金属掩模和通过使用其制造的显示设备的制作方法

金属掩模和通过使用其制造的显示设备
1.本技术要求于2020年8月14日提交的韩国专利申请号10-2020-0102598的优先权，以及从其获得的所有权益，其内容以其整体通过引用并入本文。
技术领域
2.本文，本发明的实施方式涉及金属掩模和通过金属掩模制造的显示设备，并且更具体地，涉及用于沉积的金属掩模和通过金属掩模制造的显示设备。


背景技术：

3.一般而言，发光装置设置在发光显示设备的像素的每一个中。发光装置包括设置在两个电极之间的发光层。设置在像素中的发光层可分成多个组。
4.这里，掩模套件用于将多个组的发光层沉积在工作基板上。掩模套件包括框架、支撑杆和掩模。可通过将工作基板设置在掩模上并且然后将发光材料沉积在工作基板上而提供图案化的发光层。


技术实现要素：

5.本发明的实施方式提供了限定两个种类的开口并且具有提高的耐久性的金属掩模。
6.本发明的实施方式也提供了包括多个区的显示设备，所述多个区包括具有不同的平面面积的发光图案。
7.本发明的实施方式提供了金属掩模，所述金属掩模包括第一区，在第一区中限定了彼此间隔开的多个主开口；和第二区，在第二区中限定了彼此间隔开并且具有与多个主开口的平面面积不同的平面面积的多个子开口。这里，在第一方向上彼此相邻的多个主开口中的主开口和多个子开口中的子开口之间的间隙等于或大于多个主开口中的在第一方向上彼此相邻的主开口之间的间隙的约0.5倍并且等于或小于多个主开口中的在第一方向上彼此相邻的主开口之间的间隙的约5.0倍。
8.在实施方式中，子开口可具有大于主开口的平面面积的平面面积。
9.在实施方式中，第一区中每单位面积的多个主开口的数量可大于第二区中每单位面积的多个子开口的数量。
10.在实施方式中，多个子开口中的在第一方向上彼此相邻的子开口之间的间隙可大于主开口之间的间隙。
11.在实施方式中，在从第一方向倾斜的第二方向上彼此相邻的多个主开口中的主开口和多个子开口中的子开口之间的间隙可等于或大于多个主开口中的在第二方向上彼此相邻的主开口之间的间隙的约0.5倍，并且等于或小于多个主开口中的在第二方向上彼此相邻的主开口之间的间隙的约5.0倍。
12.在实施方式中，第二区可提供为多个，并且多个第二区可在第一方向上彼此间隔开，第一区在多个第二区之间。
13.在实施方式中，第二区可被第一区围绕。
14.在实施方式中，第二区可提供为多个，并且多个第二区可分别与第一区的拐角相邻。
15.在本发明的实施方式中，显示设备包括基础基板，和设置在基础基板上并且各自包括发光图案的多个发光装置。这里，多个发光装置包括多个主发光装置，所述多个主发光装置设置在第一区中并且各自包括多个主发光图案，所述多个主发光图案各自具有第一平面面积；和多个子发光装置，所述多个子发光装置设置在与第一区不同的第二区上并且各自包括具有与第一平面面积不同的第二平面面积的子发光图案，多个主发光装置和多个子发光装置发射具有彼此相同的颜色的光，并且在第一方向上彼此相邻的主发光图案和子发光图案之间的间隙等于或大于多个主发光图案中的沿着第一方向彼此相邻的主发光图案之间的间隙的约0.5倍，并且等于或小于多个主发光图案中的沿着第一方向彼此相邻的主发光图案之间的间隙的约5.0倍。
16.在实施方式中，显示设备可进一步包括设置在第二区中的驱动电路，并且在平面图中，多个子发光装置的至少一部分可与驱动电路重叠。
17.在实施方式中，显示设备可进一步包括设置为与第二区重叠的电子模块，并且第二区可具有小于第一区的透光度的透光度。
18.在实施方式中，第一区中每单位面积的主发光图案的数量可大于第二区中每单位面积的子发光图案的数量。
19.在实施方式中，第二平面面积可大于第一平面面积。
20.在实施方式中，彼此相邻的主发光图案和子发光图案可沿着在第一方向上延伸的参考轴布置。
21.在实施方式中，多个发光装置可发射具有绿色的光。
22.在实施方式中，在从第一方向倾斜的第二方向上彼此相邻的主发光图案和子发光图案之间的间隙可等于或大于多个主发光图案中的在第二方向上彼此相邻的主发光图案之间的间隙的约0.5倍，并且等于或小于多个主发光图案中的在第二方向上彼此相邻的主发光图案之间的间隙的约5.0倍。
23.在实施方式中，多个发光装置可发射红光或蓝光。
24.在实施方式中，第二区可提供为多个，并且第二区可分别与第一区的拐角相邻。
25.在实施方式中，显示设备可进一步包括设置在第一区中的附加主发光图案，以发射具有与主发光图案发射的光的颜色不同的颜色的光，并且在平面图中，附加主发光图案的至少一部分和主发光图案可彼此重叠。
26.在实施方式中，显示设备可进一步包括设置在第二区中的附加子发光图案，以发射具有与附加主发光图案发射的光的颜色相同的颜色的光，并且在平面图中附加子发光图案和子发光图案可彼此间隔开。
附图说明
27.包括所附附图以提供对本发明的进一步理解，并且将所附附图并入本说明书并且构成本说明书的一部分。附图阐释了本发明的实施方式，并且与描述一起用于解释本发明的原理。在附图中：
28.图1a为表示根据本发明的显示设备的实施方式的方块图；
29.图1b为根据本发明的显示面板的实施方式的平面图；
30.图2为阐释根据本发明的显示面板的部分区的实施方式的平面图；
31.图3为阐释根据本发明的显示面板的部分区的实施方式的横截面图；
32.图4为沉积设备的横截面图；
33.图5为掩模套件的透视图；
34.图6a为根据本发明的工作基板的实施方式的平面图；
35.图6b为图6a中的一个单位单元区的平面图；
36.图7为阐释图6b中的区aa的放大平面图；
37.图8a为阐释根据本发明的掩模的实施方式的放大平面图；
38.图8b为阐释图8a中的工作基板和掩模之间的布置关系的横截面图；
39.图8c和图8d为根据本发明的掩模的实施方式的放大平面图；
40.图9为阐释图6b中的工作基板的部分区的放大平面图；
