窗模块的制作方法

1.本公开大体涉及窗模块，并且更具体地，涉及窗模块及使用该窗模块制造显示设备的方法。


背景技术：

2.显示设备包括下部结构和设置在下部结构上的窗。下部结构包括像素和向像素提供驱动信号的驱动部。驱动部包括电路板、驱动电路和驱动线。窗可以保护下部结构免受外力和杂质的影响，并且可以以包括窗的窗模块的形式运输。
3.近年来，已经开发了柔性显示设备，并且因此，正在开发具有柔性特性的窗。由于窗具有柔性特性，所以窗容易被损坏。
4.在本背景技术部分中公开的以上信息仅用于理解本公开的背景技术，并且因此，其可以包括不构成现有技术的信息。


技术实现要素：

5.一些实施方式提供了窗模块以可靠地运输窗并提高显示设备的工艺良率。
6.一些实施方式提供了使用窗模块制造显示设备的方法。
7.根据实施方式的窗模块可以包括：窗、设置在窗的第一表面上的第一保护膜以及设置在窗的与第一表面相对的第二表面上的第二保护膜。第一保护膜相对于窗的第一剥离力可以大于第二保护膜相对于窗的第二剥离力。
8.根据实施方式，第一剥离力可以大于约10gf/in且小于约30gf/in。
9.根据实施方式，第二剥离力可以大于约1gf/in且小于约6gf/in。
10.根据实施方式，在平面图中，从窗的第一端部至第一保护膜的第一端部的第一最短距离可以小于从窗的第二端部至第一保护膜的第二端部的第二最短距离。
11.根据实施方式，窗可以包括：电路对应区域，包括窗的第一端部；以及显示对应区域，与电路对应区域相邻，并且包括窗的第二端部。
12.根据实施方式，第一最短距离可以大于约0.5mm且小于约1mm，以及第二最短距离可以大于约1mm且小于约2mm。
13.根据实施方式，在平面图中，从窗的第一端部至第二保护膜的一端部的第三最短距离可以大于第一最短距离和第二最短距离。
14.根据实施方式，第三最短距离可以大于约3mm且小于约13mm。
15.根据实施方式，第一保护膜可以具有第一厚度，第二保护膜可以具有第二厚度，并且第一厚度可以大于第二厚度。
16.根据实施方式，第一厚度可以大于约100μm且小于约150μm。
17.根据实施方案，第二厚度可以大于约50μm且小于约100μm。
18.根据实施方式，第二保护膜可以具有包括圆润的拐角的矩形形状。
19.根据实施方式，矩形形状的圆润的拐角中的每个的曲率半径可以大于约2mm且小
于约10mm。
20.根据实施方式，窗可以包括第一膜和第一粘合层，并且第一粘合层可以被层压至第一膜且接触第二保护膜。第一保护膜可以包括第二膜和第二粘合层，并且第二粘合层可以设置在第一膜和第二膜之间。
21.根据实施方式，窗还可以包括设置在第一膜和第一粘合层之间的遮光图案以及设置在第一膜上的硬涂层。
22.根据另一实施方式的窗模块可以包括：窗、设置在窗的第一表面上且具有第一厚度的第一保护膜以及设置在窗的与第一表面相对的第二表面上且具有小于第一厚度的第二厚度的第二保护膜。在平面图中，第一保护膜相对于窗的第一剥离力可以大于第二保护膜相对于窗的第二剥离力，从窗的第一端部至第一保护膜的第一端部的第一最短距离可以小于从窗的第二端部至第一保护膜的第二端部的第二最短距离，并且第二保护膜可以具有包括圆润的拐角的矩形形状。
23.根据实施方式，在平面图中，从窗的第一端部至第二保护膜的一端部的第三最短距离可以大于第一最短距离和第二最短距离。
24.根据实施方式，窗可以包括第一膜和第一粘合层，并且第一粘合层可以被层压至第一膜且接触第二保护膜。第一保护膜可以包括第二膜和第二粘合层，并且第二粘合层可以设置在第一膜和第二膜之间。
25.根据实施方式的制造显示设备的方法可以包括：准备窗模块，该窗模块包括窗、设置在窗的第一表面上的第一保护膜以及设置在窗的与第一表面相对的第二表面上的第二保护膜；从窗去除第二保护膜；在窗的第二表面上布置下部结构；以及从窗去除第一保护膜。第一保护膜相对于窗的第一剥离力可以大于第二保护膜相对于窗的第二剥离力。
