一种光学膜及其制备方法与流程

1.本技术涉及光学膜技术领域，且特别涉及一种光学膜及其制备方法。


背景技术：

2.近年来，随着显示技术的飞速发展，纤薄设计的高清显示屏幕俨然成为市场的宠儿，高分辨率、对比度强、色彩绚丽的显示屏层出不穷，可视范围角度大、色域广、色彩还原度高的显示屏不断涌现，为人们带来多姿多彩的视觉感官体验。
3.携带式的显示设备，例如手机、平板计算机、电子书、笔记本计算机及车载显示器等，随着人工智能的发展，尤其是车载显示内容的持续丰富，使得车载液晶面板日趋朝着高精细、高亮度、大尺寸化、广视角化等方向发展。但若户外光线较强，常会因显示屏反射外界光线而降低了显示内容的色彩与清晰度，这对汽车的安全行驶极为不利。通常人们会在显示屏表面贴附一层做防眩光处理的膜，使反射光向不同角度散射，其中防眩光膜表面的凹凸结构可以通过在原料中添加粒子或机械压印的方式实现，但经粗糙化处理的防眩光膜，所呈现的图像清晰度却不尽如人意。
4.为了降低外界光线反射的影响，削弱反射光的强度，如实呈现显示屏原先的色彩与画质，近年来具有减反射功能的复合膜不断涌现，通常该类膜由光学透明基膜、高折射率层（或硬涂层）与低折射率层叠加组合而成，如附图1所示。当外界入射光经由空气照射到减反复合膜上时，由于该减反复合膜是由不同折射率的材料组合而成，自然光在不同折射率材料的界面处产生反射，反射光因不同材料的折射率与厚度差异而产生光程差，实际上经由不同折射率与膜厚设计的复合膜可使反射的光产生干涉而形成反射光强抵减效应，如此可大幅降低反射光的强度。
5.一般不同材料的折射率差异越大，相应反射光的强度越低，但若高折射率层与透明基膜之间的折射率差的绝对值≥0.03，则会因透明基膜与高折射率层的折射率差异过大而形成干涉纹（如图2，彩虹纹），实际上两者的折射率差的绝对值越大，所形成的干涉纹越明显，其会严重影响显示屏所呈现图像的饱和度。


技术实现要素：

6.高折射率层与透明基膜的折射率差的绝对值越大，越容易形成干涉条纹，如果高折射率层的折射率大于透明基膜（例如：透明基膜为tac透明基膜或pmma透明基膜）的折射率；同时，高折射率层的折射率大于低折射率层的折射率，高折射率层与低折射率层的折射率差值越大，减反射效果越明显。由于透明基膜的折射率是透明基膜的性质自身决定的，透明基膜一经选定，其折射率为一定值，为了减小高折射率层与透明基膜之间的折射率差值，需要使高折射率层的折射率越低越好；而高折射率层的折射率越低，其与低折射率层之间的折射率差值也就会越小，则不利于光学膜减反射功效的体现。所以，如何能够保证光学膜低折射率层的减反射效果，且同时能够避免干涉条纹的产生，对光学膜的品质而言尤其重要。
7.针对以上发现的不足，本技术实施例的目的包括提供一种光学膜及其制备方法，可保证高折射率层与透明基膜的折射率差的绝对值较大（高折射率层与低折射率层的折射率差值也较大，低折射率层的减反射效果较好）的同时，能够缓解或避免干涉纹的产生。
8.第一方面，本技术提供一种光学膜的制备方法，包括如下步骤：将高折射率涂液涂布于透明基膜的一表面并保持常温0.5~1.5 min，然后在第一温度下干燥0.5~1min，再在第二温度下干燥1~2.5 min，后进行紫外照射得到高折射率层。其中，高折射率涂液中的溶剂包括能够侵蚀透明基膜的第一溶剂，第一溶剂占总溶剂的质量百分数为40 %及以上；第一温度小于第二温度，且第一温度小于溶剂的沸点。最后在高折射率层的表面形成低折射率层。