41.图10a至图10c为阐释根据本发明的掩模的一部分的实施方式的放大平面图；
42.图11a为阐释根据本发明的工作基板的部分区的实施方式的平面图；
43.图11b至图11d为阐释根据本发明的掩模的部分的实施方式的平面图；
44.图12a为阐释根据本发明的显示设备的一部分的实施方式的透视图；
45.图12b为用于构成图12a中的显示面板的单位单元的平面图；
46.图13a为根据本发明的显示设备的实施方式的透视图；并且
47.图13b为阐释图13a中的显示设备的一个单位单元区的平面图。
具体实施方式
48.应理解，当元件比如区域、层或部分被称为“在”另一元件“上”时，其可直接在另一元件上，或也可存在居间元件。
49.相同的附图标记通篇指相同的元件。并且，为了阐释的清楚，在附图中，放大了组件的厚度、比例和尺寸。如本文使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关列举项目的任何和所有组合。
50.应理解，尽管本文使用术语比如“第一”和“第二”来描述各种元件，但是这些元件不受这些术语限制。术语仅用于区分一个组件和其他组件。例如，在不背离所附权利要求的范围的情况下，在一个实施方式中被称为第一元件的元件在另一实施方式中可被称为第二元件。单数形式的术语可包括复数形式，除非相反地指示。
51.并且，为了易于描述，本文可使用空间相对术语，比如“下面”、“下”、“上面”和“上”来描述附图中阐释的一个元件和/或一个特性与另一元件(多个元件)和/或特性(多个特性)的关系。术语可为相对概念并且基于附图中表达的方向来描述。
[0052]“包括”或“包含”的含义指示存在叙述的特性、区域、固定数量、步骤、工艺、元件和/或组件，但是不排除存在或添加其他特性、区域、固定数量、步骤、工艺、元件和/或组件。
[0053]
本文使用的术语仅仅用于描述特定的实施方式的目的，并且不旨在是限制性的。如本文使用的，单数形式“一个(a)”、“一个(an)”和“所述”旨在包括复数形式，包括“至少一个”，除非上下文另外清楚地指示。“或”意思是“和/或”。将进一步理解，当在本说明书中使
用时，术语“包含(comprises)”和/或“包含(comprising)”，或“包括(includes)”和/或“包括(including)”指示存在叙述的特征、区域、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是不排除存在或添加一个或多个其他特征、区域、整数、步骤、操作、元件、组件和/或其组。
[0054]
此外，本文可使用相对术语，比如“下”或“底部”和“上”或“顶部”来描述如图中阐释的一个元件与另一元件的关系。应理解，除了图中描绘的定向之外，相对术语旨在囊括装置的不同定向。在实施方式中，当将一幅图中的装置翻转时，描述为在其他元件“下”侧上的元件将接着定向在其他元件“上”侧上。因此，示例性术语“下”可囊括“下”和“上”的两种定向，这取决于图的特定的定向。类似地，当将一幅图中的装置翻转时，描述为其他元件“下面”或其他元件“之下”的元件将接着定向为其他元件“上面”。因此，示例性术语“下面”或“之下”可囊括上面和下面的两种定向。
[0055]
如本文使用的“约”或“近似”包括叙述的值并且意思是考虑所讨论的测量和与特定的数量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)，在如由本领域普通技术人员为特定的值确定的可接受的偏差的范围内。例如，“约”可意思是在一个或多个标准偏差内，或在叙述的值的
±
30％、
±
20％、
±
10％或
±
5％内。
[0056]
除非以其他方式限定，否则本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有如本领域技术人员通常理解的相同含义。在常用词典中限定的术语应解释为具有如在相关技术的上下文中相同的含义，并且除非在描述中明确地限定，否则术语不应理想化地或过度地解释为具有正式含义。
[0057]
下文，将参考所附附图描述本发明的实施方式。
[0058]
图1a为根据本发明的显示设备的实施方式的方块图。图1b为根据本发明的显示面板的实施方式的平面图。下文，将参考图1a和图1b描述本发明的实施方式。
[0059]
图1a为根据本发明的显示设备的实施方式的方块图。本发明的实施方式中的显示设备可为包括至少一个半导体的半导体设备。显示设备包括定时控制单元tc、扫描驱动电路sdc、数据驱动电路ddc和显示面板dp。显示面板dp根据电信号显示图像。
[0060]
在实施方式中，显示面板dp描述为有机发光显示面板。然而，这仅仅是阐释性的。例如，本发明的显示面板dp可包括各种实施方式。
[0061]
定时控制单元tc接收输入图像信号(未显示)并且将输入图像信号的数据格式转换成与扫描驱动电路sdc的接口的规格相匹配，从而生成图像数据d-rgb。定时控制单元tc输出图像数据d-rgb和各种控制信号dcs和scs。
[0062]
扫描驱动电路sdc从定时控制单元tc接收扫描控制信号scs。扫描控制信号scs可包括开始扫描驱动电路sdc的操作的垂直开始信号和确定信号的输出时间的时钟信号。
[0063]
扫描驱动电路sdc生成多个扫描信号，并且顺序地将扫描信号输出至多个扫描线sl1至sln，其中n为自然数。并且，扫描驱动电路sdc响应扫描控制信号scs生成多个发光控制信号，并且将发光控制信号输出至多个发光线el1至eln。
[0064]
尽管在图1a中扫描信号和发光控制信号从一个扫描驱动电路sdc输出，但是本发明不限于此。在本发明的实施方式中，扫描驱动电路sdc可划分和输出扫描信号，并且划分和输出发光控制信号。并且，在本发明的实施方式中，生成和输出扫描信号的驱动电路以及生成和输出发光控制信号的驱动电路可各自区分开。
[0065]
