw的数据线dl被传输到主子像素pm和辅助子像素pa的像素电路。
94.如图3的实施例中所示，驱动电压供给线11可以在主显示区域mda下方在x方向上纵向延伸。公共电压供给线13可以具有包含敞开侧的环形形状，并且可以部分地围绕主显示区域mda。例如，敞开侧可以是主显示区域mda的下表面(例如，在-y方向上)。
95.图4和图5是根据本发明构思的实施例的驱动子像素的像素电路pc的等效电路图。
96.参考图4的实施例，像素电路pc可以连接到有机发光二极管oled，以实现子像素的发光。如图4的实施例中所示，像素电路pc可以包括驱动薄膜晶体管t1、开关薄膜晶体管t2和存储电容器cst。开关薄膜晶体管t2可以连接到扫描线sl和数据线dl，并且可以被配置为响应于通过扫描线sl提供的扫描信号sn将通过数据线dl提供的数据信号dm传输到驱动薄膜晶体管t1。
97.存储电容器cst可以连接到开关薄膜晶体管t2和驱动电压线pl，并且可以被配置为存储与从开关薄膜晶体管t2接收的电压与供给到驱动电压线pl的驱动电压elvdd之间的差相对应的电压。
98.驱动薄膜晶体管t1可以连接到驱动电压线pl和存储电容器cst。驱动薄膜晶体管t1也可以被配置为对应于存储在存储电容器cst中的电压的值而控制从驱动电压线pl流过有机发光二极管oled的驱动电流。有机发光二极管oled可以根据驱动电流的水平发射具有特定亮度的光。
99.关于图4描述了像素电路pc包括两个薄膜晶体管和一个存储电容器。然而，本发明构思的实施例并不限于此。此外，尽管图4的实施例包括单栅电极，但在其他实施例中，驱动薄膜晶体管t1和开关薄膜晶体管t2可以包括双栅电极等。
100.参考图5的实施例，像素电路pc可以包括驱动薄膜晶体管t1、开关薄膜晶体管t2、补偿薄膜晶体管t3、第一初始化薄膜晶体管t4、操作控制薄膜晶体管t5、发射控制薄膜晶体
管t6和第二初始化薄膜晶体管t7。
101.图5图示了其中每个像素电路pc包括信号线sl、sl-1、sl 1、el和dl、初始化电压线vl以及驱动电压线pl的实施例。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，在另一实施例中，信号线sl、sl-1、sl 1、el和dl中的至少一条和/或初始化电压线vl可以由相邻像素电路共享。
102.驱动薄膜晶体管t1的漏电极可以通过发射控制薄膜晶体管t6电连接到有机发光二极管oled。驱动薄膜晶体管t1可以被配置为根据开关薄膜晶体管t2的开关操作接收数据信号dm，并且将驱动电流供给到有机发光二极管oled。
103.开关薄膜晶体管t2的栅电极可以连接到扫描线sl，并且开关薄膜晶体管t2的源电极可以连接到数据线dl。开关薄膜晶体管t2的漏电极可以连接到驱动薄膜晶体管t1的源电极，并且可以通过操作控制薄膜晶体管t5连接到驱动电压线pl。
104.开关薄膜晶体管t2可以响应于通过扫描线sl传输的扫描信号sn而被导通，并且可以被配置为执行将通过数据线dl传输的数据信号dm传输到驱动薄膜晶体管t1的源电极的开关操作。
105.补偿薄膜晶体管t3的栅电极可以连接到扫描线sl。补偿薄膜晶体管t3的源电极可以连接到驱动薄膜晶体管t1的漏电极，并且可以通过发射控制薄膜晶体管t6连接到有机发光二极管oled的像素电极。补偿薄膜晶体管t3的漏电极可以连接到存储电容器cst的一个电极、第一初始化薄膜晶体管t4的源电极和驱动薄膜晶体管t1的栅电极。补偿薄膜晶体管t3可以响应于通过扫描线sl传输的扫描信号sn而被导通，并且可以被配置为将驱动薄膜晶体管t1的栅电极与驱动薄膜晶体管t1的漏电极连接，以二极管连接驱动薄膜晶体管t1。
106.第一初始化薄膜晶体管t4的栅电极可以连接到前一扫描线sl-1。第一初始化薄膜晶体管t4的漏电极可以连接到初始化电压线vl。第一初始化薄膜晶体管t4的源电极可以连接到存储电容器cst的一个电极、补偿薄膜晶体管t3的漏电极和驱动薄膜晶体管t1的栅电极。第一初始化薄膜晶体管t4可以响应于通过前一扫描线sl-1接收的前一扫描信号sn-1而被导通，并且可以被配置为通过将初始化电压vint发送到驱动薄膜晶体管t1的栅电极来执行初始化驱动薄膜晶体管t1的栅电极的电压的初始化操作。
107.操作控制薄膜晶体管t5的栅电极可以连接到发射控制线el。操作控制薄膜晶体管t5的源电极可以连接到驱动电压线pl。操作控制薄膜晶体管t5的漏电极可以连接到驱动薄膜晶体管t1的源电极和开关薄膜晶体管t2的漏电极。
108.发射控制薄膜晶体管t6的栅电极可以连接到发射控制线el。发射控制薄膜晶体管t6的源电极可以连接到驱动薄膜晶体管t1的漏电极和补偿薄膜晶体管t3的源电极。发射控制薄膜晶体管t6的漏电极可以电连接到有机发光二极管oled的像素电极。操作控制薄膜晶体管t5和发射控制薄膜晶体管t6可以响应于通过发射控制线el接收的发射控制信号en而被同时导通，使得驱动电压elvdd可以被传输到有机发光二极管oled，并且驱动电流可以在有机发光二极管oled中流动。
109.第二初始化薄膜晶体管t7的栅电极可以连接到下一扫描线sl 1。第二初始化薄膜晶体管t7的源电极可以连接到有机发光二极管oled的像素电极。第二初始化薄膜晶体管t7的漏电极可以连接到初始化电压线vl。第二初始化薄膜晶体管t7可以响应于通过下一扫描线sl 1接收的下一扫描信号sn 1而被导通，并且可以被配置为初始化有机发光二极管oled
的像素电极。
110.图5图示了其中第一初始化薄膜晶体管t4和第二初始化薄膜晶体管t7分别连接到前一扫描线sl-1和下一扫描线sl 1的实施例。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，在实施例中，第一初始化薄膜晶体管t4和第二初始化薄膜晶体管t7中的两者都可以连接到前一扫描线sl-1并根据前一扫描信号sn-1被驱动。
111.存储电容器cst的另一电极可以连接到驱动电压线pl。存储电容器cst的一个电极可以连接到驱动薄膜晶体管t1的栅电极、补偿薄膜晶体管t3的漏电极和第一初始化薄膜晶体管t4的源电极。
112.有机发光二极管oled的对电极(例如，阴极)可以接收公共电压elvss。有机发光二极管oled可以通过接收来自驱动薄膜晶体管t1的驱动电流来发光。
113.像素电路pc不限于上面参考图4和图5的实施例描述的薄膜晶体管和存储电容器的数量和电路设计，并且可以进行各种修改。例如，在一些实施例中，晶体管中的至少一个可以不包括单栅电极，并且可以包括双栅电极等。
114.驱动主子像素pm和辅助子像素pa的像素电路pc可以彼此相同或不同。例如，驱动主子像素pm的像素电路pc和驱动辅助子像素pa的像素电路pc可以对应于图5的实施例中所示的像素电路pc。在实施例中，驱动主子像素pm的像素电路pc可以被实现为图4的实施例中所示的像素电路pc，并且驱动辅助子像素pa的像素电路pc可以被实现为图5的实施例中所示的像素电路pc。