9.由于高折射率涂液中含有能够侵蚀透明基膜的第一溶剂，且第一溶剂的含量较高，将高折射率涂液涂布于透明基膜并保持常温0.5~1.5 min，可以使第一溶剂明显侵蚀透明基膜的表面；然后在低温（第一温度）下进行干燥，一方面，部分第一溶剂缓慢挥发，另一方面，剩余的第一溶剂继续侵蚀透明基膜的表面，侵蚀透明基膜表面的第一溶剂的含量逐渐减少，第一溶剂对透明基膜的侵蚀强度逐渐减弱；然后再在高温（第二温度）下进行干燥，可以使第一溶剂彻底挥发，不再对透明基膜进行侵蚀。如此，可以在透明基膜的表面形成不规则的微凹凸结构（即刚开始侵蚀较强，低温干燥后侵蚀减弱的凹凸结构）的缓冲层，使得入射光在透明基膜与高折射率层界面的微凹凸缓冲层处反射时发生光散射，在透明基膜与高折射率层的折射率差绝对值较大的同时，能够缓解或避免干涉纹的产生。同时，在第一溶剂侵蚀透明基膜的同时，高折射率涂液中的其他成分进入到微凹凸缓冲层内，在紫外光照条件下发生固化，固化后的高折射率层与透明基膜的附着力增强，提高了光学膜的结构稳定性。
10.在本技术的部分实施例中，透明基膜为tac（三醋酸纤维素，triacetyl cellμlose）透明基膜，第一溶剂为丁酮、环己酮、环戊酮、乙酸乙酯和甲基环己酮中的至少一种。
11.在本技术的部分实施例中，透明基膜为pmma（聚甲基丙烯酸甲酯，polymethyl methacrylate）透明基膜，第一溶剂为苯、甲苯和丙酮中的至少一种。
12.在本技术的部分实施例中，透明基膜为cpi（无色透明聚酰亚胺，colorless polyimide）透明基膜，第一溶剂为n,n-二甲基甲酰胺、n,n-二甲基乙酰胺和n-甲基吡咯烷酮中的至少一种。
13.在本技术的部分实施例中，高折射率涂液的固含量为15~25 %，高折射率涂液的涂覆量为20~42 g/m2。通过该固含量以及该涂覆量的配合，可以保证第一溶剂侵蚀透明基膜有足够的蚀刻量，同时结合保持常温的蚀刻时间和低温干燥的工艺控制可保证第一溶剂对透明基膜的侵蚀程度和高折射率涂液中的其他成分迁入到微凹凸缓冲层内的速度，以便使最终得到的光学膜具有较轻或无干涉条纹的同时，其高折射率层与透明基膜的附着力也很强。
14.在本技术的部分实施例中，低折射率层的制备方法包括：将低折射率涂液涂布于高折射率层的表面，然后在70~100 ℃条件下干燥1~3 min，再在氧气浓度小于500 ppm、光剂量在300~500 mj/cm2的条件下紫外照射，得到低折射率层。
15.低折射率层相对较薄，在低氧条件下进行紫外光固化反应，避免了“氧阻聚”，使得光学膜的耐磨性更好。
16.在本技术的部分实施例中，高折射率层与透明基膜的折射率差的绝对值在0.03~0.12范围内，高折射率层比低折射率层的折射率大0.12~0.25。高折射率涂液中含有折射率调整液；其中，折射率调整液包括氧化钛分散液和氧化锆分散液中的至少一种。
17.通过折射率调整液的添加，可以调节高折射率层的折射率，使高折射率层的折射率较大；也可以使高折射率层与低折射率层之间的折射率差值较大，可以达到0.12~0.25；同时，高折射率层与透明基膜之间的折射率差的绝对值也较大，可以达到0.03~0.12。但是，其与高折射率层中的第一溶剂和高折射率层的制备方法结合，即使高折射率层与透明基膜之间的折射率差的绝对值较大，也能够缓解或避免干涉条纹的产生，可以使光学膜的性能更加优异。
18.在本技术的部分实施例中，低折射率涂液的固含量为2~3 %，低折射率涂液的涂覆量为3~10 g/m2。通过该固含量以及该涂覆量的配合，可以保证固化成型后的低折射率层厚度满足使用要求，同时折射率较低。
19.在本技术的部分实施例中，高折射率涂液中含有低聚物，高折射率涂液中的溶剂还包括能够溶解低聚物的第二溶剂，第一溶剂占总溶剂的质量百分数为40~70 %。
20.高折射率涂液中还添加有其他能够溶解低聚物的第二溶剂，可以使低聚物有较好的流动性，在透明基膜的表面形成微凹凸缓冲层的过程中，低聚物更加容易进入到微凹凸缓冲层内，以便后续固化形成高折射率层以后，高折射率层与透明基膜之间的结合力更佳。
21.在本技术的部分实施例中，如果第一溶剂包括低沸点溶剂，则第二溶剂包括高沸点溶剂；如果第一溶剂包括高沸点溶剂，则第二溶剂包括低沸点溶剂。