数据驱动电路ddc从定时控制单元tc接收数据控制信号dcs和图像数据d-rgb。数
据驱动电路ddc将图像数据d-rgb转换成数据信号，并且将数据信号输出至数据线dl1至dlm，其中m为自然数。数据信号为对应于图像数据d-rgb的灰度值的模拟电压。
[0066]
显示面板dp包括扫描线sl1至sln、发光线el1至eln、数据线dl1至dlm和像素px。扫描线sl1至sln可各自在第一方向dr1上延伸，并且在与第一方向dr1交叉的第二方向dr2上布置。
[0067]
多个发光线el1至eln的每一个可布置为与扫描线sl1至sln的对应扫描线平行。数据线dl1至dlm以绝缘方式与扫描线sl1至sln交叉。
[0068]
像素px中的每一个连接至扫描线sl1至sln的对应扫描线、发光线el1至eln的对应发光线以及数据线dl1至dlm的对应数据线。
[0069]
像素px中的每一个接收电源电压elvss和电平大于电源电压elvss的电平的第二电压elvdd。像素px中的每一个连接至施加第二电压elvdd的电源线pl。像素px中的每一个连接至接收初始化电压vint的初始化线rl。
[0070]
像素px中的每一个可电连接至三个扫描线。如图1a中阐释，第二像素行中的像素可连接至第一扫描线至第三扫描线sl1至sl3。
[0071]
并且，显示面板dp可进一步包括多个虚拟扫描线。显示面板dp可进一步包括连接至第一像素行中的像素px的虚设扫描线，以及连接至第n像素行中的像素px的虚设扫描线。并且，连接至数据线dl1至dlm中的一条数据线的像素(下文也称为像素行中的像素)可彼此连接。像素行中的像素中的两个相邻像素可彼此电连接。然而，这仅仅是阐释性的，并且本发明不限于此。例如，在另一实施方式中，可不同地设计本发明的实施方式中的像素px之间的连接关系。
[0072]
像素px中的每一个包括有机发光二极管(未显示)和控制有机发光二极管的发光的像素驱动电路(未显示)。像素驱动电路可包括薄膜晶体管(“tft”)和电容器。
[0073]
在该实施方式中，扫描驱动电路sdc和数据驱动电路ddc中的至少一个可包括通过与像素驱动电路的工艺相同的工艺提供的tft。例如，在实施方式中，所有的扫描驱动电路sdc和数据驱动电路ddc可设置(例如，安装)在显示面板dp上。在可选的实施方式中，扫描驱动电路sdc和数据驱动电路ddc中的一个可设置(例如，安装)至显示面板dp，并且另一个可提供为独立于显示面板dp的分开的电路板并且然后连接至显示面板dp。
[0074]
参考图1b，扫描驱动电路sdc可设置在显示面板dp上。在该实施方式中，扫描驱动电路sdc可包括在第一方向dr1上彼此间隔开的第一扫描驱动电路sdc1和第二扫描驱动电路sdc2。可在与上述像素px的工艺相同的工艺中提供第一扫描驱动电路sdc1和第二扫描驱动电路sdc2。
[0075]
第一扫描驱动电路sdc1和第二扫描驱动电路sdc2中的每一个可生成多个扫描信号和多个发光控制信号，并且将生成的信号输出至对应的像素。例如，在实施方式中，第一扫描驱动电路sdc1可生成多个扫描信号，并且第二扫描驱动电路sdc2可生成多个发光控制信号。在可选的实施方式中，第一扫描驱动电路sdc1和第二扫描驱动电路sdc2可分别针对彼此交替的像素行生成扫描信号和发光控制信号。
[0076]
并且，显示面板dp可包括单个扫描驱动电路。尽管本发明的实施方式中的扫描驱动电路可具有各种类型，但是本发明不限于此。
[0077]
显示面板dp包括显示区da和外周区(也称为非显示区)nda。外周区nda可围绕显示
区da的边缘。然而，这仅仅是阐释性的，并且本发明不限于此。例如，在根据本发明的显示面板的实施方式中，可在显示区da的边缘的一侧限定外周区nda或可省略外周区nda。
[0078]
显示区da可包括主区ma、第一子区sa1和第二子区sa2。第一子区sa1和第二子区sa2在第一方向dr1上彼此间隔开，主区ma在第一子区sa1和第二子区sa2之间。
[0079]
主区ma可与第一扫描驱动电路sdc1和第二扫描驱动电路sdc2中的每一个间隔开。主区ma可为其中设置像素px的一部分的区。
[0080]
第一子区sa1与第一扫描驱动电路sdc1重叠。第一子区sa1可为其中设置像素px的另一部分的区。设置在第一子区sa1中的像素px的至少一部分与第一扫描驱动电路sdc1重叠。第一子区sa1上显示的图像可与主区ma上显示的图像相同或相关，或可为独立的分开图像。然而，本发明不限于此。
[0081]
第二子区sa2与第二扫描驱动电路sdc2重叠。第二子区sa2可为其中设置像素px的一部分的区。设置在第二子区sa2中的像素px的至少一部分与第二扫描驱动电路sdc2重叠。第二子区sa2上显示的图像可与主区ma上显示的图像相同或相关，或可为独立的分开图像。然而，本发明不限于此。
[0082]
根据实施方式，像素px的至少一部分可设置在第一子区sa1和第二子区sa2中，并且在平面图中与第一扫描驱动电路sdc1和第二扫描驱动电路sdc2重叠。因此，由显示面板dp提供的显示区da的平面面积可扩展至与第一扫描驱动电路sdc1和第二扫描驱动电路sdc2重叠的区，并且可减少外周区nda的平面面积。因此，显示面板dp可容易实现具有减小的边框区的显示设备。
[0083]
图2为阐释根据本发明的显示面板的部分区的实施方式的平面图。图3为阐释根据本发明的显示面板的部分区的实施方式的横截面图。在图2中，简单地阐释了图1b的区a1，并且在图3中，简单地阐释了设置在主区ma中的一个像素区pxa_m和设置在第一子区sa1(下文也称为子区)中的一个像素区pxa_s。下文，将参考图2和图3描述本发明的实施方式。
[0084]
如图2中阐释，主区ma可包括多个第一单位区ua1。第一单位区ua1包括具有相同的发光区的布置的第一发光区至第三发光区l-r1、l-g1和l-b1。即，第一单位区ua1中的每一个中的第一发光区至第三发光区l-r1、l-g1和l-b1的布置可彼此相同。