26.根据实施方式，第一剥离力可以大于约10gf/in且小于约30gf/in，以及第二剥离力可以大于约1gf/in且小于约6gf/in。
27.根据本公开的实施方式的窗模块可以包括：窗、设置在窗上的第一保护膜以及设置在窗下方的第二保护膜。第一保护膜相对于窗的第一剥离力可以大于第二保护膜相对于窗的第二剥离力。在平面图中，从窗的一端部至第一保护膜的一端部的第一最短距离可以小于从窗的另一端部至第一保护膜的另一端部的第二最短距离。第一保护膜的第一厚度可以大于第二保护膜的第二厚度。第二保护膜可以具有包括圆润的拐角的矩形形状。因此，当第一保护膜和第二保护膜从窗去除时，可以不产生气泡，第二保护膜可以容易地从窗去除，可以防止包括在窗中的第一膜的表面被外来物质挤压的缺陷，第一保护膜可以不在电路区域中接触下部结构，并且可以分散施加至第二保护膜的外力。因此，窗可以被稳定地运输，并且可以提高显示设备的工艺良率。
28.应当理解，前述一般描述和下述详细描述两者是说明性的，并且旨在提供对本公开的进一步说明。
附图说明
29.附图被包括以提供对本公开的进一步理解，并且被并入本说明书中且构成本说明书的一部分，附图示出了本公开的一些实施方式，并且与说明书一起用于解释本发明构思。
30.图1是示意性地示出根据示例性实施方式的窗模块的平面图。
31.图2是示意性地示出图1的窗模块的剖视图。
32.图3是示意性地示出图1的窗模块中的最短距离的平面图。
33.图4是示意性地示出包括在图1的窗模块中的第二保护膜的平面图。
34.图5至图9是示意性地示出根据示例性实施方式制造显示设备的方法的剖视图。
具体实施方式
35.根据结合附图的下述详细描述，将更清楚地理解说明性的、非限制性的实施方式。
36.在本说明书和权利要求中，出于其含义和说明的目的，短语
“…
中的至少一个”旨在包括“选自
…
的群组中的至少一个”的含义。例如，“a和b中的至少一个”可以理解为意指“a、b、或者a和b”。
37.除非在本文中另外限定或指示，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与由本公开所属领域中的技术人员通常理解的相同的含义。还将理解，除非在本文中明确地如此限定，否则术语(诸如在常用词典中限定的术语)应被解释为具有与它们在相关领域的上下文中和本公开中的含义一致的含义，并且不应以理想的或过于正式的含义进行解释。
38.图1是示出根据实施方式的窗模块的示意性平面图。图2是示出图1的窗模块的示意性剖视图。例如，图2可以是沿着图1的线i-i’截取的示意性剖视图。
39.参照图1和图2，根据实施方式的窗模块1000可以包括窗100、第一保护膜200和第二保护膜300。
40.窗100可以包括第一膜110、第一粘合层120和遮光图案130。窗100还可以包括诸如硬涂层140和低反射层的功能层。窗100可以设置在下部结构(例如，图6的下部结构2000)上，并且可以保护下部结构免受外力的影响。
41.第一膜110可以包括透明玻璃或透明塑料。例如，第一膜110可以包括超薄钢化玻璃(utg)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚酰亚胺(pi)、聚醚砜(ps)、聚丙烯酸酯(par)、聚醚酰亚胺(pei)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚苯硫醚(pps)、聚芳酯、聚碳酸酯(pc)、聚亚芳基醚砜等。第一膜110的厚度可以大于约30μm且小于约80μm。因此，第一膜110可以具有柔性特性。
42.第一粘合层120可以层压至第一膜110。例如，第一粘合层120可以是光学透明粘合剂(oca)、光学透明粘合剂树脂(ocr)、压敏粘合剂(psa)等。第一粘合层120和第一膜110可以具有大体相同的面积。因此，第一粘合层120可以将第二保护膜300附接或结合至第一膜110。第一粘合层120可以将下部结构2000附接至第一膜110。