22.通过高沸点溶剂和低沸点溶剂搭配使用，可以使高折射率涂液在干燥的过程中，不会因干燥温度与使用单一溶剂的沸点温度较为接近，而使溶剂发生局部“蒸腾”现象，从而降低光学膜形成“发白”、“气孔”等缺陷的几率。
23.第二方面，本技术实施例提供一种光学膜，由上述制备方法制备得到。该光学膜的减反射效果较好，在高折射率层与透明基膜的折射率差的绝对值较大的同时，能够缓解或避免干涉纹的产生。
24.在本技术的部分实施例中，光学膜的透明基膜的厚度为25~250 μm；高折射率层的厚度为3~5m，低折射率层的厚度为0.09~0.11m。上述各层的厚度可以使光学膜的综合性能较佳。
附图说明
25.为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
26.图1为现有技术的光学膜的光线传输示意图；图2为现有技术的光学膜的实物图；图3为本技术实施例提供的光学膜的制备方法的工艺流程图；图4为本技术实施例1提供的光学膜的光线传输示意图；图5为本技术实施例1提供的光学膜的实物图；
min；第一温度下（低温干燥）的时间可以是0.5 min、0.8 min或1 min；第二温度下（高温干燥）的时间可以是1 min、1.5 min、2 min或2.5 min。
33.需要说明的是：高折射率涂液中的溶剂可以是单一溶剂，也可以是混合溶剂，如果高折射率涂液中的溶剂是单一溶剂，则第一温度小于该单一溶剂的沸点；如果高折射率涂液中的溶剂是混合溶剂，则第一温度小于该混合溶剂中的沸点最低的溶剂的沸点。
34.本技术中，紫外照射的条件可以是：光剂量在350~500 mj/cm2的条件下紫外照射。作为示例性地，光剂量为350 mj/cm2、400 mj/cm2、450 mj/cm2或500 mj/cm2。
35.本技术中，透明基膜的厚度为25~250 μm；可选地，透明基膜的厚度为25~80 μm、80~150 μm或150~250 μm。作为示例性地，透明基膜的厚度为25μm、30μm、40 μm、60 μm、80 μm、100 μm、125μm、188 μm或250 μm。如果透明基膜为tac（三醋酸纤维素）透明基膜，第一溶剂为丁酮、环己酮、环戊酮、乙酸乙酯和甲基环己酮中的至少一种；可以较好地侵蚀tac透明基膜。
36.可选地，基于tac透明基膜，如果第一溶剂为丁酮或/和乙酸乙酯，高折射率层的制备方法是：将所述高折射率涂液涂布于透明基膜的一表面并保持常温50~70s，然后在温度为48~52 ℃条件下干燥0.5~1 min，再在88~92 ℃条件下干燥1.5~2 min，后进行紫外照射得到高折射率层。
37.可选地，基于tac透明基膜，如果第一溶剂为环己酮或/和甲基环己酮，高折射率层的制备方法是：将所述高折射率涂液涂布于透明基膜的一表面并保持常温1~1.5 min，然后在温度为68~72 ℃条件下干燥40s~1min，再在102~107 ℃条件下干燥1~1.5min，后进行紫外照射得到高折射率层。
38.可选地，基于tac透明基膜，如果第一溶剂为环戊酮，高折射率层的制备方法是：将所述高折射率涂液涂布于透明基膜的一表面并保持常温0.5~1 min，然后在温度为58~62 ℃条件下干燥0.5~1 min，再在93~97 ℃条件下干燥1.5~2 min，后进行紫外照射得到高折射率层。
39.如果透明基膜为pmma（聚甲基丙烯酸甲酯）透明基膜，第一溶剂为苯、甲苯和丙酮中的至少一种；可以较好地侵蚀pmma透明基膜。
40.可选地，基于pmma透明基膜，如果第一溶剂为甲苯或/和苯，高折射率层的制备方法是：将所述高折射率涂液涂布于透明基膜的一表面并保持常温1~1.5 min，然后在温度为58~62 ℃条件下干燥0.5~1 min，再在95~105℃条件下干燥2~2.5min，后进行紫外照射得到高折射率层。