[0085]
在该实施方式中，第一单位区ua1中的每一个可包括一个第一发光区l-r1、两个第二发光区l-g1和一个第三发光区l-b1。这里，两个第二发光区l-g1中的一个可限定为与两个第二发光区l-g1中的另一个区分开的第四发光区。例如，在实施方式中，第四发光区可具有与第二发光区l-g1的平面形状不同的平面形状。在可选的实施方式中，第四发光区可具有与第二发光区l-g1的颜色不同的颜色。然而，这仅仅是阐释性的，并且本发明的实施方式不限于构成第一单位区ua1中的每一个的发光区的数量或种类。
[0086]
子区sa1可包括多个第二单位区ua2。第二单位区ua2包括具有相同的发光区的布置的第一发光区至第三发光区l-r2、l-g2和l-b2。即，第二单位区ua2中的每一个中的第一发光区至第三发光区l-r2、l-g2和l-b2的布置可彼此相同。
[0087]
在该实施方式中，第二单位区ua2中的每一个可包括具有对应于第一单位区ua1中的每一个的布置的第一发光区至第三发光区l-r2、l-g2和l-b2。第二单位区ua2中的每一个中的第一发光区至第三发光区l-r2、l-g2和l-b2之间的布置关系可对应于第一单位区ua1中的每一个中的第一发光区至第三发光区l-r1、l-g1和l-b1之间的布置关系。
[0088]
这里，第二单位区ua2可具有大于第一单位区ua1的平面面积的平面面积。并且，构成第二单位区ua2的第一发光区至第三发光区l-r2、l-g2和l-b2中的每一个可具有大于构成第一单位区ua1的第一发光区至第三发光区l-r1、l-g1和l-b1中的每一个的平面面积的平面面积。
[0089]
当对应的发光装置的发光区不同，并且将相同的驱动电压施加至对应的发光装置时，对应的发光装置的亮度的比率与发光区的比率成正比。在该实施方式中，因为子区sa1中每单位面积的发光区的数量小于主区ma中每单位面积的发光区的数量，所以当将相同的驱动电压供应至相同的发光区时，子区sa1可具有的每单位面积的亮度小于主区ma的每单位面积的亮度。
[0090]
在本发明的实施方式中，子区sa1的第一区sea1的第一发光区至第三发光区l-r2、l-g2和l-b2中的每一个具有大于主区ma的对应的第一发光区至第三发光区l-r1、l-g1和l-b1中的每一个的平面面积的平面面积，以补偿子区sa1和主区ma之间的亮度差。因此，尽管子区sa1具有的每单位面积发光区的数量小于主区ma中每单位面积发光区的数量，但是通过将子区sa1中的发光区设计为具有增加的面积，子区sa1和主区ma可具有相同的每单位面积的亮度。
[0091]
并且，子区sa1可分成第一区sea1和第二区sea2。第一区sea1为子区sa1中与第一扫描驱动电路sdc1间隔开并且设置在第二区sea2和主区ma之间的区。第二区sea2可为在子区sa1的平面图中与第一扫描驱动电路sdc1重叠的区。在实施方式中，子区sa1的第二区sea2的第一发光区至第三发光区l-r、l-g和l-b可分别与子区sa1的第一区sea1的第一发光区至第三发光区l-r2、l-g2和l-b2相同，但是本发明不限于此。
[0092]
在平面图中，设置在第二区sea2中的第二单位区ua2的一部分与第一扫描驱动电路sdc1重叠。为了易于描述，图3阐释了设置在第二区sea2中的一个像素区pxa_s和设置在主区ma中的一个像素区pxa_m的横截面图。
[0093]
如图3中阐释，显示面板dp包括基础层bl、设置在基础层bl上的电路装置层dp-cl、设置在电路装置层dp-cl上的显示设备层dp-oled和设置在显示设备层dp-oled上的绝缘层tfl(下文也称为上绝缘层)。
[0094]
基础层bl可包括合成树脂层。合成树脂层提供在当制造显示面板dp时使用的支撑基板上。其后，在合成树脂层上提供导电层和绝缘层等。当去除支撑基板时，合成树脂层对应于基础层bl。
[0095]
电路装置层dp-cl包括至少一个绝缘层和电路装置。电路装置包括信号线、像素的驱动电路等。电路装置层dp-cl可通过如下来提供：通过涂覆或沉积而提供绝缘层、半导体层和导电层的工艺以及通过光蚀刻工艺而将绝缘层、半导体层和导电层图案化的工艺。
[0096]
在该实施方式中，电路装置层dp-cl包括缓冲层bfl、隔离层brl以及第一绝缘层至第七绝缘层10、20、30、40、50、60和70。缓冲层bfl、隔离层brl以及第一绝缘层至第七绝缘层10至70中的每一个可包括无机层和有机层中的一种。缓冲层bfl和隔离层brl中的每一个可包括无机层。第五绝缘层至第七绝缘层50、60和70中的至少一个可包括有机层。
[0097]
电路装置层dp-cl可包括第一像素晶体管t1、第二像素晶体管t2、第一驱动晶体管t1_d和第二驱动晶体管t2_d。第一像素晶体管t1和第二像素晶体管t2设置在主区ma中。第一像素晶体管t1和第二像素晶体管t2可与设置在其上面的发光装置oled一起构成像素px。
[0098]
图3阐释了构成第一像素晶体管t1的第一沟道a1、第一栅极g1、第一源极s1和第一漏极d1的布置关系，以及构成第二像素晶体管t2的第二沟道a2、第二栅极g2、第二源极s2和第二漏极d2的布置关系。在该实施方式中，第一沟道a1和第二沟道a2可包括彼此不同的材料。第一沟道a1可包括多晶硅半导体，并且第二沟道a2可包括金属氧化物半导体。掺杂浓度大于第一沟道a1的掺杂浓度的第一源极s1和第一漏极d1中的每一个具有电极的功能。将金属氧化物半导体还原的第二源极s2和第二漏极d2中的每一个具有电极的功能。
[0099]