43.遮光图案130可以设置在第一膜110和第一粘合层120之间。遮光图案130可以阻挡光。在实施方式中，遮光图案130可以设置成围绕第一膜110的外部部分。遮光图案130可以与第一膜110的边缘间隔开预定距离。例如，遮光图案130可以设置成与下部结构2000的非发射区域对应。因此，可以减少显示设备(例如，图9的显示设备3000)的光泄漏。
44.硬涂层140可以设置在第一膜110上。例如，硬涂层140可以包括硅酮树脂(例如，倍半硅氧烷(ssq))。硬涂层140可以加工成具有防指纹功能。
45.第一保护膜200可以设置在窗100的第一表面s1上。例如，第一保护膜200可以具有包括圆润的拐角的矩形形状。第一保护膜200可以在窗100的运输过程期间保护窗100。在显
示设备3000的制造工艺期间，第一保护膜200可以从窗100去除。
46.第一保护膜200可以包括第二膜210和第二粘合层220。
47.第二膜210可以包括透明玻璃或透明塑料。例如，第二膜210可以包括玻璃、超薄钢化玻璃(utg)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚酰亚胺(pi)、聚醚砜(ps)、聚丙烯酸酯(par)、聚醚酰亚胺(pei)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚苯硫醚(pps)、聚芳酯、聚碳酸酯(pc)、聚亚芳基醚砜等。第二膜210可以保护窗100。
48.第二粘合层220可以设置在硬涂层140和第二膜210之间。例如，第二粘合层220可以是光学透明粘合剂(oca)、光学透明粘合剂树脂(ocr)、压敏粘合剂(psa)等。第二粘合层220和第二膜210可以具有大体相同的面积。因此，第二粘合层220可以将硬涂层140附接至第二膜210。
49.第二保护膜300可以设置在窗100的与第一表面s1相对的第二表面s2上。第二保护膜300可以在窗100的运输过程期间保护窗100。在显示设备3000的制造工艺期间，第二保护膜300可以从窗100去除。
50.第二保护膜300可以包括透明玻璃或透明塑料。例如，第二保护膜300可以包括玻璃、超薄钢化玻璃(utg)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚酰亚胺(pi)、聚醚砜(ps)、聚丙烯酸酯(par)、聚醚酰亚胺(pei)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚苯硫醚(pps)、聚芳酯、聚碳酸酯(pc)、聚亚芳基醚砜等。
51.在实施方式中，第二保护膜300可以不包括粘合层。例如，第一粘合层120可以将第二保护膜300附接至第一膜110。因此，可以减小第二保护膜300相对于窗100的剥离力。
52.剥离力可以意指将剥离纸(例如，第二保护膜300)与粘合层(例如，第一粘合层120)分离所需的力。剥离力可以通过已知方法测量。例如，剥离力可以在室温下测量，并且可以通过以约90
°
在约300mm/min的剥离速率(或脱离速率)下去除剥离纸来测量。然而，测量剥离力的方法不限于以上方法。
53.在实施方式中，第一保护膜200相对于窗100的第一剥离力可以大于第二保护膜300相对于窗100的第二剥离力。例如，第一剥离力可以大于约10gf/in且小于约30gf/in。第二剥离力可以大于约1gf/in且小于约6gf/in。
54.第一剥离力可以大于第二剥离力。因此，当第二保护膜300从窗100去除时，第一保护膜200和窗100之间可以不产生气泡。
55.第一剥离力可以小于约30gf/in。因此，当第一保护膜200从窗100去除时，下部结构2000和窗100之间可以不产生气泡。
56.第二剥离力可以小于约6gf/in。因此，第二保护膜300可以容易地从窗100去除。