115.图6是根据本发明构思的实施例的主显示区域mda中的像素排列结构的示意性平面图。
116.多个主子像素pm可以被设置在主显示区域mda中。在本说明书中，子像素表示用于实现图像的最小单位，其对应于发射区域。当有机发光二极管被实现为显示元件时，发射区域可以由像素限定层的开口限定。下面将描述该方面。
117.如图6的实施例中所示，设置在主显示区域mda中的主子像素pm可以被设置成蜂窝状(pentile)结构。主子像素pm可以包括第一子像素pr、第二子像素pg和第三子像素pb，并且第一子像素pr、第二子像素pg和第三子像素pb分别可以提供红光、绿光和蓝光。
118.多个第一子像素pr和多个第三子像素pb可以(例如，在x方向上)被交替设置在第一行1n中，多个第二子像素pg可以被设置在(例如，在y方向上)与第一行1n邻近的第二行2n中，以与第一行1n中的多个第一子像素pr和多个第三子像素pb间隔开，多个第三子像素pb和多个第一子像素pr可以(例如，在x方向上)被交替设置在与第二行2n邻近(例如，在y方向上邻近)的第三行3n中，并且多个第二子像素pg可以被设置在(例如，在y方向上)与第三行3n邻近的第四行4n中，以与第三行3n中的多个第三子像素pb和多个第一子像素pr间隔开，其中像素的这些排列可以重复直至n行。如图6的实施例中所示，第一子像素pr和第三子像素pb的数量可以大于第二子像素pg的数量。
119.设置在第一行1n中的多个第一子像素pr和多个第三子像素pb可以被设置成(例如，在x方向上)偏离设置在第二行2n中的多个第二子像素pg。因此，多个第一子像素pr和多个第三子像素pb可以被交替设置在第一列1m中，多个第二子像素pg可以被设置在(例如，在x方向上)与第一列1m邻近的第二列2m中，以与多个第一子像素pr和多个第三子像素pb间隔开，多个第三子像素pb和多个第一子像素pr可以被交替设置在与第二列2m邻近的第三列3m
中，并且多个第二子像素pg可以被设置在与第三列3m邻近的第四列4m中，以与多个第三子像素pb和多个第一子像素pr间隔开。像素的这些排列可以重复直至m列。
120.为了以不同的方式描述像素排列结构，如图6中所示，第一子像素pr可以被设置在以第二子像素pg的中心点作为中心点的虚拟四边形vs的第一顶点和第三顶点处，第一顶点和第三顶点彼此面对，并且第三子像素pb可以被设置在作为虚拟四边形vs的其余顶点的第二顶点和第四顶点处。在实施例中，虚拟四边形vs可以进行不同地修改，以包括矩形形状、菱形形状、正方形形状等。
121.该像素排列结构可以被称为蜂窝状矩阵结构或蜂窝状结构。此外，用于通过共享邻近像素来表示颜色的渲染操作可以应用于该结构中，以通过使用少量像素来实现高分辨率。
122.图6的实施例图示了多个主子像素pm被设置成蜂窝状矩阵结构。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，多个主子像素pm可以被设置成各种形状，诸如条纹结构、马赛克(mosaic)排列结构、三角形(delta)排列结构等。
123.图7和图8是根据本发明构思的实施例的部件区域ca中的像素排列结构的示意性平面图。
124.参考图7的实施例，多个辅助子像素pa可以被设置在部件区域ca中。在实施例中，多个辅助子像素pa中的每个可以发射红光、绿光、蓝光和白光中的任一种。
125.如图7的实施例中所示，部件区域ca可以具有包括至少一个辅助子像素pa的像素组pg以及透射区域ta。像素组pg和透射区域ta可以在x方向和y方向上被交替设置。例如，像素组pg和透射区域ta可以被设置成格子形状。在该实施例中，部件区域ca可以具有多个像素组pg和多个透射区域ta。
126.像素组pg可以被定义为通过以预定单元对多个辅助子像素pa进行分组而形成的子像素集合。例如，如图7中所示，一个像素组pg可以包括被设置成蜂窝状结构的八个辅助子像素pa。例如，一个像素组pg可以包括两个第一子像素pr'、四个第二子像素pg'和两个第三子像素pb'。
127.在部件区域ca中，包括特定数量的像素组pg和特定数量的透射区域ta的基本单元u可以在x方向和y方向上被重复设置。在图7中，基本单元u可以呈正方形地包括两个像素组pg以及与像素组pg邻近的两个透射区域ta。通过对重复形状进行划分而获得基本单元u。基本单元u不表示包含在基本单元u中的部件与包含在另一基本单元中的其他部件分开。
128.参考图6的实施例，具有与基本单元u相同的面积的对应的单元u'可以被设置在主显示区域mda中。在该实施例中，包含在对应的单元u'中的主子像素pm的数量可以大于包含在基本单元u中的辅助子像素pa的数量。例如，如图6和图7的实施例中所示，基本单元u可以包括16个辅助子像素pa，并且对应的单元u'可以包括32个主子像素pm。因此，设置在相同面积中的辅助子像素pa的数量和主子像素pm的数量可以具有1：2的比率。然而，本发明构思的实施例并不限于此。
129.如图7的实施例中所示，当辅助子像素pa被设置成蜂窝状结构，并且辅助子像素pa的分辨率与设置在主显示区域mda中的主子像素pm的分辨率的1/2相对应时，像素排列结构可以被称为1/2蜂窝状结构。包含在像素组pg中的辅助子像素pa的数量和排列结构可以被设计成根据部件区域ca的分辨率而改变。
130.参考图8的实施例，部件区域ca的像素排列结构可以对应于1/4蜂窝状结构。根据本实施例，尽管像素组pg的8个辅助子像素pa可以被设置成蜂窝状结构，但基本单元u可以仅包括一个像素组pg。基本单元u的其他区域可以被透射区域ta占据。因此，每相同面积设置的辅助子像素pa的数量和主子像素pm的数量可以具有1：4的比率。在该实施例中，一个像素组pg可以被透射区域ta围绕。例如，如图8的实施例中所示，一个像素组pg可以(例如，在x和y方向上)完全被透射区域ta围绕。
131.图7和图8的实施例图示了多个辅助子像素pa被设置成蜂窝状矩阵结构。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，多个辅助子像素pa可以被设置成各种不同的形状，诸如条纹结构、马赛克排列结构、三角形排列结构等。
132.图7和图8的实施例还图示了辅助子像素pa的尺寸与图6的实施例的主子像素pm的尺寸相同。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，相对于同一颜色，辅助子像素pa的尺寸可以大于主子像素pm的尺寸。例如，辅助子像素pa的第三子像素pb'的尺寸可以大于主子像素pm的第三子像素pb的尺寸。在实施例中，可以通过考虑部件区域ca与主显示区域mda之间的亮度水平和/或分辨率的差来设计尺寸差。
133.图9是根据本发明构思的实施例的显示装置1的一部分的示意性截面图。该部分包括主显示区域mda和部件区域ca。