41.可选地，基于pmma透明基膜，如果第一溶剂为丙酮，高折射率层的制备方法是：将所述高折射率涂液涂布于透明基膜的一表面并保持常温1~1.5 min，然后在温度为38~42 ℃条件下干燥40s ~1 min，再在88~92 ℃条件下干燥1.5~2 min，后进行紫外照射得到高折射率层。
42.如果透明基膜为cpi（透明聚酰亚胺）透明基膜，第一溶剂为n,n-二甲基甲酰胺、n,n-二甲基乙酰胺和n-甲基吡咯烷酮中的至少一种；可以较好地侵蚀cpi透明基膜。
43.可选地，基于cpi透明基膜的第一溶剂，高折射率层的制备方法是：将所述高折射率涂液涂布于透明基膜的一表面并保持常温1~1.5 min，然后在温度为53~57 ℃条件下干燥0.5~1 min，再在108~112 ℃条件下干燥2~2.5 min，后进行紫外照射得到高折射率层。
44.本技术中，单体为邻苯基苯氧基乙基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、丙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯、丙氧化甘油三丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯中的一种或多种。
45.光引发剂为1-羟基环已基苯基酮（184）、1,1'-(亚甲基二-4、1-亚苯基)双[2-羟基-2-甲基-1-丙酮](127)、2-羟基-甲基苯基丙烷-1-酮（1173）、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮（907）、安息香双甲醚（651）、2,4,6(三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦（tpo）等。
[0046]
本技术中，低聚物可以是聚氨酯类丙烯酸酯、环氧类丙烯酸酯、聚酯类丙烯酸酯和纯丙烯酸中的一种或多种。可选地，高折射率涂液中还添加有能够溶解低聚物的第二溶剂，第一溶剂占总溶剂的质量百分数为40~70 %。
[0047]
高折射率涂液中还添加有其他能够溶解低聚物的第二溶剂，可以使低聚物有较好的流动性，在透明基膜的表面形成微凹凸缓冲层的过程中，低聚物更加容易进入到微凹凸缓冲层内，以便后续固化形成高折射率层以后，高折射率层与透明基膜之间的结合力更佳。
[0048]
作为示例性地，第一溶剂占总溶剂的质量百分数为70%，第二溶剂占总溶剂的质量百分数为30%；或第一溶剂占总溶剂的质量百分数为60%，第二溶剂占总溶剂的质量百分数为40%；或第一溶剂占总溶剂的质量百分数为50%，第二溶剂占总溶剂的质量百分数为50%；或第一溶剂占总溶剂的质量百分数为40%，第二溶剂占总溶剂的质量百分数为60%。
[0049]
可选地，如果第一溶剂包括低沸点溶剂，则第二溶剂包括高沸点溶剂；如果第一溶剂包括高沸点溶剂，则第二溶剂包括低沸点溶剂。通过高沸点溶剂和低沸点溶剂搭配使用，可以使高折射率涂液在干燥的过程中，不会因干燥温度与使用单一溶剂的沸点温度较为接近，而使溶剂发生局部“蒸腾”现象，从而降低光学膜形成“发白”、“气孔”等缺陷的几率。
[0050]
本技术中，高折射率涂液的固含量为15~25 %，高折射率涂液的涂覆量为20~42g/m2。通过该固含量以及该涂覆量的配合，可以控制第一溶剂对透明基膜的侵蚀程度，以便在减轻或避免干涉条纹的同时能够增强高折射率层与透明基膜的附着力。作为示例性地，高折射率涂液的固含量为15%、18%、20%、22%或25 %；高折射率涂液的涂覆量为20 g/m2、25 g/m2、30 g/m2、35 g/m2或42 g/m2。
[0051]