57.在实施方式中，第一保护膜200的第一厚度th1可以大于第二保护膜300的第二厚度th2。例如，第一厚度th1可以大于约100μm且小于约150μm。第二厚度th2可以大于约50μm且小于约100μm。由于第一保护膜200的第一厚度th1大于约100μm，因此可以防止其中第一膜110的表面被外来物质挤压的缺陷。
58.图3是示出图1的窗模块中的最短距离的示意性平面图。
59.参照图2和图3，下部结构2000可以包括显示区域da和与显示区域da相邻的电路区域ca。像素px可以设置在显示区域da中，并且可以在显示区域da中显示图像。电路板、驱动电路和驱动线可以设置在电路区域ca中。例如，在电路区域ca中，可以设置柔性印刷电路板
fpcb、设置在柔性印刷电路板fpcb上的数据驱动电路dic以及连接数据驱动电路dic和像素px的扇出线fo。
60.窗100可以设置在下部结构2000上。窗100和下部结构2000可以具有大体相同的面积。
61.在实施方式中，窗100可以包括电路对应区域cca和显示对应区域dca。电路对应区域cca可以与电路区域ca对应，并且显示对应区域dca可以与显示区域da对应。电路对应区域cca可以包括窗100的第一端部ed1，并且显示对应区域dca可以包括窗100的第三端部ed3。
62.在实施方式中，第一保护膜200可以包括与第一端部ed1相邻的第二端部ed2和与第三端部ed3相邻的第四端部ed4。第二保护膜300可以包括与第二端部ed2相邻的第五端部ed5。
63.在实施方式中，在平面图中，从第一端部ed1至第二端部ed2的第一最短距离w1可以小于从第三端部ed3至第四端部ed4的第二最短距离w2。例如，第一最短距离w1可以大于约0.5mm且小于约1mm。第二最短距离w2可以大于约1mm且小于约2mm。由于第一最短距离w1小于约1mm，所以当第一保护膜200被去除时，第一保护膜200可以不在电路区域ca中接触下部结构2000。因此，可以保护设置在电路区域ca中的组件免受第一保护膜200的影响。例如，组件可以不与第一保护膜200缠结。
64.在实施方式中，在平面图中，从第一端部ed1至第五端部ed5的第三最短距离w3可以大于第一最短距离w1和第二最短距离w2中的每个。例如，第三最短距离w3可以大于约3mm且小于约13mm。由于第三最短距离w3设置成足够大，所以在窗模块1000的运输过程期间或在显示设备3000的制造工艺期间，工艺设施的拾取器可以抓持或握持第二保护膜300。
65.图4是示出包括在图1的窗模块中的第二保护膜的示意性平面图。
66.参照图4，第二保护膜300可以具有包括圆润的拐角301的矩形形状。例如，可以对第二保护膜300进行加工，使得拐角301具有曲率。在实施方式中，拐角301的曲率半径可以大于约2mm且小于约10mm。由于第二保护膜300具有包括圆润的拐角301的矩形形状，所以施加至第二保护膜300的外力ef可以被分散。因此，外力ef可以不施加至窗100，并且窗100可以被保护。
67.图5至图9是示出根据实施方式制造显示设备的方法的示意性剖视图。
68.参照图1和图5，在制造显示设备3000的方法中，可以提供包括窗100、设置在窗100的第一表面s1上的第一保护膜200以及设置在窗100的与第一表面s1相对的第二表面s2上的第二保护膜300的窗模块1000。
69.第二保护膜300可以从窗100去除。在这种情况下，如上所述，第二保护膜300相对于窗100的第二剥离力可以小于约6gf/in。因此，第二保护膜300可以容易地在区域a中从窗100去除。如上所述，第二剥离力可以小于第一剥离力。因此，当第二保护膜300从窗100去除时，在区域b中可以不产生气泡。
70.参照图1、图6和图7，下部结构2000可以设置在窗100的第二表面s2上。下部结构2000可以包括显示面板400、第三粘合层500、第三保护膜600、第四粘合层700、缓冲构件800和支承构件900。
71.如图7中所示，显示面板400可以包括衬底410、缓冲层420、有源图案430、第一绝缘