134.参考图9的实施例，显示装置1可以包括主显示区域mda和部件区域ca。主子像素pm可以被设置在主显示区域mda中，并且部件区域ca可以包括辅助子像素pa被设置在其中的辅助显示区域ada以及不包括辅助子像素pa的透射区域ta。尽管为便于说明，图9仅图示了单个主子像素pm和单个辅助子像素pa，但多个主子像素pm和多个辅助子像素pa可以被分别设置在主显示区域mda和辅助显示区域ada中。包括主薄膜晶体管tft和主存储电容器cst的主像素电路pc以及作为连接到主像素电路pc的主显示元件的主有机发光二极管oled可以被布置在主显示区域mda中。包括辅助薄膜晶体管tft'和辅助存储电容器cst'的辅助像素电路pc'以及作为连接到辅助像素电路pc'的辅助显示元件的辅助有机发光二极管oled'可以被布置在部件区域ca中。
135.尽管图9的实施例示出了作为显示元件的主有机发光二极管oled和辅助有机发光二极管oled'，但本发明构思的实施例并不限于此。例如，在另一实施例中，主显示元件和辅助显示元件可以包括无机发光器件、量子点发光器件等。
136.在下文中，描述了与包含在显示装置1中的部件的堆叠相对应的结构。显示装置1可以包括在z方向上设置的基板100、缓冲层111、电路层pcl、显示元件层edl以及诸如薄膜封装层tfel的封装构件的堆叠。
137.如上所述，基板100可以包括诸如玻璃、石英和聚合物树脂的绝缘材料。基板100可以包括刚性基板或可以弯曲、折叠或卷曲的柔性基板。
138.如图9的实施例中所示，基板100可以包括(例如，在z方向上)顺序堆叠的第一层101、第一阻挡层102、第二层103和第二阻挡层104。
139.在实施例中，第一层101和第二层103可以包括具有高耐热性的聚合物树脂。例如，第一层101和第二层103可以包括选自由聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、三乙酸纤维素、乙酸丙酸纤维素和聚芳醚砜组成的组中的至少一种材料。例如，第一层101和第二层103可以包
括聚酰亚胺。第一阻挡层102和第二阻挡层104可以防止外部空气的渗透。
140.缓冲层111可以被布置在基板100上。例如，如图9的实施例中所示，缓冲层111的下表面可以直接接触基板100的上表面，诸如第二阻挡层104的上表面。缓冲层111可以减少或防止异物、水分或外部空气从基板100下方渗透，并且可以平坦化基板100。在实施例中，缓冲层111可以包括诸如氧化物或氮化物的无机材料、有机材料、或者有机和无机化合物，并且可以具有包括无机材料和/或有机材料的单层结构或多层结构。在一些实施例中，缓冲层111可以包括氧化硅(sio
x
)或氮化硅(sin
x
)。在一些实施例中，缓冲层111可以包括sio
x
和sin
x
的堆叠。然而，本发明构思的实施例并不限于此。
141.在部件区域ca中，底部金属层bml可以(例如，在z方向上)被设置在基板100与缓冲层111之间。底部金属层bml可以被布置在辅助像素电路pc'下方，并且可以防止辅助薄膜晶体管tft'的特性由于从部件等发射的光而被劣化。此外，底部金属层bml可以防止从部件发射或朝向部件传播的光通过连接到辅助像素电路pc'的布线之间的缝隙而被衍射。底部金属层bml可以不被布置在透射区域ta中。
142.偏置电压可以被施加到底部金属层bml。底部金属层bml可以通过接收偏置电压来降低静电放电发生的可能性。在实施例中，底部金属层bml可以包括选自al、pt、pd、ag、mg、au、ni、nd、ir、cr、ca、mo、ti、w、cu和其化合物中的至少一种。底部金属层bml可以包括包含上述材料的单层或多层。
143.在实施例中，底部金属层bml可以被布置在整个部件区域ca中。在该实施例中，底部金属层bml可以包括与透射区域ta重叠的第一孔h1。例如，第一孔h1可以被布置在透射区域ta的整个部分中。透射区域ta的形状和尺寸可以由第一孔h1的形状和尺寸限定。
144.缓冲层111可以具有在透射区域ta内延伸的第二孔h2。第二孔h2可以暴露基板100的上表面(例如，第二阻挡层104)的至少一部分。如图9的实施例中所示，第二孔h2的面积可以小于限定在底部金属层bml中的第一孔h1的面积。
145.主薄膜晶体管tft和辅助薄膜晶体管tft'可以被布置在缓冲层111上方。如图9的实施例中所示，主薄膜晶体管tft可以包括第一半导体层a1、第一栅电极g1、第一源电极s1和第一漏电极d1，并且辅助薄膜晶体管tft'可以包括第二半导体层a2、第二栅电极g2、第二源电极s2和第二漏电极d2。主薄膜晶体管tft可以连接到主有机发光二极管oled，并且可以被配置为驱动主有机发光二极管oled。辅助薄膜晶体管tft'可以连接到辅助有机发光二极管oled'，并且可以被配置为驱动辅助有机发光二极管oled'。
146.例如，第一半导体层a1和第二半导体层a2可以被设置在缓冲层111上方，并且可以包括多晶硅。在另一实施例中，第一半导体层a1和第二半导体层a2可以包括非晶硅。作为另一示例，第一半导体层a1和第二半导体层a2可以包括选自由in、ga、sn、zr、v、hf、cd、ge、cr、ti和zn组成的组中的至少一种材料的氧化物。第一半导体层a1和第二半导体层a2可以包括沟道区以及掺杂有杂质的源区和漏区。
147.半导体层a2可以(例如，在z方向上)与底部金属层bml重叠，其中缓冲层111在它们之间。例如，第二半导体层a2的宽度可以小于底部金属层bml的宽度，并且因此，当从与基板100垂直的方向观察时，第二半导体层a2可以(例如，在z方向上)与底部金属层bml完全重叠。
148.第一绝缘层112可以被设置成覆盖第一半导体层a1和第二半导体层a2。在实施例
中，第一绝缘层112可以包括无机绝缘材料，诸如选自sio
x
、sin
x
、sio
x
ny、al2o3、tio2、ta2o5、hfo2和zno
x
中的至少一种化合物。zno
x
可以是zno和/或zno2。第一绝缘层112可以包括包含上述无机绝缘材料的单层或多层。
149.第一栅电极g1和第二栅电极g2可以被设置在第一绝缘层112上方，以分别与第一半导体层a1和第二半导体层a2重叠。第一栅电极g1和第二栅电极g2可以包括mo、al、cu、ti等，并且可以包括单层或多层。例如，第一栅电极g1和第二栅电极g2可以包括包含mo的单层。
150.第二绝缘层113可以被设置成覆盖第一栅电极g1和第二栅电极g2。第二绝缘层113可以包括无机绝缘材料，诸如选自sio
x
、sin
x
、sio
x
ny、al2o3、tio2、ta2o5、hfo2和zno
x
中的至少一种化合物。zno
x
可以是zno和/或zno2。第二绝缘层113可以包括包含上述无机绝缘材料的单层或多层。
151.主存储电容器cst的第一上电极ce2和辅助存储电容器cst'的第二上电极ce2'可以被设置在第二绝缘层113上方。例如，如图9的实施例中所示，第一上电极ce2和第二上电极ce2'的下表面可以直接接触第二绝缘层113的上表面。
