包含半导体颗粒的稳定的墨水及其用途的制作方法

技术特征：

1.一种墨水，包括

a)至少一种颗粒的胶体分散体，所述颗粒包含式

MxQyEzAw (I)

的材料，其中：

M选自Zn、Cd、Hg、Cu、Ag、Au、Ni、Pd、Pt、Co、Fe、Ru、Os、Mn、Tc、Re、Cr、Mo、W、V、Nd、Ta、Ti、Zr、Hf、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、As、Sb、Bi、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Cs或其混合物；

Q选自Zn、Cd、Hg、Cu、Ag、Au、Ni、Pd、Pt、Co、Fe、Ru、Os、Mn、Tc、Re、Cr、Mo、W、V、Nd、Ta、Ti、Zr、Hf、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、As、Sb、Bi、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Cs或其混合物；

E选自O、S、Se、Te、C、N、P、As、Sb、F、Cl、Br、I、F或其混合物；和

A选自O、S、Se、Te、C、N、P、As、Sb、F、Cl、Br、I、F或其混合物；

x、y、z和w分别是0到5的十进制数；x、y、z和w不同时等于0；x和y不同时等于0；z和w不能同时等于0；和

b)至少一种可溶于胶体分散体a)的金属卤化物黏合剂。

2.根据权利要求1所述的墨水，其中颗粒是半导体颗粒。

3.根据权利要求2所述的墨水，其中半导体颗粒是量子点。

4.根据权利要求3所述的墨水，其中量子点是核/壳量子点，核包含与壳不同的材料。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的墨水，其中基于墨水的总重量，墨水中颗粒的含量为1重量％至40重量％。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的墨水，其中金属卤化物选自ZnX2、PbX2、CdX2、SnX2、HgX2、BiX3、CsX、NaX、KX、LiX、CsPbX3、HC(NH2)2PbX3、CH3NH3PbX3或其混合物，其中X选自Cl、Br、I、F或其组合。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的墨水，其中颗粒的胶体分散体包含至少一种选自甲酰胺、二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰胺、1,2-二氯苯、1,2-二氯乙烷、1,4-二氯苯、碳酸丙烯酯和N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲亚砜、2,6-二氟吡啶、N,N-二甲基乙酰胺、γ-丁内酯、二甲基丙撑脲、磷酸三乙酯、磷酸三甲酯、二甲基亚乙基脲、四甲基脲、二乙基甲酰胺、邻氯苯胺、二丁基亚砜、二乙基乙酰胺，或其混合物的极性溶剂。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的墨水，其中颗粒的胶体分散体还包含至少一种溶剂和至少一种配体，其中：

墨水中颗粒的含量为墨水总重量的1重量％至40重量％；

墨水中溶剂的含量为墨水总重量的25重量％至97重量％；

墨水中配体的含量为墨水总重量的0.1重量％至8重量％；和

金属卤化物黏合剂的含量为墨水总重量的1重量％至60重量％。

9.一种光敏材料的制备方法，其包括以下步骤：

a)将根据权利要求1至8中任一项所述的墨水沉积到基底上；

b)对沉积的墨水进行退火。

10.根据权利要求9所述的方法，其中沉积的墨水在50℃至250℃的温度范围内进行退火。

11.根据权利要求9或10中任一项所述的方法，其中对沉积的墨水退火10分钟至5小时。

12.一种能够通过根据权利要求9至11中任一项所述的方法获得的光敏材料。

13.根据权利要求12所述的光敏材料，其中所述光敏材料是包含与金属卤化物结合的颗粒的连续导电膜。

14.一种器件，其包含至少一种根据权利要求12和13中任一项所述的光敏材料。

15.根据权利要求14所述的器件，其中所述器件包括：

-至少一个基底；

-至少一个电子接触层；

-至少一个电子传输层；和

-至少一个光敏层，其包含至少一种根据权利要求12和13中任一项所述的光敏材料；

其中所述器件具有垂直几何形状。

技术总结
本发明涉及一种墨水，其包含至少一种颗粒的胶体分散体和至少一种金属卤化物黏合剂，其中黏合剂是金属和卤素的解离盐。本发明还涉及制备光敏材料的方法、可通过本发明方法获得的光敏材料以及包含至少一种本发明的光敏材料的器件。

技术研发人员：马克·保斯托米斯;米歇尔·达米科;林雨朴;费利克斯·布苏菲;塞巴斯蒂安·德雷富斯;罗宾·费多;
受保护的技术使用者：奈科斯多特股份公司;
技术研发日：2020.04.24
技术公布日：2022.02.25