层ild1、栅电极440、第二绝缘层ild2、源电极451、漏电极452、通孔绝缘层via、第一电极461、发射层462、第二电极463、像素限定层pdl、第一无机层471、有机层472以及第二无机层473。
72.衬底410可以包括玻璃、石英、塑料等。例如，衬底410可以是塑料衬底，并且可以包括聚酰亚胺(pi)。在实施方式中，衬底410可以具有其中至少一个聚酰亚胺层和至少一个阻挡层交替堆叠的结构。
73.缓冲层420可以设置在衬底410上。缓冲层420可以包括氧化硅、氮化硅等。缓冲层420可以防止杂质扩散至有源图案430中。
74.有源图案430可以设置在缓冲层420上。例如，有源图案430可以包括硅半导体、氧化物半导体等。硅半导体可以包括非晶硅或多晶硅。有源图案430可以响应于提供给栅电极440的栅极信号而通过或阻断电流。例如，离子可以选择性地注入至有源图案430中。有源图案430可以包括离子注入至其中的源极区域和漏极区域以及没有离子注入至其中的沟道区域。
75.第一绝缘层ild1可以包括绝缘材料，并且可以覆盖有源图案430。例如，第一绝缘层ild1可以包括氧化硅、氮化硅、氧化钛、氧化钽等。第一绝缘层ild1可以将有源图案430与栅电极440电绝缘。
76.栅电极440可以包括金属、合金、导电金属氧化物等，并且可以设置在第一绝缘层ild1上。例如，栅电极440是银(ag)、包括银的合金、钼(mo)、包括钼的合金、铝(al)、包括铝的合金、氮化铝(aln)、钨(w)、氮化钨(wn)、铜(cu)、镍(ni)、铬(cr)、氮化铬(crn)、钛(ti)、钽(ta)、铂(pt)、钪(sc)、铟锡氧化物(ito)、铟锌氧化物(izo)等。
77.第二绝缘层ild2可以包括绝缘材料，并且可以覆盖栅电极440或与栅电极440重叠。例如，第二绝缘层ild2可以包括氧化硅、氮化硅、氧化钛、氧化钽等。第二绝缘层ild2可以将栅电极440与源电极451电绝缘，并且将栅电极440与漏电极452电绝缘。
78.源电极451和漏电极452可以包括金属、合金、导电金属氧化物等，并且可以设置在第二绝缘层ild2上。例如，源电极451和漏电极452可以包括银(ag)、包括银的合金、钼(mo)、包括钼的合金、铝(al)、包括铝的合金、氮化铝(aln)、钨(w)、氮化钨(wn)、铜(cu)、镍(ni)、铬(cr)、氮化铬(crn)、钛(ti)、钽(ta)、铂(pt)、钪(sc)、铟锡氧化物(ito)、铟锌氧化物(izo)等。
79.通孔绝缘层via可以覆盖源电极451和漏电极452或与源电极451和漏电极452重叠，可以包括有机绝缘材料，并且可以具有大体平坦的顶表面。例如，通孔绝缘层via可以包括光刻胶、聚丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂等。
80.第一电极461可以设置在通孔绝缘层via上。第一电极461可以包括金属、合金或导电金属氧化物。例如，第一电极461可以包括银(ag)、包括银的合金、钼(mo)、包括钼的合金、铝(al)、包括铝的合金、氮化铝(aln)、钨(w)、氮化钨(wn)、铜(cu)、镍(ni)、铬(cr)、氮化铬(crn)、钛(ti)、钽(ta)、铂(pt)、钪(sc)、铟锡氧化物(ito)、铟锌氧化物(izo)等。第一电极461可以从漏电极452接收第一电压。
81.像素限定层pdl可以设置在通孔绝缘层via上，并且暴露第一电极461的上表面的一部分的开口可以形成在像素限定层pdl中。例如，像素限定层pdl可以包括诸如聚酰亚胺树脂(例如，光敏聚酰亚胺树脂(pspi))、光刻胶、聚丙烯酸树脂和丙烯酸树脂的有机材料或
诸如氧化硅和氮化硅的无机材料。
82.发射层462可以设置在第一电极461上。发射层462可以具有包括有机发射层、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层的多层结构。