通过上述的固含量和涂覆量的限定，还可以控制高折射率层的厚度为3~5 m；作为示例性地，高折射率层的厚度可以为3 m、3.5 m、4 m、4.2 m、4.4 m、4.6 m、4.8 m或5 m。
[0052]
可选地，高折射率涂液中还可以添加流平剂，流平剂可以是氟系流平剂、有机硅氧烷流平剂和有机硅改性的丙烯酸流平剂中的一种或多种。可选地，流平剂可以是毕克化学的byk-307、byk-310、byk-333、byk 3560、byk 3565、byk-377、byk-378；日本尼欧斯的ftergent 602a；大日本油墨化学的f-445、f-470、f-479、f-553、f-556中的一种或多种。
[0053]
其中，如果高折射率涂液中的流平剂为byk 3560、byk 3565、ftergent 602a和f-470中的至少一种，其不仅不影响高折射率涂液的表面张力，且添加了上述流平剂形成的高折射率层重涂性能优异，后续低折射率涂液经溶剂稀释后加入常用流平剂，能够非常容易润湿高折射率层表面，从而使得形成的高折射率层具有良好的可加工性。
[0054]
s120，在高折射率层的表面形成低折射率层。将低折射率涂液涂布于高折射率层的表面，然后在70~100℃条件下干燥1~3 min，再在氧气浓度小于500 ppm、光剂量在300~500 mj/cm2的条件下紫外照射，得到低折射率层。
[0055]
低折射率层很薄，在低氧条件下进行紫外光固化反应，避免“氧阻聚”，，使得光学膜的耐磨性更好。
[0056]
可选地，涂布低折射率涂液的方法可以是狭缝涂布法、微凹版涂布法、刮刀涂布法、mayer棒涂法、辊涂法和刮板涂布法来形成涂层。如果涂布的方式选择为微凹版涂布法和狭缝涂法，可以使涂布效果更好。
[0057]
作为示例性地，低折射率涂液的干燥条件为：在温度为70 ℃的条件下干燥3 min；或在温度为85 ℃的条件下干燥2 min；或在温度为100℃的条件下干燥1min；紫外照射的条件为：在氧气浓度为100 ppm、光剂量为350 mj/cm2的条件下紫外照射；或在氧气浓度为200 ppm、光剂量为400 mj/cm2的条件下紫外照射；或在氧气浓度为300 ppm、光剂量为450 mj/cm2的条件下紫外照射；或在氧气浓度为400 ppm、光剂量为500 mj/cm2的条件下紫外照射。
[0058]
本技术中，高折射率层与透明基膜的折射率差的绝对值在0.03~0.12范围内，高折射率层比低折射率层的折射率大0.12~0.25。高折射率涂液中含有折射率调整液；其中，折射率调整液包括氧化钛分散液和氧化锆分散液中的至少一种。低折射率涂液中含有低折射率涂料、溶剂和流平剂；其中，流平剂可以与高折射率涂液中的流平剂一致。
[0059]
通过折射率调整液的添加，可以调节高折射率层的折射率，使高折射率层的折射率值较大；还可以使高折射率层与低折射率层之间的折射率差值较大，可以达到0.12~0.25；同时，高折射率层与透明基膜之间的折射率差绝对值也较大，可以达到0.03~0.12。但是，其与高折射率层中的第一溶剂和高折射率层的制备方法结合，即使高折射率层与透明基膜之间的折射率差的绝对值较大，也能够缓解或避免干涉条纹的产生，可以使光学膜的性能更加优异。
[0060]
需要说明的是：低折射率涂料为市面上可以购买到的低折射率涂料，例如：日本荒川化学生产的sl-023、日挥触媒化成生产的elcom p-5062、日本荒川化学生产的sl-044等。
[0061]
可选地，高折射率层与透明基膜折射率差的绝对值在0.04~0.11，高折射率层比低折射率层的折射率大0.15~0.25；或高折射率层与透明基膜折射率差的绝对值在0.06~0.11，高折射率层比低折射率层的折射率大0.15~0.2。
[0062]