152.第一上电极ce2可以在主显示区域mda中与其下方的第一栅电极g1(例如，在z方向上)重叠。彼此重叠的第一栅电极g1和第一上电极ce2(其中第二绝缘层113在它们之间)可以包含在主存储电容器cst中。例如，第一栅电极g1可以对应于主存储电容器cst的第一下电极ce1。在另一实施例中，主存储电容器cst的第一下电极ce1可以对应于与主薄膜晶体管tft的第一栅电极g1分离的部件。
153.第二上电极ce2'可以在部件区域ca中与其下方的第二栅电极g2(例如，在z方向上)重叠。彼此重叠的第二栅电极g2和第二上电极ce2'(其中第二绝缘层113在它们之间)可以包含在辅助存储电容器cst'中。例如，第二栅电极g2可以对应于辅助存储电容器cst'的第二下电极ce1'。在另一实施例中，辅助存储电容器cst'的第二下电极ce1'可以对应于与辅助薄膜晶体管tft'的第二栅电极g2分离的部件。
154.在实施例中，第一上电极ce2和第二上电极ce2'可以包括选自al、pt、pd、ag、mg、au、ni、nd、ir、cr、ca、mo、ti、w、cu和其化合物中的至少一种，并且可以包括包含上述材料的单层或多层。
155.第三绝缘层115可以被布置成覆盖第一上电极ce2和第二上电极ce2'。例如，如图9的实施例中所示，第三绝缘层115的下表面可以直接接触第一上电极ce2和第二上电极ce2'的上表面。在实施例中，第三绝缘层115可以包括无机绝缘材料，诸如选自sio
x
、sin
x
、sio
x
ny、al2o3、tio2、ta2o5、hfo2和zno
x
中的至少一种化合物。zno
x
可以是zno和/或zno2。
156.第一绝缘层112、第二绝缘层113和第三绝缘层115可以被共同称为无机绝缘层il。无机绝缘层il可以具有与透射区域ta相对应的第三孔h3。第三孔h3可以暴露缓冲层111或基板100的上表面的一部分。第三孔h3可以由彼此重叠的第一至第三绝缘层112、113和115的开口形成，其中第一至第三绝缘层112、113和115的开口在透射区域ta内延伸。如图9的实施例中所示，第三孔h3还可以在辅助显示区域ada的与透射区域ta邻近的局部内延伸。在实施例中，这些开口可以在单独的操作中单独形成或者在同一操作中同时形成。当这些开口在单独的操作中形成时，第三孔h3的内表面可能不是光滑的，并且可能通过具有阶梯形状而具有台阶差。
157.由无机绝缘层il限定的第三孔h3的面积可以大于限定在底部金属层bml中的第一孔h1和限定在缓冲层111中的第二孔h2的面积。由于缓冲层111和无机绝缘层il包括布置在透射区域ta内的第二孔h2和第三孔h3，因此可以增大部件区域ca的透光率。
158.然而，在实施例中，无机绝缘层il可以包括槽，而不是暴露缓冲层111和/或基板100的第三孔h3。在另一实施例中，无机绝缘层il可以不具有与透射区域ta相对应的第三孔h3或槽。无机绝缘层il可以包括通常具有高透光率的无机绝缘材料，并且因此，即使当不存在与透射区域ta相对应的孔或槽时，也可以获得足够的透射率，以使部件40(参见图2)发送/接收足够量的光。
159.如图9的实施例中所示，数据线dl、第一源电极s1和第二源电极s2以及第一漏电极d1和第二漏电极d2可以被布置在第三绝缘层115上。例如，数据线dl、第一源电极s1和第二源电极s2以及第一漏电极d1和第二漏电极d2的下表面可以直接接触第三绝缘层115的上表面。在实施例中，数据线dl、第一源电极s1和第二源电极s2以及第一漏电极d1和第二漏电极d2可以包括包含选自mo、al、cu、ti和其化合物等中的至少一种的导电材料，并且可以包括包含上述材料的多层或单层。例如，在实施例中，数据线dl、第一源电极s1和第二源电极s2以及第一漏电极d1和第二漏电极d2可以包括包含ti/al/ti的多层结构。
160.平坦化层117可以被布置成覆盖数据线dl、第一源电极s1和第二源电极s2以及第一漏电极d1和第二漏电极d2。平坦化层117可以具有平坦化的上表面，使得第一像素电极121和第二像素电极121'可以形成在其上，以基本平坦。
161.平坦化层117可以包括有机材料或无机材料，并且可以具有单层结构或多层结构。在实施例中，平坦化层117可以包括苯并环丁烯(bcb)、聚酰亚胺(pi)、六甲基二硅醚(hmdso)、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)或诸如聚苯乙烯(ps)、具有苯酚类基团的聚合物衍生物、丙烯酸类聚合物、酰亚胺类聚合物、芳基醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物或乙烯醇类聚合物的通用聚合物。在实施例中，平坦化层117可以包括无机绝缘材料，诸如选自sio
x
、sin
x
、sio
x
ny、al2o3、tio2、ta2o5、hfo2和zno
x
中的至少一种化合物。zno
x
可以是zno和/或zno2。当形成平坦化层117时，可以对形成的层的上表面执行化学机械抛光，以提供平坦的上表面。
162.平坦化层117可以具有在透射区域ta内延伸的第四孔h4。如图9的实施例中所示，第四孔h4还可以在辅助显示区域ada的与透射区域ta邻近的局部内延伸。第四孔h4可以与限定在无机绝缘层il中的第三孔h3重叠。图9图示了第四孔h4大于第三孔h3。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，在实施例中，平坦化层117可以被布置成覆盖无机绝缘层il的第三孔h3的边缘。因此，第四孔h4的面积可以小于第三孔h3的面积。
163.平坦化层117可以具有暴露主薄膜晶体管tft的第一源电极s1和第一漏电极d1中的任一个的通孔，并且第一像素电极121可以通过该通孔接触第一源电极s1或第一漏电极d1，并且可以电连接到主薄膜晶体管tft。此外，平坦化层117可以具有暴露辅助薄膜晶体管tft'的第二源电极s2和第二漏电极d2中的任一个的通孔，并且第二像素电极121'可以通过该通孔接触第二源电极s2或第二漏电极d2，并且可以电连接到辅助薄膜晶体管tft'。
164.在实施例中，平坦化层117可以包括第一平坦化层和第二平坦化层。当平坦化层117包括第一平坦化层和第二平坦化层时，可以实现相对高的集成度。
165.在实施例中，第一像素电极121和第二像素电极121'可以包括诸如选自氧化铟锡
(ito)、氧化铟锌(izo)、氧化锌(zno)、氧化铟(in2o3)、氧化铟镓(igo)和氧化铝锌(azo)中的至少一种化合物的导电氧化物。第一像素电极121和第二像素电极121'可以包括包含ag、mg、al、pt、pd、au、ni、nd、ir、cr或它们的化合物的反射层。例如，在实施例中，第一像素电极121和第二像素电极121'可以具有其中包括ito、izo、zno或in2o3的层被设置在上述反射层上方/下方的结构。在该实施例中，第一像素电极121和第二像素电极121'可以具有其中ito层、ag层和ito层(例如，在z方向上)被顺序地堆叠的结构。