在本发明的实施方式中，第一沟道a1和第二沟道a2可包括彼此相同的半导体材料。这里，可进一步简化电路装置层dp-cl的层压结构。并且，电路装置层dp-cl可进一步包括上电极ue。上电极ue可与第一栅极g1重叠。上电极ue可与第一栅极g1一起提供第一像素晶体管t1的栅电极或与第一栅极g1一起提供电容器。然而，这仅仅是阐释性的。例如，在实施方式中，可从根据本发明的显示面板dp中省略上电极ue。
[0100]
第一驱动晶体管t1_d和第二驱动晶体管t2_d设置在子区sa1的第二区sea2中。第一驱动晶体管t1_d和第二驱动晶体管t2_d包括在扫描驱动电路sdc1中。第一驱动晶体管t1_d和第二驱动晶体管t2_d可分别具有与第一像素晶体管t1和第二像素晶体管t2的结构相同的结构，并且在与第一像素晶体管t1和第二像素晶体管t2的工艺相同的工艺中提供。然而，这仅仅是阐释性的，并且本发明不限于此。例如，在实施方式中，扫描驱动电路sdc1可仅仅包括第一驱动晶体管t1_d和第二驱动晶体管t2_d中的一个种类。
[0101]
显示设备层dp-oled包括像素限定层pdl和发光装置oled。发光装置oled可为有机发光二极管或量子点发光二极管。阳极ae设置在第七绝缘层70上。像素限定层pdl的开口op暴露阳极ae的至少一部分。像素限定层pdl的开口op可限定像素区pxa_m和像素区pxa_s。非发光区npxa可围绕像素区pxa_m和像素区pxa_s。
[0102]
空穴控制层hcl和电子控制层ecl可共同设置在像素区pxa和非发光区npxa中。发光层eml可具有对应于开口op的图案形状。与膜型空穴控制层hcl和膜型电子控制层ecl相比，可在不同的方法中沉积发光层eml。掩模套件可用于提供具有预定形状的发光层eml。
[0103]
空穴控制层hcl和电子控制层ecl可以通过开口掩模共同提供在多个像素中。可通过称为精细金属掩模(“fmm”)的掩模根据像素而不同地提供发光层eml。阴极ce设置在电子控制层ecl上并且与阳极ae相对。
[0104]
上绝缘层tfl设置在阴极ce上。上绝缘层tfl可包括多个薄膜。多个薄膜可包括无机层和有机层。上绝缘层tfl可包括用于封装显示设备层dp-oled的绝缘层和用于提高发光效率的绝缘层。
[0105]
如上述，像素区pxa_m和像素区pxa_s提供在第一驱动晶体管t1_d和第二驱动晶体管t2_d以及第一像素晶体管t1和第二像素晶体管t2上。通过包括与第一驱动晶体管t1_d和第二驱动晶体管t2_d重叠的发光装置oled，显示面板dp甚至可在其上设置扫描驱动电路sdc1的子区sa1上显示图像。因此，可提供其中显示区扩展并且边框减少的显示面板dp。
[0106]
图4为沉积设备的横截面图。图5为掩模套件msa的透视图。沉积设备dpa可用于显示面板dp，特别是用于图3中的发光层eml的沉积工艺中。沉积设备dpa包括沉积腔室cb、固定构件cm、沉积源ds和掩模套件msa。尽管未分开显示，但是沉积设备dpa可进一步包括用于实现在线系统的附加机械装置。
[0107]
沉积腔室cb可将沉积条件设定为真空。沉积腔室cb可包括底部表面、顶棚表面和
侧壁。沉积腔室cb的底部表面可与由第一方向轴dr1和第二方向轴dr2限定的表面平行。沉积腔室cb的底部表面的法线方向指示第三方向轴dr3。下文，第一方向至第三方向可分别为由第一方向轴至第三方向轴dr1、dr2和dr3指示的方向，并且分别由相同的附图标记标注。下文，表述“在平面图中”表示与由第一方向轴dr1和第二方向轴dr2限定的表面平行的表面。
[0108]
固定构件cm设置在沉积腔室cb内侧，并且设置在沉积源ds上面，以固定掩模套件msa。固定构件cm可安装在沉积腔室cb的顶棚表面上。固定构件cm可包括保持掩模套件msa的夹具或机器人臂。
[0109]
固定构件cm包括主体部分bd和耦联至主体部分bd的磁体mm。主体部分bd可包括作为用于固定掩模套件msa的基础结构的板。然而，本发明不限于此。磁体mm可设置在主体部分bd内侧或外侧。磁体mm可通过磁力而固定掩模套件msa。
[0110]
沉积源ds可使沉积材料，例如，发光材料蒸发，以作为沉积蒸气喷射。沉积蒸气穿过掩模套件msa，并且以预定的图案沉积在工作基板ws上。
[0111]
掩模套件msa设置在沉积腔室cb内侧，并且设置在沉积源ds上面以支撑工作基板ws。工作基板ws可包括玻璃基板或塑料基板。工作基板ws可包括设置在基础基板上的聚合物层。可在用于制造显示面板的过程的后半部分去除基础基板，并且聚合物层可对应于图3中的基础层bl。
[0112]
如图5中阐释，掩模套件msa包括框架fm、多个杆st和多个掩模msk。尽管在该实施方式中阐释了包括在相同方向上延伸的一个种类的杆st的掩模套件msa，但是本发明的实施方式中的掩模套件msa可进一步包括在不同方向上延伸的不同种类的杆。
[0113]
在框架fm中限定了开口op-f。在平面图中，框架fm可具有四边形(例如，矩形)形状。框架fm可包括金属材料。例如，在实施方式中，框架fm可包括例如镍(ni)、镍钴合金、镍铁合金或其组合等。框架fm可包括四个部分。框架fm可包括在第一方向dr1上彼此面对的第一延伸部分fm-1和第二延伸部分fm-2。框架fm可包括在第二方向dr2上彼此面对的第三延伸部分fm-3和第四延伸部分fm-4，并且第三延伸部分fm-3和第四延伸部分fm-4中的每一个连接第一延伸部分fm-1和第二延伸部分fm-2。第一延伸部分至第四延伸部分fm-1至fm-4可通过焊接或彼此集成而耦联。
[0114]
杆st包括第一杆至第三杆st1、st2和st3。第一杆至第三杆st1、st2和st3可耦联至框架fm以与开口op-f重叠。第一杆至第三杆st1、st2和st3可耦联至在第一延伸部分fm-1和第二延伸部分fm-2中的每一个中限定的耦联槽。然而，本发明的实施方式不限于杆st的数量。例如，在实施方式中，杆st可与框架fm集成。在实施方式中，第一杆至第三杆st1、st2和st3中的每一个可包括彼此相对的第一边缘ed1和第二边缘ed2。
[0115]