本技术中，低折射率涂液的固含量为2~3 %，低折射率涂液的涂覆量为3~10 g/m2。通过该固含量以及该涂覆量的配合，可以保证固化成型后的低折射率层厚度满足使用要求，同时可以控制低折射率层的折射率较低。作为示例性地，低折射率涂液的固含量为2%、2.2%、2.4%、2.6%、2.8%或3.0 %；低折射率涂液的涂覆量为3 g/m2、5 g/m2、8 g/m2或10 g/m2。
[0063]
通过上述的固含量和涂覆量的限定，还可以控制低折射率层的厚度为0.09~0.11 m；作为示例性地，低折射率层的厚度可以为0.09 m、0.10 m或0.11 m。
[0064]
通过上述方法可以制备得到光学膜，该光学膜包括透明基膜、附着于透明基膜表面的高折射率层，附着于高折射率层表面的低折射率层。
[0065]
本技术中，由于高折射率涂液中添加有能够侵蚀透明基膜的第一溶剂，且在制备高折射率层的时候，将高折射率涂液置于透明基膜的一表面并保持常温0.5~1.5 min，然后
在第一温度下干燥0.5~1min，再在第二温度下干燥1~2.5 min，后进行紫外照射得到高折射率层（第一温度小于第二温度，且第一温度小于溶剂的沸点），后进行紫外照射得到高折射率层。
[0066]
通过第一溶剂和高折射率层的形成方法的配合，可以使透明基膜的表面形成不规则的微凹凸结构（即刚开始侵蚀较强，保持常温后侵蚀减弱的凹凸结构）的缓冲层，使得入射光在透明基膜与高折射率层界面的微凹凸结构处反射时发生光散射，在透明基膜与高折射率层的折射率差的绝对值较大的同时，能够缓解或避免干涉纹的产生。
[0067]
可选地，由于高折射率涂液中还包括能够溶解低聚物的第二溶剂，则在上述保持常温和干燥过程中，低聚物容易进入到上述的微凹凸结构内，在紫外光照条件下发生固化，固化后的高折射率层与透明基膜的附着力增强，高折射率层与透明基膜之间的结合力更佳，提高了光学膜的耐候性。
[0068]
可选地，由于高折射率涂液中可以添加折射率调整液，低折射率涂液中主要成分之一为低折射率涂料，可以使高折射率层与低折射率层之间的折射率差值较大，同时，高折射率层与透明基膜之间的折射率差的绝对值也较大，既可以缓解或避免干涉条纹的产生，又可以使低折射率层的减反射效果较好，可以使光学膜的性能更加优异。
[0069]
为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
[0070]
实施组一本实施组提供一种光学膜，其包括从下至上依次层叠的透明基膜和附着于透明基膜上的高折射率层，附着于高折射率层上的低折射率层。制备该光学膜的成分及部分反应条件如表1所示：表1 光学膜的成分及部分反应条件
该光学膜的制备方法为：（1）、配置高折射率涂液：将表1中的聚氨酯丙烯酸酯低聚物、活性单体和溶剂按照表1中的比例混合，搅拌35 min后，加入表1中的光引发剂和流平剂继续搅拌20 min，制得高折射率涂液。
[0071]
（2）、将高折射率涂液涂覆在60 m厚的tac基膜（韩国晓星生产，型号：pg601s）上，高折射率涂液的涂覆量和保持常温的时间参见表1，在50℃条件下干燥0.5min，再在90℃条件下干燥2min，通过光剂量在350 mj/cm2的高压汞灯紫外线照射下，得到高折射率层。
[0072]
（3）、将低折射率涂液lr1涂覆在上述高折射率层上，在80℃条件下干燥2 min，再在氧气浓度200 ppm、光剂量在350 mj/cm2的高压汞灯紫外线照射下，得到低折射率层。
[0073]
实施组二本实施组提供一种光学膜，其包括从下至上依次层叠的透明基膜和附着于透明基膜上的高折射率层，附着于高折射率层上的低折射率层。制备该光学膜的成分及部分反应条件如表2所示：表2 光学膜的成分及部分反应条件
该光学膜的制备方法为：（1）、配置高折射率涂液：将表2中的聚氨酯丙烯酸酯低聚物、活性单体和溶剂按照表2中的比例混合，搅拌35 min后，加入表2中的光引发剂和流平剂继续搅拌20 min，制得高折射率涂液。