166.像素限定层119可以被布置在平坦化层117上，以覆盖第一像素电极121和第二像素电极121'的侧边缘，并且包括分别暴露第一像素电极121和第二像素电极121'的至少一部分的第一开口op1和第二开口op2。例如，如图9的实施例中所示，像素限定层119可以暴露第一像素电极121和第二像素电极121'的中心部分。基于第一开口op1和第二开口op2，可以限定主有机发光二极管oled和辅助有机发光二极管oled'的发射区域，诸如主子像素pm和辅助子像素pa的尺寸和形状。
167.像素限定层119可以增大第一像素电极121和第二像素电极121'的侧边缘与第一像素电极121和第二像素电极121'上的对电极123之间的距离，以防止在第一像素电极121和第二像素电极121'的侧边缘处发生电弧等。在实施例中，像素限定层119可以通过使用诸如聚酰亚胺、聚酰胺、丙烯酸树脂、bcb、hmdso、酚醛树脂等的有机绝缘材料通过使用旋涂法等来形成。另外，在实施例中，间隔件可以进一步包含在像素限定层119上。
168.像素限定层119可以具有在透射区域ta内延伸的第五孔h5。第五孔h5可以与第二孔h2至第四孔h4(例如，在z方向上)重叠。例如，如图9的实施例中所示，第五孔h5可以在辅助显示区域ada的与透射区域ta邻近的局部内延伸。可以通过在透射区域ta内延伸的第二孔h2至第五孔h5来增大透射区域ta的透光率。下面要描述的对电极123的一部分可以被设置在第二孔h2至第五孔h5的内表面处。
169.第一发射层122b和第二发射层122b'可以被设置在像素限定层119的第一开口op1和第二开口op2中，以分别与第一像素电极121和第二像素电极121'的暴露部分重叠。在实施例中，第一发射层122b和第二发射层122b'可以包括高分子量有机材料或低分子量有机材料，并且可以发射红光、绿光、蓝光或白光。然而，本发明构思的实施例并不限于此。
170.有机功能层122e可以被布置在第一发射层122b和第二发射层122b'上方和/或下方。如图9的实施例中所示，有机功能层122e可以包括第一功能层122a和/或第二功能层122c。然而，本发明构思的实施例并不限于此，并且在一些实施例中，第一功能层122a或第二功能层122c可以被省略。
171.在实施例中，第一功能层122a可以被布置在第一发射层122b和第二发射层122b'下方。第一功能层122a可以包括包含有机材料的单层或多层。第一功能层122a可以包括具有单层结构的空穴传输层(htl)。在另一实施例中，第一功能层122a可以包括空穴注入层(hil)和htl。第一功能层122a可以整体对应于包含在主显示区域mda中的主有机发光二极管oled以及包含在部件区域ca的辅助显示区域ada中的辅助有机发光二极管oled'。
172.如图9的实施例中所示，第二功能层122c可以被布置在第一发射层122b和第二发射层122b'上方。第二功能层122c可以包括包含有机材料的单层或多层。在实施例中，第二功能层122c可以包括电子传输层(etl)和/或电子注入层(eil)。第二功能层122c可以整体对应于包含在主显示区域mda中的主有机发光二极管oled以及包含在部件区域ca的辅助显
示区域ada中的辅助有机发光二极管oled'。
173.对电极123可以被布置在第二功能层122c上方。对电极123可以包括具有低功函数的导电材料。例如，对电极123可以包括包含ag、mg、al、pt、pd、au、ni、nd、ir、cr、li、ca或它们的合金的(半)透明层。在另一实施例中，对电极123可以在包含上述材料的(半)透明层上进一步包括诸如ito、izo、zno或in2o3的层。对电极123可以整体对应于包含在主显示区域mda中的主有机发光二极管oled以及包含在部件区域ca的辅助显示区域ada中的辅助有机发光二极管oled'。
174.在主显示区域mda中形成在第一像素电极121与对电极123之间的层可以包含在主有机发光二极管oled中。在部件区域ca的辅助显示区域ada中形成在第二像素电极121'与对电极123之间的层可以包含在辅助有机发光二极管oled'中。
175.在实施例中，包括有机材料的封盖层(未示出)可以形成在对电极123上。封盖层可以被提供为保护对电极123，并增大光提取效率。在实施例中，封盖层可以包括具有比对电极123的折射率高的折射率的有机材料或无机材料。
176.对电极123可以具有在透射区域ta内延伸的第六孔h6。图9图示了限定在对电极123中的第六孔h6的面积大于限定在无机绝缘层il中的第三孔h3的面积。例如，第六孔h6可以在辅助显示区域ada的与透射区域ta邻近的局部内延伸。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，在实施例中，第六孔h6的面积可以小于或等于第三孔h3的面积。
177.通过第六孔h6，对电极123可以不被布置在透射区域ta中，并且因此，可以增大透射区域ta的透光率。具有第六孔h6的对电极123可以通过使用各种方法来形成。例如，用于形成对电极123的材料可以被布置在基板100的整个表面上，并且然后，被布置的材料中的布置在透射区域ta中的局部的材料可以通过激光剥离操作被移除，使得可以形成其中限定有第六孔h6的对电极123。在另一实施例中，具有第六孔h6的对电极123可以通过金属自图案化(msp)方法来形成。在另一实施例中，具有第六孔h6的对电极123可以通过使用精细金属掩模(fmm)沉积对电极123的方法来形成。
178.薄膜封装层tfel可以作为封装构件被设置在显示装置1的显示元件层edl上方。例如，可以通过薄膜封装层tfel封装主有机发光二极管oled和辅助有机发光二极管oled'。薄膜封装层tfel可以被布置在对电极123上。例如，如图9的实施例中所示，薄膜封装层tfel的下表面可以直接接触对电极123的上表面。薄膜封装层tfel可以防止外部水分或异物渗透到主有机发光二极管oled和辅助有机发光二极管oled'中。
179.薄膜封装层tfel可以包括至少一个无机层和至少一个有机层。例如，图9的实施例图示了薄膜封装层tfel具有其中第一无机层131、有机层132和第二无机层133(例如，在z方向上)被堆叠的结构。然而，本发明构思的实施例并不限于此，并且有机层和无机层的数量以及有机层和无机层被堆叠的次序可以改变。
180.在实施例中，第一无机层131和第二无机层133可以包括选自sio
x
、sin
x
、sio
x
ny、al2o3、tio2、ta2o5、hfo2和zno
x
中的一种或多种无机绝缘材料，并且可以通过使用化学气相沉积(cvd)来形成。zno
x
可以是zno和/或zno2。有机层132可以包括聚合物类材料。聚合物类材料可以包括硅类树脂、丙烯酸类树脂、环氧类树脂、聚酰亚胺和聚乙烯。
