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半导体装置及半导体装置的制造方法与流程

2022-02-24 17:15:44 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种半导体装置,具备:配线衬底,所述配线衬底包含多个电极、第1树脂层及第2树脂层,所述多个电极设置在第1面,所述第1树脂层在所述第1面设置在所述多个电极周围,所述第2树脂层设置在所述第1树脂层;第1半导体芯片,与所述多个电极中的第1电极连接;第2半导体芯片,设置在所述第1半导体芯片上方,比该第1半导体芯片大,形成有第3电极;金属线,连接所述多个电极中的第2电极与所述多个第3电极;以及第3树脂层,设置在所述第1半导体芯片与所述第2半导体芯片之间以及所述第2树脂层与所述第2半导体芯片之间,覆盖所述第1半导体芯片。2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中从所述第1面的上方观察时,所述第2树脂层包围所述第1半导体芯片周围。3.根据权利要求1所述的半导体装置,其中从所述第1面的上方观察时,所述第2树脂层的外缘位于所述第1半导体芯片与所述第2电极之间。4.根据权利要求1所述的半导体装置,其中从所述第1面的上方观察时,所述第2树脂层的外缘位于比所述第2半导体芯片的外缘靠外侧之处,且重叠于所述第1树脂层上。5.根据权利要求1所述的半导体装置,其中从所述第1面的上方观察时,所述第2树脂层的外缘位于比所述第3树脂层的外缘靠外侧之处,且重叠于所述第1树脂层上。6.根据权利要求1所述的半导体装置,其中从所述第1面的上方观察时,所述第2树脂层的内缘位于比所述第1半导体芯片的外缘靠外侧之处,且重叠于所述第1树脂层上。7.根据权利要求1所述的半导体装置,其中从所述第1面的上方观察时,所述第1树脂层的内缘和所述第2树脂层的内缘大致重叠。8.根据权利要求1所述的半导体装置,其中从所述第1面的上方观察时,所述第2半导体芯片的外缘位于比所述第1半导体芯片的外缘靠外侧之处,且位于所述第2电极与所述第1半导体芯片之间。9.根据权利要求1所述的半导体装置,其中在所述第1面的上方观察时,所述第2半导体芯片的外缘和所述第3树脂层的外缘大致重叠。10.根据权利要求1所述的半导体装置,还具备:第4树脂层,设置在所述配线衬底与所述第1半导体芯片之间;所述第3树脂层被覆所述第1半导体芯片及所述第4树脂层。11.根据权利要求10所述的半导体装置,其中从所述第1面的上方观察时,所述第4树脂层的外缘重叠于所述第1或第2树脂层中的任一层。12.根据权利要求1所述的半导体装置,其中所述第1及第2树脂层的外缘具有阶差。13.根据权利要求1所述的半导体装置,其中所述第1及第2树脂层的内缘具有阶差。14.根据权利要求1所述的半导体装置,其中从所述第1面的上方观察时,所述第1树脂层的内缘比所述第1半导体芯片的外缘靠近该第1半导体芯片的中心。15.根据权利要求14所述的半导体装置,其中从所述第1面的上方观察时,所述第1及第2树脂层是一体的。16.一种半导体装置的制造方法,包括:在配线衬底上,将第1半导体芯片连接在多个电极中的第1电极,所述配线衬底包含所述多个电极、第1树脂层及第2树脂层,所述多个电极
设置在第1面上,所述第1树脂层在所述第1面上设置在所述多个电极周围,所述第2树脂层设置在所述第1树脂层上;将第2半导体芯片通过第3树脂层粘接在所述第1半导体芯片上方,从所述第1面的上方观察,所述第2半导体芯片比该第1半导体芯片大,且比所述第2树脂层小。17.根据权利要求16所述的方法,其中从所述第1面的上方观察时,所述第2树脂层包围所述第1半导体芯片周围。18.根据权利要求16所述的方法,还包括:通过金属线连接所述多个电极中的第2电极与所述第2半导体芯片;从所述第1面的上方观察时,所述第2树脂层的外缘位于所述第1半导体芯片与所述第2电极之间。19.根据权利要求16所述的方法,其中从所述第1面的上方观察时,所述第2树脂层的外缘位于比所述第2半导体芯片及所述第3树脂层的外缘靠外侧之处,且重叠于所述第1树脂层上。20.根据权利要求16所述的方法,还包括:向所述配线衬底与所述第1半导体芯片之间供给第4树脂层;所述第3树脂层以被覆所述第1半导体芯片及所述第4树脂层的方式形成。

技术总结
本发明的实施方式涉及一种半导体装置及半导体装置的制造方法。本实施方式的半导体装置具备配线衬底,该配线衬底包含:多个电极,设置在第1面上;第1树脂层,在第1面上设置在多个电极周围;及第2树脂层,设置在第1树脂层上。第1半导体芯片与多个电极中的第1电极连接。第2半导体芯片设置在第1半导体芯片上方,比该第1半导体芯片大,经由金属线与多个电极中的第2电极连接。第3树脂层设置在第1半导体芯片与第2半导体芯片之间以及第2树脂层与第2半导体芯片之间,被覆第1半导体芯片。被覆第1半导体芯片。被覆第1半导体芯片。


技术研发人员:冈田惠治 川户雅敏 丹羽惠一
受保护的技术使用者:铠侠股份有限公司
技术研发日:2021.02.20
技术公布日:2022/2/23
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