83.第二电极463可以设置在发射层462上，并且可以接收第二电压。第二电极463可以包括金属、合金、导电金属氧化物等。例如，第二电极463可以包括银(ag)、包括银的合金、钼(mo)、包括钼的合金、铝(al)、包括铝的合金、氮化铝(aln)、钨(w)、氮化钨(wn)、铜(cu)、镍(ni)、铬(cr)、氮化铬(crn)、钛(ti)、钽(ta)、铂(pt)、钪(sc)、铟锡氧化物(ito)、铟锌氧化物(izo)等。
84.第一电压与第二电压之间的电压差可以引起发射层462产生光。因此，第一电极461、发射层462和第二电极463可以限定为有机发光二极管。
85.薄膜封装层可以设置在第二电极463上。薄膜封装层可以防止湿气和氧气从外部渗透。例如，薄膜封装层可以具有其中第一无机层471、有机层472和第二无机层473交替堆叠的结构。
86.再次参照图6，第三粘合层500可以设置在显示面板400下方。例如，第三粘合层500可以是光学透明粘合剂(oca)、光学透明粘合剂树脂(ocr)、压敏粘合剂(psa)等。
87.第三保护膜600可以设置在第三粘合层500下方。第三保护膜600可以防止湿气和氧气从外部渗透，并且可以吸收外部冲击。
88.第四粘合层700可以设置在第三保护膜600下方。例如，第四粘合层700可以是光学透明粘合剂(oca)、光学透明粘合剂树脂(ocr)、压敏粘合剂(psa)等。
89.缓冲构件800可以设置在第四粘合层700下方。缓冲构件800可以通过减轻或吸收外部冲击来保护显示面板400。例如，缓冲构件800可以包括能够通过含有空气来减轻或吸收冲击的诸如垫或海绵的材料。缓冲构件800可以包括丙烯酸树脂、聚氨酯、热塑性聚氨酯、乳胶、聚氨酯泡沫体、聚苯乙烯泡沫体等。
90.支承构件900可以设置在缓冲构件800下方。支承构件900可以支承显示面板400。例如，支承构件900可以包括作为镍(ni)和铁(fe)的合金的因瓦合金、不锈钢(sus)、钛(ti)、铜(cu)等。与折叠区域fa重叠的孔h可以形成在支承构件900中，窗100和下部结构2000在折叠区域fa中折叠。
91.参照图1和图8，可以从窗100去除第一保护膜200。在这种情况下，如上所述，第一保护膜200相对于窗100的第一剥离力可以小于约30gf/in。因此，当第一保护膜200从窗100去除时，在下部结构2000和窗100之间的区域c中可以不产生气泡。如上所述，由于从第一端部ed1至第二端部ed2的第一最短距离w1小于约1mm，所以第一保护膜200可以不在电路区域ca中接触下部结构2000。因此，可以保护设置在电路区域ca中的组件免受第一保护膜200的影响。例如，组件可以不与第一保护膜200缠结。
92.参照图1和图9，可以制造显示设备3000。例如，显示设备3000可以包括窗100和下部结构2000。
93.根据本公开的实施方式的窗模块可以包括窗、设置在窗上的第一保护膜以及设置在窗下方的第二保护膜。第一保护膜相对于窗的第一剥离力可以大于第二保护膜相对于窗的第二剥离力。在平面图中，从窗的一端部至第一保护膜的一端部的第一最短距离可以小于从窗的另一端部至第一保护膜的另一端部的第二最短距离。第一保护膜的第一厚度可以
大于第二保护膜的第二厚度。第二保护膜可以具有包括圆润的拐角的矩形形状。因此，当第一保护膜和第二保护膜从窗去除时，可以不产生气泡，第二保护膜可以容易地从窗去除，可以防止包括在窗中的第一膜的表面被外来物质挤压的缺陷，第一保护膜可以不在电路区域中接触下部结构，并且可以分散施加至第二保护膜的外力。因此，窗可以被稳定地运输，并且可以提高显示设备的工艺良率。
94.尽管本文中已经描述了特定的实施方式和实现方式，但是根据该描述，其它实施方式和修改将是显而易见的。因此，本公开不限于这些实施方式，而是限于所附权利要求的更宽泛的范围以及对于本领域中普通技术人员来说是显而易见的各种明显的修改和等效布置。