181.第一无机层131、有机层132和第二无机层133可以形成为一体，以覆盖主显示区域mda和部件区域ca。例如，如图9的实施例中所示，第一无机层131、有机层132和第二无机层
133可以形成为一体，以覆盖部件区域ca中的辅助显示区域ada和透射区域ta两者。因此，第一无机层131和有机层132可以被布置在限定在无机绝缘层il中的第三孔h3中。
182.图10至图12是根据本发明构思的实施例的显示装置1的一部分的示意性截面图。
183.参考图10的实施例，缓冲层111可以被连续地布置在透射区域ta中，并且可以不包括如图9的实施例中所示的透射区域ta中的第二孔h2。无机绝缘层il、平坦化层117和像素限定层119可以分别具有暴露缓冲层111的上表面的第三孔h3、第四孔h4和第五孔h5。
184.由于缓冲层111被布置在透射区域ta中，因此可以防止外部水分或异物渗透到透射区域ta中的部件中。
185.参考图11的实施例，缓冲层111和无机绝缘层il可以被连续地布置成在透射区域ta内延伸，并且第二孔h2和第三孔h3可以不如图9的实施例中所示那样包含在透射区域ta中。在另一实施例中，第一绝缘层112、第二绝缘层113和第三绝缘层115中的至少一个可以被连续地布置成在透射区域ta内延伸，并且第三孔h3可以形成在无机绝缘层il的其他层中，以在透射区域ta内延伸。平坦化层117和像素限定层119可以分别具有暴露无机绝缘层il的上表面的第四孔h4和第五孔h5。
186.由于缓冲层111和无机绝缘层il可以被布置在透射区域ta中，因此可以防止平坦化层117的平坦化的损失。
187.参考图12的实施例，缓冲层111、无机绝缘层il和平坦化层117可以被连续地布置成在透射区域ta内延伸。像素限定层119可以具有暴露平坦化层117的上表面的第五孔h5。第五孔h5可以在透射区域ta以及辅助显示区域ada的与透射区域ta邻近的局部内延伸。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，在实施例中，像素限定层119也可以被连续地布置成在透射区域ta内延伸。
188.图13是根据实施例的显示装置1的一部分的示意性截面图，并且图14是图13的区域a的放大图。在图13中，与图9中的附图标记相同的附图标记表示与图9中的构件相同的构件，并且因此，它们的描述将不再重复。
189.参考图13和图14的实施例，部件区域ca可以包括辅助子像素pa被设置在其中的辅助显示区域ada以及透射区域ta。光学功能层ofl可以被布置在薄膜封装层tfel上。例如，如图13的实施例中所示，光学功能层ofl的下表面可以直接接触薄膜封装层tfel的上表面。如图13和图14的实施例中所示，光学功能层ofl可以包括保护层310和偏振层320。偏振层320可以包括布置在透射区域ta中的第一部分320a以及布置在辅助显示区域ada中的第二部分320b。例如，偏振层320的第一部分320a可以被布置在透射区域ta的整个部分中，并且第二部分320b可以被布置在辅助显示区域ada的整个部分中。
190.保护层310可以被布置在薄膜封装层tfel上。例如，如图13和图14的实施例中所示，保护层310的下表面可以直接接触薄膜封装层tfel的上表面，诸如第二无机层133的上表面。保护层310可以通过支撑布置在保护层310上方的偏振层320来增加偏振层320的机械强度。在实施例中，保护层310可以包括选自环烯烃聚合物、pmma等中的至少一种化合物。例如，保护层310可以包括三乙酰纤维素(tac)。
191.偏振层320可以被布置在保护层310上。例如，如图13的实施例中所示，偏振层320的下表面可以直接接触保护层310的上表面。偏振层320可以使从光源入射的光偏振为在与偏振轴相同的方向上延伸的光。例如，在实施例中，偏振层320可以包括与偏振器和/或二向
色性染料组合的聚乙烯醇(pva)膜。在实施例中，二向色性染料可以包括碘分子和/或染料分子。
192.例如，在实施例中，可以通过在可以被称为“延伸方向”的第一方向上延伸pva膜，并将pva膜浸入包括碘和/或二向色性染料的溶液中，来形成偏振层320。在该实施例中，碘分子和/或二向色性染料分子可以在延伸方向上平行排列。碘分子和染料分子具有二向色性属性，并且因此，可以吸收在延伸方向上振荡的光，并且可以允许在与延伸方向垂直的方向上振荡的光穿过碘分子和染料分子。
193.包含在偏振层320中的碘可以用作吸收元件。因此，当布置在透射区域ta中的偏振层320包括碘时，透射区域ta的透光率可能由于偏振层320对光的吸收而降低。
194.在比较实施例中，为了增大透射区域ta的透光率，偏振层320可以具有开口。然而，偏振层320可以通过诸如oca的粘合剂联接到覆盖窗50(参见图2)或触摸屏层tsl(参见图2)上。因此，在开口的内部未被oca完全填充的情况下，可能产生气泡，其影响光透过透射区域ta，并且由开口暴露的封装构件可能被按压，这可能损坏封装构件。
195.如图13至图14的实施例中所示，偏振层320可以不具有开口，并且可以在保护层310上连续地延伸。偏振层320的局部(诸如布置在透射区域ta中的部分)可以被脱色，而偏振层320的其他部分不被脱色(例如，非脱色的)。因此，在可以增大透射区域ta的透光率的同时，也可以防止由于气泡等产生的缺陷。
196.如图13的实施例中所示，偏振层320可以包括布置在透射区域ta中的第一部分320a以及布置在主显示区域mda和辅助显示区域ada中的第二部分320b。布置在透射区域ta中的第一部分320a可以是偏振层320的被脱色的局部。偏振层320的第一部分320a被脱色，并且可以具有比第二部分320b大的透光率。尽管图13中所示的实施例示出了位于整个透射区域ta中的第一部分320a以及位于整个主显示区域mda和辅助显示区域ada中的第二部分320b，但在其他实施例中，第一部分320a可以被布置在透射区域ta的至少局部中，并且第二部分320b可以被布置在主显示区域mda和辅助显示区域ada的至少局部中。
197.例如，在实施例中，布置在透射区域ta中的第一部分320a可以被碱性材料脱色并被酸溶液中和。因此，由于布置在透射区域ta中的第一部分320a被碱性材料脱色，因此尽管第一部分320a和第二部分320b中的每个包括碘，但第一部分320a中的碘的含量(例如，浓度等)可以小于第二部分320b中的碘的含量。由于第一部分320a中的碘的含量通过脱色(诸如通过碱性材料进行脱色)而降低，因此可以增大透射区域ta的透光率。
198.在实施例中，偏振层320的第一部分320a和第二部分320b可以包括硼。当与透射区域ta相对应的第一部分320a被碱性材料脱色并被酸溶液中和时，偏振层320的第一部分320a的pva的交联键可以被释放。因此，第一部分320a中的硼的含量可以小于第二部分320b中的硼的含量。