[0074]
（2）、将高折射率涂液涂覆在40 m厚的tac基膜（日本柯尼卡生产，型号：kc4uaw）上，高折射率涂液的涂覆量、保持常温的时间以及干燥方式参见表2，通过光剂量在350 mj/cm2的高压汞灯紫外线照射下，得到高折射率层。
[0075]
（3）、将低折射率涂液lr1涂覆在上述高折射率层上，在80℃条件下干燥2 min，再在氧气浓度150 ppm、光剂量在300 mj/cm2的高压汞灯紫外线照射下，得到低折射率层。
[0076]
实施组三本实施组提供一种光学膜，其包括从下至上依次层叠的透明基膜和附着于透明基膜上的高折射率层，附着于高折射率层上的低折射率层。制备该光学膜的成分及部分反应条件如表3所示：表3 光学膜的成分及部分反应条件
该光学膜的制备方法为：（1）、配置高折射率涂液：将表3中的聚氨酯丙烯酸酯低聚物、活性单体和溶剂按照表3中的比例混合，搅拌35 min后，加入光引发剂和流平剂继续搅拌20 min后，制得高折射率涂液。
[0077]
（2）、将高折射率涂液涂覆在40 m厚的pmma基膜（日本大仓工业生产，型号：oxis-zu）上，高折射率涂液的涂覆量、保持常温的时间及干燥方式参见表3，通过光剂量在350 mj/cm2的高压汞灯紫外线照射下，得到高折射率层。
[0078]
（3）、将低折射率涂液lr2涂覆在上述高折射率层上，在90℃条件下干燥2 min，再在氧气浓度350 ppm、光剂量在500 mj/cm2的高压汞灯紫外线照射下，得到低折射率层。
[0079]
实施组四本实施组提供一种光学膜，其包括从下至上依次层叠的透明基膜和附着于透明基膜上的高折射率层，附着于高折射率层上的低折射率层。制备该光学膜的成分及部分反应条件如表4所示：表4 光学膜的成分及部分反应条件
该光学膜的制备方法为：（1）、配置高折射率涂液：将表4中的聚氨酯丙烯酸酯低聚物、活性单体和溶剂按照表4中的比例混合，搅拌35 min后，加入光引发剂和流平剂继续搅拌20 min后，制得高折射率涂液。
[0080]
（2）、将高折射率涂液涂覆在80 m厚的cpi基膜（韩国kolon生产，牌号c80）上，高折射率涂液的涂覆量和保持常温的时间参见表4，在55℃条件下干燥0.5min，再在110℃条件下干燥2 min，通过光剂量在350 mj/cm2的高压汞灯紫外线照射下，得到高折射率层。
[0081]
（3）、将低折射率涂液lr3涂覆在上述高折射率层上，在95℃条件下干燥2 min，再在氧气浓度250 ppm、光剂量在450 mj/cm2的高压汞灯紫外线照射下，得到低折射率层。
[0082]
低折射率涂液的配比如表5所示：表5低折射率涂液的配比试验例1
实施例1-实施例8以及对比例1-对比例7提供的光学膜的制备条件如表6，检测光学膜的性能如表7和表8。其中，表6、表7和表8中的各参数计算方法或测试方法如下：表6光学膜的制备条件汇总表其中，1、第一溶剂占总溶剂比例 (%)：由实际添加第一溶剂与总溶剂的重量比计算得到，实际上高折射率涂液的配置过程是在相对封闭的容器中进行，溶剂挥发量小可忽略不计。
[0083]
2、涂层厚度测试：使用德国nxt涂层测厚仪eta-sst厚度测试系统，利用光衍射原理测定光学膜的高折射率层的厚度及低折射率层厚度。
[0084]
3、透过率，雾度：依照jis k-7105标准，使用日本电色ndh 2000n型雾度测定仪，利用透射光法测定光学膜的透过率和雾度。
[0085]
4、平均反射率(%)、反射波段平均振幅(%)：将光学膜样片裁成8cm8cm大小，涂层背面贴上黑色胶带，使用日本岛津uv-2600i紫外可见分光光度计，测定波长380~780nm可见光区域内6度角的平均反射率。如图6、7、8、9
所示，计算每个振幅内波峰波谷反射率差值的平均值，即为反射波段平均振福。
[0086]
