磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板、磁记录介质、磁记录再生装置用玻璃间隔物和磁记录再生装置的制作方法

技术特征：
1.一种磁记录介质基板用玻璃，其为sio2含量为54摩尔％以上62摩尔％以下、mgo含量为15摩尔％以上28摩尔％以下、li2o含量为0.2摩尔％以上、以及na2o含量为5摩尔％以下的非晶态玻璃。2.如权利要求1所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，sio2与mgo的总含量相对于li2o含量的摩尔比、也即(sio2 mgo)/li2o为13以上。3.如权利要求1或2所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，sio2、mgo、li2o、al2o3和cao的总含量、也即sio2 mgo li2o al2o3 cao为93摩尔％以上。4.如权利要求1～3中任一项所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，al2o3与cao的总含量相对于mgo含量的摩尔比、也即(al2o3 cao)/mgo为0.55以上。5.如权利要求1～4中任一项所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，mgo含量相对于cao含量的摩尔比、也即mgo/cao为6以上。6.一种磁记录介质基板，其由权利要求1～5中任一项所述的磁记录介质基板用玻璃构成。7.一种磁记录介质，其具有权利要求6所述的磁记录介质基板和磁记录层。8.一种磁记录再生装置用玻璃间隔物，其中，所述玻璃间隔物包含sio2含量为54摩尔％以上62摩尔％以下、mgo含量为15摩尔％以上28摩尔％以下、li2o含量为0.2摩尔％以上、以及na2o含量为5摩尔％以下的非晶态玻璃。9.一种磁记录再生装置，其包含权利要求7所述的磁记录介质和权利要求8所述的磁记录再生装置用玻璃间隔物中的至少一者。

技术总结
提供一种磁记录介质基板用玻璃，其为SiO2含量为54摩尔％以上62摩尔％以下、MgO含量为15摩尔％以上28摩尔％以下、Li2O含量为0.2摩尔％以上、以及Na2O含量为5摩尔％以下的非晶态玻璃。态玻璃。


技术研发人员：佐藤浩一 桥本和明
受保护的技术使用者：HOYA株式会社
技术研发日：2020.07.22
技术公布日：2022/3/4