199.在实施例中，偏振层320可以包括相位延迟层。相位延迟层可以被布置在偏振层320的一侧，并且可以使透过偏振层320并由偏振层320偏振的光的相位延迟。例如，相位延迟层可以使透过偏振层320的光的相位延迟λ/4，以使光圆偏振。因此，可以降低光的反射率。在实施例中，相位延迟层可以被布置成比偏振层320更远离光源。例如，当外部光从偏振层320上方的位置入射时，相位延迟层可以被布置在偏振层320下方。
200.图15是图13的区域a的放大图。图15中所示的实施例与图14中所示的实施例的不
同之处在于，保护膜330可以进一步被布置在偏振层320上。在图15中，与图14中的附图标记相同的附图标记表示与图14中的构件基本相同的构件，并且因此，为便于说明，基本相似的元件的描述将被省略。
201.参考图15的实施例，光学功能层ofl可以进一步包括布置在偏振层320上的保护膜330。保护膜330可以被设置成保护偏振层320。如图15的实施例中所示，保护膜330的下表面可以直接接触偏振层320的上表面。保护膜330可以具有被布置成在透射区域ta内延伸的开口。例如，如图15的实施例中所示，该开口可以(例如，在z方向上)与偏振层320的第一部分320a重叠。例如，保护膜330的该开口可以与整个第一部分320a重叠。
202.图16是根据本发明构思的实施例的显示装置的示意性平面图。
203.参考图16的实施例，例如，部件区域ca可以包括辅助子像素pa被设置在其中的辅助显示区域ada以及透射区域ta。偏振层320可以包括第一部分320a和第二部分320b。偏振层320的第一部分320a可以与透射区域ta重叠，并且偏振层320的第二部分320b可以与辅助显示区域ada重叠。
204.图17至图23是根据本发明构思的实施例的制造显示装置的方法的示意性截面图。
205.在下文中，参考图17至图23的实施例顺序地描述制造显示装置的方法。
206.根据实施例的制造显示装置的方法可以包括：在包括主显示区域mda和部件区域ca的基板100上形成薄膜封装层tfel，部件区域ca包括辅助显示区域ada和透射区域ta；在薄膜封装层tfel上形成偏振材料层320m；在偏振材料层320m上形成光刻胶层510；对光刻胶层510进行曝光；通过使用显影液530对光刻胶层510进行显影并通过对偏振材料层320m进行脱色，形成包括布置在透射区域ta中的第一部分320a以及布置在主显示区域mda和辅助显示区域ada中的第二部分320b的偏振层320；以及将酸溶液540施加到偏振层320上。
207.参考图17的实施例，显示装置可以包括主显示区域mda和部件区域ca，并且部件区域ca可以包括辅助显示区域ada和透射区域ta。如图17的实施例中所示，主显示区域mda可以包括形成在其中的主子像素pm，并且部件区域ca可以包括其中形成有辅助子像素pa的辅助显示区域ada。
208.包括主薄膜晶体管tft和主存储电容器cst的主像素电路pc以及作为连接到主像素电路pc的主显示元件的主有机发光二极管oled可以形成在主显示区域mda中。包括辅助薄膜晶体管tft'和辅助存储电容器cst'的辅助像素电路pc'以及作为连接到辅助像素电路pc'的辅助显示元件的辅助有机发光二极管oled'可以形成在辅助显示区域ada中。
209.薄膜封装层tfel可以形成在主有机发光二极管oled以及布置在部件区域ca的辅助显示区域ada中的辅助有机发光二极管oled'上。薄膜封装层tfel也可以形成在部件区域ca的透射区域ta上。如图17的实施例中所示，薄膜封装层tfel可以包括在z方向上堆叠的第一无机层131、有机层132和第二无机层133。然而，本发明构思的实施例并不限于此。
210.保护层310可以形成在薄膜封装层tfel上，并且偏振材料层320m可以形成在保护层310上。在实施例中，保护层310可以包括环烯烃聚合物、pmma等。例如，保护层310可以包括tac。
211.在实施例中，偏振材料层320m可以包括与偏振器和/或二向色性染料组合的pva膜。二向色性染料可以包括碘分子和/或染料分子。
212.参考图18的实施例，在薄膜封装层tfel上形成保护层310和偏振材料层320m之后，
可以执行在偏振材料层320m上形成光刻胶层510。例如，如图18的实施例中所示，光刻胶层510的下表面可以直接接触偏振材料层320m的上表面。在实施例中，光刻胶层510可以包括正性感光材料。在另一实施例中，光刻胶层510可以包括负性感光材料。
213.参考图19和图20的实施例，在偏振材料层320m上形成光刻胶层510之后，可以执行光刻胶层510的曝光。
214.光刻胶层510的曝光可以包括通过使用掩模m将光刻胶层510的局部暴露于光520。例如，如图19的实施例中所示，当光刻胶层510包括正性感光材料时，光刻胶层510的局部(诸如布置在透射区域ta中的局部)可以暴露于光520。在其中光刻胶层510包括负性感光材料的另一实施例中，光刻胶层510的局部(诸如布置在除透射区域ta之外的其他区域中的局部)可以暴露于光520。
215.如图20的实施例中所示，光刻胶层510的第一部分510a(其是布置在透射区域ta中的局部)可以被曝光，并且光刻胶层510的第二部分510b(其是布置在除透射区域ta之外的其他区域中的局部)可以不被曝光。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，在另一实施例中，光刻胶层510的第一部分510a(其是布置在透射区域ta中的局部)可以不暴露于光520，并且光刻胶层510的第二部分510b(其是布置在除透射区域ta之外的其他区域中的局部)可以暴露于光520。
216.在对光刻胶层510进行曝光之后，可以执行光刻胶层510的显影以及偏振材料层320m的脱色。
217.例如，光刻胶层510的第一部分510a(其是布置在透射区域ta中的局部)可以被曝光并通过显影液530显影。当光刻胶层510的布置在透射区域ta中的第一部分510a被显影时，布置在光刻胶层510的第一部分510a下方的偏振材料层320m可以被暴露，并且可以通过显影液530被脱色。
218.例如，如图21中所示，通过曝光光刻胶层510并通过使用显影液530对光刻胶层510下方的偏振材料层320m进行脱色，可以形成包括与透射区域ta相对应的第一部分320a以及与主显示区域mda和辅助显示区域ada相对应的第二部分320b的偏振层320。如图21的实施例中所示，偏振层320的第一部分320a可以对应于偏振材料层320m的通过显影液530脱色的局部。
219.在实施例中，显影液530可以包括碱性溶液。在显影液530接触偏振材料层320m的布置在透射区域ta中的局部的被暴露的表面之后，显影液530可以渗透到偏振材料层320m中。包含在偏振材料层320m中的碘络合物可以被包含在显影液530中的碱性溶液的碱性还原，并且可以变成碘离子。由于碘络合物可以被还原为碘离子，因此偏振材料层320m的布置在透射区域ta中的局部的偏振性能可能基本丧失。