5、高折射率层的折射率、低折射率层的折射率、高折射率层与透明基膜折射率差的绝对值、高折射率层与低折射率层的折射率差：使用美国metricon m-2010棱镜偶合仪，利用棱镜耦合的原理，测定高折射率层与低折射率层在波长为633nm的折射率，透明基膜的折射率由供应商提供，折射率差值由数学计算得到。
[0087]
6、干涉条纹、基膜表现：使用三波长灯，照度800~1200lux的暗室里，将膜片背面贴合光学胶，再贴在黑色压克力板上，检验人员与膜之间的目视角度为45~90
º
，目视观察光学膜的干涉条纹表观，并根据以下标准进行判定。
[0088]
【判定标准】膜面无红绿色差 膜面有些微红绿色差
ꢀ△
膜面红绿色差明显 7、高折射率层水煮后的附着力：将涂覆于透明基膜表面固化得到高折射率层的薄膜置于100℃的沸水中水煮1小时后擦干， 依照标准astm d-3359，以百格刀在涂层表面上从画出百格，以3m 600型胶带黏贴在已画好的百格上后，以180度方向快速撕掉胶带，利用放大镜观看百格脱落状况。
[0089]
5b：涂层完全未脱落；4b：百格涂层脱落面积《5%；3b：百格涂层脱落面积5%-15%；2b：百格涂层脱落面积15%-35%；1b：百格涂层脱落面积35%-65%；0b：百格涂层脱落面积》65%。
[0090]
8、铅笔硬度：依照jisk-5600标准，使用elcometer 3086铅笔硬度计，测量光学膜的铅笔硬度。测量手法：使用硬度为2h～3h三菱铅笔，在750g荷重下，划出5条线，然后观察光学膜涂层有无划伤，并根据以下标准进行判定。
[0091]
【判定标准】划伤0~2条 判定“pass”划伤3~5条 判定“ng”9、耐钢丝绒磨擦：使用深圳致佳仪器zj-339-gsr耐钢丝绒试验机，用2cm2cm的#0000钢丝绒在500gf/cm2的荷重下，在光学膜表面来回摩擦10次，确认其表面产生划伤条数。
[0092]
【判定标准】划伤0条 划伤1~10条
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划伤 》10条 表7 实施例1-实施例8提供的光学膜的性能
表8 对比例1-对比例6提供的光学膜的性能图4为本技术实施例1提供的光学膜的光线传输示意图；图5为本技术实施例1提供的光学膜的实物图。从图4和图5可以看出，本技术实施例1提供的光学膜在透光基膜的表面由于产生了微凹凸结构，其实物未出现“彩虹纹”现象。
[0093]
图6为反射率振幅大小评价示意图；图7为本技术实施例1和对比例1提供的一种光学膜反射率振幅比较图；图8为本技术实施例1和对比例2提供的一种光学膜反射率振幅比较图；图9为本技术实施例1和对比例3提供的一种光学膜反射率振幅比较图。从图6-图9可以看出，光学膜的反射率振幅越大，彩虹纹越严重；说明实施例1提供的光学膜的性能较好，避免了干涉条纹的产生。
[0094]
从表6、表7和表8结合可以看出，本发明制备的一种光学膜，具有低彩虹纹、反射率低、耐磨擦性好等优点。与实施例1相比，对比例1的中未添加第一溶剂，对比例2中添加第一
溶剂较少，对比例3中添加了第一溶剂但保持常温的时间较短，上述条件下，对基膜未进行蚀刻或蚀刻程度较轻，光学膜表面的干涉条纹较为明显。对比例4保持常温的时间过长，使得基膜过分蚀刻，造成基膜出现皱褶，影响了光学膜的表观。对比例5在较低的温度下一次干燥，溶剂的挥发时间较长，虽会使基膜进行长期蚀刻，但因干燥温度较低，高沸点溶剂残存，使得光学膜水煮后的附着力较小，耐钢丝绒摩擦性相对较弱，同样影响了光学膜的表观，会出现基膜起皱的现象。对比例6在较高的温度下一次干燥，基膜的刻蚀不明显，光学膜表面的干涉条纹较为明显。
[0095]
以上所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。