掩模msk可设置在框架fm和杆st上，并且在第一方向dr1上布置，同时在第二方向dr2上延伸。掩模msk可包括热膨胀系数小于框架fm的热膨胀系数的材料，比如因瓦合金。例如，在实施方式中，掩模msk可包括，例如镍(ni)、镍钴合金、镍铁合金或其组合等。
[0116]
多个开口op-m(下文也称为掩模开口)限定在掩模msk中的每一个中。掩模msk中的每一个可包括其中限定掩模开口op-m的开口区a-op和与开口区a-op相邻设置的非开口区a-nop。在该实施方式中，掩模msk中的每一个可包括沿着第二方向dr2连续限定的单个开口区a-op。掩模开口op-m以预定的规则(或均匀地)布置在开口区a-op中。发光层eml可具有对
应于掩模开口op-m的平面形状的平面形状。
[0117]
掩模msk可通过焊接而耦联至框架fm。在制造掩模套件msa的工艺中，掩模msk以其中掩模msk中的每一个在第二方向dr2上张紧的状态焊接至框架fm。掩模套件msa包括多个分开的掩模msk。与对应于框架fm的一个大尺寸掩模相比，在掩模msk中可生成更少的偏转现象。
[0118]
图6a为根据本发明的工作基板的实施方式的平面图。图6b为阐释图6a中的一个单位单元区的平面图。图7为阐释图6b中的区aa的放大平面图。图8a为根据本发明的掩模的实施方式的放大平面图，并且图8b为阐释图8a中的掩模和工作基板之间的布置关系的横截面图。图8c和图8d为根据本发明的掩模的实施方式的放大平面图。下文，将参考图6a至图8d描述本发明的实施方式。
[0119]
图6a中的工作基板ws包括多个单位单元区us。在工作基板ws中的工艺完成之后，可将单位单元区us中的每一个分开，以提供显示面板dp(参考图1b)。在该实施方式中，工作基板ws处于由掩模套件msa(参考图5)提供薄膜图案之前的状态。例如，在实施方式中，工作基板ws可处于其中提供空穴控制层hcl(参考图3)的状态。
[0120]
参考图6a和图6b，像素限定层pdl与整个显示区da重叠。像素限定层pdl的一部分可与非显示区nda重叠。尽管在该实施方式中阐释了具有四边形(例如，矩形)形状的像素限定层pdl，但是本发明不限于此。
[0121]
显示区da的第一子区sa1和第二子区sa2布置在主区ma的左侧和右侧，并且用阴影区分。在本发明的实施方式中，通过一个掩模，薄膜图案可同时限定在主区ma、第一子区sa1和第二子区sa2中。
[0122]
参考图7，三个种类的发光开口可限定在像素限定层pdl中。发光开口可包括第一发光开口至第三发光开口op-r、op-g和op-b。第一发光开口op-g、第二发光开口op-r和第三发光开口op-b中的每一个的平面面积与对应像素的发光区(或第一电极的区)成正比。在该实施方式中，第一发光开口op-g、第二发光开口op-r和第三发光开口op-b可分别对应于绿色像素的发光装置、红色像素的发光装置和蓝色像素的发光装置。
[0123]
图8a、图8c和图8d中的第一掩模至第三掩模msk1至msk3可用于提供分别对应于第一发光开口op-g、第二发光开口op-r和第三发光开口op-b的绿色发光装置的发光层、红色发光装置的发光层和蓝色发光装置的发光层。
[0124]
图8a为第一掩模msk1的放大视图，并且图8b为阐释其中工作基板ws设置在第一掩模msk1上的状态的视图。然而，这仅仅是阐释性的，并且本发明的实施方式不限于图8b中的工作基板ws的横截面。另外阐释了分别对应于第一发光开口op-g、第二发光开口op-r和第三发光开口op-b的三个第一电极ae-g、ae-r和ae-b。在图8b中，另外阐释了上述固定构件cm。
[0125]
通过包括第一掩模msk1的掩模套件msa(参考图5)，绿色发光层可提供在空穴控制层hcl上。其后，红色发光层可由包括第二掩模msk2的掩模套件msa提供，并且蓝色发光层可由包括第三掩模msk3的掩模套件msa提供。其后，另外提供图3中的电子控制层ecl等。
[0126]
图8a中的第一掩模msk1的第二开口op-mg可具有大于第一发光开口op-g的平面面积的平面面积。第一发光开口op-g可以其中掩模套件msa设置在腔室cb中并且第一掩模msk1与工作基板ws对准的状态，限定在第一掩模msk1的第二开口op-mg内侧。第二发光开口
op-r可以其中第二掩模msk2与工作基板ws对准的状态，限定在第二掩模msk2的第二开口op-mr内侧。第三发光开口op-b可以其中第三掩模msk3与工作基板ws对准的状态，设置在第三掩模msk3的第二开口op-mb内侧。
[0127]
图9为阐释了图6b中的工作基板的部分区的放大平面图。图10a至图10c为阐释了根据本发明的掩模的一部分的实施方式的放大平面图。图9阐释了包括主区ma和子区sa之间的边界的区，并且图10a至图10c阐释了第一掩模至第三掩模msk1、msk2和msk3中对应于图9的区的区。并且，图9中阐释了具有与图7中显示的形状不同形状的开口。然而，这仅仅是阐释性的，并且本发明不限于此。例如，在实施方式中，开口中的每一个可具有对应于图7中显示的形状的形状。下文，将参考图9至图10c描述本发明的实施方式。
[0128]
图9中阐释的区可为包括主区ma和子区sa之间的边界的区。子区sa可基本上对应于第一子区sa1(参考图6b)。工作基板ws1的第一主发光开口至第三主发光开口op-r11、op-g11和op-b11可限定在主区ma中，并且工作基板ws1的第一子发光开口至第三子发光开口op-r21、op-g21和op-b21可限定在子区sa中。
[0129]