220.包含在显影液530中的碱性材料可以包括任意碱性材料。例如，在实施例中，碱性材料可以包括碱金属的氢氧化物(诸如氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂)、碱土金属的氢氧化物(诸如氢氧化钙)、无机碱金属盐(诸如碳酸钠)、有机碱金属盐(诸如乙酸钠)、氨溶液等。碱性材料可以包括均质材料，或者可以包括两种或更多种非均质材料的混合物。
221.当包括布置在透射区域ta中的第一部分320a以及布置在主显示区域mda和辅助显示区域ada中的第二部分320b的偏振层320通过使用显影液530来形成时，布置在透射区域ta中的第一部分320a的pva的交联键可以被释放。因此，尽管第一部分320a和第二部分320b
包括硼，但第一部分320a的硼的含量可以低于第二部分320b的硼的含量。
222.在实施例中，在通过使用显影液530形成包括与透射区域ta相对应的第一部分320a以及与主显示区域mda和辅助显示区域ada相对应的第二部分320b的偏振层320时，偏振材料层320m可以被显影液530脱色达大约5至20秒。当偏振材料层320m被脱色小于大约5秒的时间段时，在偏振材料层320m的布置在透射区域ta中的局部中可能存在未被还原成碘离子的大量碘络合物。因此，可能降低透射区域ta的透光率。当偏振材料层320m被脱色大于大约20秒的时间段时，显影液530可能扩散到偏振材料层320m的布置在辅助显示区域ada中的局部中。因此，辅助显示区域ada的偏振性能可能降低。
223.参考图22和图23的实施例，可以执行光刻胶层510的第二部分510b的移除，并且在移除光刻胶层510的第二部分510b之后，可以执行将酸溶液540施加在偏振层320上。在另一实施例中，在移除光刻胶层510的第二部分510b之前，酸溶液540可以被施加到光刻胶层510的第二部分510b和偏振层320上。
224.通过将酸溶液540施加到偏振层320上，偏振层320可以被中和。
225.基于上述制造显示装置的方法，可以形成包括保护层310和偏振层320的光学功能层ofl，其中偏振层320包括布置在透射区域ta中的第一部分320a以及布置在主显示区域mda和辅助显示区域ada中的第二部分320b。
226.图18至图23的实施例图示了光学功能层ofl可以形成在基板100上，并且光学功能层ofl包括偏振层320，偏振层320包括布置在透射区域ta中的第一部分320a以及布置在主显示区域mda和辅助显示区域ada中的第二部分320b。然而，本发明构思的实施例并不限于此。例如，在实施例中，包括偏振层320(其包含布置在透射区域ta中的第一部分320a以及布置在主显示区域mda和辅助显示区域ada中的第二部分320b)的光学功能层ofl可以形成在覆盖窗50(参见图2)上，并且然后，可以通过诸如oca的粘合层联接到薄膜封装层tfel上。
227.图24至图27是用于描述根据本发明构思的实施例的制造显示装置的方法的示意性截面图。
228.参考图24至图27的实施例，制造显示装置的方法可以包括：在包括主显示区域mda和部件区域ca的基板100上形成薄膜封装层tfel，部件区域ca包括辅助显示区域ada和透射区域ta；在薄膜封装层tfel上形成偏振材料层320m和保护膜330；通过使用激光束移除保护膜330的至少一部分；通过将碱性溶液610施加到偏振材料层320m上，形成包括与透射区域ta相对应的第一部分320a以及与主显示区域mda和辅助显示区域ada相对应的第二部分320b的偏振层320；以及将酸溶液620施加到偏振层320上。
229.参考图24的实施例，保护层310、偏振材料层320m和保护膜330可以形成在薄膜封装层tfel上。在实施例中，保护层310可以包括环烯烃聚合物、pmma等。例如，保护层310可以包括tac。偏振材料层320m可以包括包含偏振器和/或二向色性染料的pva膜。二向色性染料可以包括碘分子和/或染料分子。保护膜330可以被设置成保护偏振层320。
230.如图25的实施例中所示，在薄膜封装层tfel上形成保护层310、偏振材料层320m和保护膜330之后，可以执行通过使用激光束移除保护膜330的至少局部。
231.通过使用激光束移除保护膜330的至少局部可以包括通过使用激光束移除保护膜330的布置在透射区域ta中的至少局部来形成布置在透射区域ta中的开口330op。
232.如图26的实施例中所示，在通过使用激光束移除保护膜330的至少局部之后，可以
通过将碱性溶液610施加在被开口330op暴露的偏振材料层320m上来执行包括布置在透射区域ta中的第一部分320a以及布置在主显示区域mda和辅助显示区域ada中的第二部分320b的偏振层320的形成。
233.在通过将碱性溶液610施加到偏振材料层320m上来形成包括布置在透射区域ta中的第一部分320a以及布置在主显示区域mda和辅助显示区域ada中的第二部分320b的偏振层320的过程中，碱性溶液610可以直接接触偏振材料层320m的被开口330op暴露并被布置在透射区域ta中的表面。碱性溶液610然后可以渗透到偏振材料层320m中。包含在偏振材料层320m中的碘络合物可以被碱性溶液610的碱性还原，并且可以变成碘离子。由于碘络合物可以被还原为碘离子，因此偏振材料层320m的布置在透射区域ta中的局部的偏振性能可能基本丧失。通过这些操作，布置在透射区域ta中的第一部分320a可以被脱色。
234.在实施例中，偏振材料层320m可以在大约5秒至大约20秒的范围内通过碱性溶液610被脱色。当偏振材料层320m被脱色小于大约5秒的时间段时，在偏振材料层320m的布置在透射区域ta中的局部中可能存在未被还原成碘离子的大量碘络合物。因此，可能降低透射区域ta的透光率。当偏振材料层320m被脱色大于大约20秒的时间段时，显影液530可能扩散到偏振材料层320m的布置在辅助显示区域ada中的局部中。因此，辅助显示区域ada的偏振性能可能降低。
235.其后，如图27的实施例中所示，可以执行将酸溶液620施加在偏振层320上。例如，将酸溶液620施加在偏振层320上可以包括通过将酸溶液620施加到保护膜330和偏振层320上来中和偏振层320。
236.如上所述，根据本发明构思的上述实施例中的一个或多个，偏振层的布置在透射区域中的局部可以被脱色，并且因此，可以增大透射区域的透光率。然而，本发明构思的范围并不限于此。
237.应当理解，本文中描述的本发明构思的实施例应被视为是仅描述性的而非限制目的。每个实施例中的特征或方面的描述应典型地被认为是可用于其他实施例中的其他相似特征或方面。尽管已经参考附图描述了本发明构思的一个或多个实施例，但是本领域普通技术人员将理解，可以对其进行形式上和细节上的各种修改，而不背离本发明构思的精神和范围。