第一子发光开口至第三子发光开口op-r21、op-g21和op-b21中的每一个可具有与第一主发光开口至第三主发光开口op-r11、op-g11和op-b11的对应发光开口的平面面积不同的平面面积。例如，在实施方式中，第一子发光开口至第三子发光开口op-r21、op-g21和op-b21中的每一个可具有大于第一主发光开口至第三主发光开口op-r11、op-g11和op-b11的对应发光开口的平面面积的平面面积。第一子发光开口至第三子发光开口op-r21、op-g21和op-b21可分别对应于图2中的子区sa1的第一发光区至第三发光区l-r2、l-g2和l-b2(参考图2)，并且第一主发光开口至第三主发光开口op-r11、op-g11和op-b11可分别对应于主区ma的第一发光区至第三发光区l-r1、l-g1和l-b1(参考图2)。下文，将省略冗余的描述。
[0130]
如图10a中阐释，在第一掩模msk1中，限定在主区ma中的主开口op_mr1中的每一个具有与限定在子区sa中的子开口op_mr2中的每一个的平面面积不同的平面面积。限定在子区sa中的子开口op_mr2中的每一个可具有大于限定在主区ma中的主开口op_mr1中的每一个的平面面积的平面面积。并且，第一掩模msk1的主开口op_mr1和子开口op_mr2中的每一个可具有大于如上述的第一主发光开口op-r11和第一子发光开口op-r21中的每一个的平面面积的平面面积。为了易于描述，对应的第一主发光开口op-r11和第一子发光开口op-r21由虚线阐释。
[0131]
在第一掩模msk1中，主开口op_mr1可通过第一水平间隙dt10彼此间隔开，并且主开口op_mr1和子开口op_mr2的在水平方向上彼此相邻的开口可通过第二水平间隙dt11彼此间隔开。在该实施方式中，水平间隙可限定为在水平方向上的间隔距离，并且可为在垂直于主区ma和子区sa之间的边界的方向上的间隔距离。图10a中的水平间隙可对应于在第一方向轴dr1(参考图2)上的间隔距离。下文，将省略冗余的描述。
[0132]
主开口op_mr1可通过第一对角线间隙dt12彼此间隔开，并且主开口op_mr1和子开口op_mr2的在对角线方向上彼此相邻的开口可通过第二对角线间隙dt13彼此间隔开。并且，第一主发光开口op-r11和第一子发光开口op-r21的在水平方向上彼此相邻的发光开口可通过发光间隙dt14彼此间隔开。
[0133]
在该实施方式中，第一水平间隙dt10可对确定第二水平间隙dt11产生影响。具体地，第二水平间隙dt11可设计为等于或大于第一水平间隙dt10的约0.5倍，并且等于或小于
第一水平间隙dt10的约5.0倍。
[0134]
当第二水平间隙dt11小于第一水平间隙dt10的约0.5倍时，第一掩模msk1的强度可减少。当通过激光处理金属掩模时，可提供更高的精度，并且因此可以狭窄地设计第二水平间隙dt11。然而，当第二水平间隙dt11小于第一水平间隙dt10的约0.5倍时，金属掩模的耐久性可劣化。因此，随着重复沉积工艺，金属掩模可容易损坏，并且金属掩模的寿命可减少。
[0135]
并且，当第二水平间隙dt11大于第一水平间隙dt10的约5倍时，主区ma和子区sa之间的边界的可见性可增加。随着第二水平间隙dt11和第一水平间隙dt10之间的差增加，可清楚地区分主区ma和子区sa之间的边界。在本发明的实施方式中，由于第二水平间隙dt11设定为等于或小于第一水平间隙dt10的约5倍，所以可解决边界可见性缺陷，并且可提供在整个显示区上均匀显示图像的显示面板。类似地，如图10b中阐释，在第二掩模msk2中，主开口op_mg1通过第一水平间隙dt20彼此间隔开，并且子开口op_mg2通过第二水平间隙dt21彼此间隔开。主开口op_mg1和子开口op_mg2的在水平方向上彼此相邻的开口通过第三水平间隙dt22彼此间隔开。
[0136]
主开口op_mg1可通过第一对角线间隙dt23彼此间隔开，并且主开口op_mg1和子开口op_mg2的在对角线方向上彼此相邻的开口可通过第二对角线间隙dt24彼此间隔开。在该实施方式中，对角线间隙可限定为在对角线方向上的间隔距离，并且可为在主区ma和子区sa之间的边界的对角线方向上的间隔距离。图10b中的对角线间隙可对应于在第一方向轴dr1和第二方向轴dr2之间的对角线轴上的间隔空间。下文，将省略冗余的描述。并且，主发光开口和子发光开口的在水平方向上彼此相邻的发光开口可通过发光间隙dt25彼此间隔开。
[0137]
在该实施方式中，第二水平间隙dt21和第三水平间隙dt22中的每一个可设计为等于或大于第一水平间隙dt20的约0.5倍，并且等于或小于第一水平间隙dt20的约5.0倍。由于第二掩模msk2的第二水平间隙dt21和第三水平间隙dt22中的每一个设计为等于或大于第一水平间隙dt20的约0.5倍，并且等于或小于第一水平间隙dt20的约5.0倍，所以可提供能够提高第二掩模msk2的强度并且减少主区ma和子区sa之间的边界的可见性的薄膜图案。
[0138]
相似地，如图10c中阐释，在第三掩模msk3中，主开口op_mb1可通过第一水平间隙dt30彼此间隔开，并且主开口op_mb1和子开口op_mb2的在水平方向上彼此相邻的开口可通过第二水平间隙dt31彼此间隔开。
[0139]
主开口op_mb1可通过第一对角线间隙dt32彼此间隔开，并且主开口op_mb1和子开口op_mb2的在对角线方向上彼此相邻的开口可通过第二对角线间隙dt33彼此间隔开。并且，主发光开口和子发光开口的在水平方向上彼此相邻的发光开口可通过发光间隙dt34彼此间隔开。
[0140]
在该实施方式中，第二水平间隙dt31可设计为等于或大于第一水平间隙dt30的约0.5倍，并且等于或小于第一水平间隙dt30的约5.0倍。由于第三掩模msk3的第二水平间隙dt31设计为等于或大于第一水平间隙dt30的约0.5倍并且等于或小于第一水平间隙dt30的约5.0倍，所以可提供能够提高第三掩模msk3的强度并且减少主区ma和子区sa之间的边界的可见性的薄膜图案。
[0141]
图11a为阐释在本发明的实施方式中的工作基板的一部分的实施方式的平面图，
并且图11b至图11d为阐释根据本发明的掩模的实施方式的一部分的平面图。图11a阐释了对应于图9的区，并且图11b至图11d阐释了对应于图11a的掩模的区。下文，将参考图11a至图11d描述本发明的实施方式。
[0142]
如图11a中阐释，在工作基板ws2中，发光开口op-r11a、op-g11a、op-b11a、op-r21a、op-g21a和op-b21a的布置可与图9中的发光开口op-r11、op-g11、op-b11、op-r21、op-g21和op-b21的布置不同。在该实施方式中，发光开口op-r11a、op-g11a、op-b11a、op-r21a、op-g21a和op-b21a的布置可通过相对于参考轴rop布置绿色发光开口op-g11a和op-g21a而获得。
[0143]
红、绿和蓝的三原色中的绿色具有比其他颜色的可见性更大的可见性。因此，可设计掩模msk1a、msk2a和msk3a，使得主区ma的绿色发光开口op-g11a和子区sa的绿色发光开口op-g21a之间的水平距离设计为防止相对于具有最容易识别的绿色的绿色发光开口op-g11a和op-g21a，可见性劣化的距离，主区ma的绿色发光开口op-g11a和子区sa的绿色发光开口op-g21a彼此相邻，主区ma和子区sa之间的边界在主区ma的绿色发光开口op-g11a和子区sa的绿色发光开口op-g21a之间。基于此，开口之间的距离可设计为确保掩模msk1a、msk2a和msk3a中的每一个的耐久性。
[0144]
如图11b中阐释，在第一掩模msk1a中，当主开口op_mr1a通过第一对角线间隙dt12a彼此间隔开，并且主开口op_mr1a和子开口op_mr2a的在边界处彼此相邻的开口通过第二对角线间隙dt13a彼此间隔开时，第二对角线间隙dt13a可设计为等于或大于第一对角线间隙dt12a的约0.5倍并且等于或小于第一对角线间隙dt12a的约5.0倍。第一掩模msk1a的间隙dt10a、dt11a和dt14a可分别类似于图10a的第一掩模msk1的间隙dt10、dt11和dt14，并且将省略其详细描述。
[0145]
如图11c中阐释，由于第二掩模msk2a对应于绿色发光开口op-g11a和op-g21a，所以在第二掩模msk2a中，相对于参考轴rop(见图11a)主开口op-mg1a的一部分可与子开口op-mg2a与水平方向平行布置。在边界处彼此相邻的主开口op-mg1a和子开口op-mg2a之间的水平间隙dt25a可设计为大于第一掩模msk1a的第一对角线间隙dt12a。第二掩模msk2a的间隙dt20a、dt21a、dt22a、dt23a和dt24a可分别类似于图10b的第二掩模msk2的间隙dt20、dt21、dt22、dt23和dt24，并且将省略其详细描述。
[0146]
如图11d中阐释，在第三掩模msk3a中，当主开口op_mb1a通过第一对角线间隙dt32a彼此间隔开，并且主开口op_mb1a和子开口op_mb2a的在边界处彼此相邻的开口通过第二对角线间隙dt33a彼此间隔开时，第二对角线间隙dt33a可设计为等于或大于第一对角线间隙dt32a的约0.5倍并且等于或小于第一对角线间隙dt32a的约5.0倍。第三掩模msk3a的间隙dt30a、dt31a和dt34a可分别类似于图10c的第三掩模msk3的间隙dt30、dt31和dt34，并且将省略其详细描述。
[0147]
在本发明的实施方式中，可通过相对于具有高可见性的绿色的发光图案的水平布置设计掩模msk1a、msk2a和msk3a的开口的布置来提供具有均匀的颜色分布而不是偏向红色和蓝色中的一种的显示面板。并且，可设计具有提高的耐久性并且在主区ma和子区sa中限定具有不同平面面积的开口的掩模msk1a、msk2a和msk3a。
[0148]
图12a为阐释根据本发明的显示设备的一部分的实施方式的透视图。图12b为用于构成图12a中的显示面板的单位单元的平面图。图12b阐释了对应于图6b的区。下文，将参考
图12a和图12b描述本发明的实施方式。
[0149]
如图12a中阐释，显示设备dd可包括显示面板dp和电子模块em。显示面板dp显示图像。在平面图中，电子模块em可与显示面板dp重叠。电子模块em可通过由显示面板dp中的虚线阐释的区接收光或将光输出至外侧。因此，由虚线阐释的区可在图像显示模式和透明模式之间转换。
[0150]
如图12b中阐释，显示区da_u可包括主区ma_u和子区sa_u。如上述，可控制子区sa_u以在图像显示模式和透明模式之间转换。在该实施方式中，设置在主区ma_u中的发光区可具有与设置在子区sa_u中的发光区的平面面积不同的平面面积。
[0151]
在本发明的实施方式中，薄膜图案可通过一个掩模同时提供至具有不同平面面积的主区ma_u和子区sa_u。因此，可简化工艺，并且可节省工艺成本。并且，如上述，因为主区ma_u和子区sa_u的开口之间的距离设计为等于或大于主区ma_u中限定的开口之间的距离的约0.5倍并且等于或小于主区ma_u中限定的开口之间的距离的约5.0倍，所以可提供防止主区ma_u和子区sa_u的可见性劣化的薄膜图案，并且可提供具有提高的耐久性的掩模。
[0152]
图13a为根据本发明的显示设备的实施方式的透视图。图13b为阐释图13a中的显示设备的一个单位单元区的平面图。图13b为阐释图13a中的显示设备的单位单元us_c并且对应图6b的视图。下文，将参考图13a和图13b描述本发明的实施方式。
[0153]
如图13a中阐释，显示设备dd可在其前表面和侧表面上显示图像。显示设备dd可具有具备多个区的显示区da_c。
[0154]
如图13b中阐释，单位单元us_c中的显示区da_c可包括多个主区ma_c1和ma_c2以及多个子区sa_c1、sa_c2、sa_c3和sa_c4。主区ma_c1和ma_c2包括第一主区ma_c1和第二主区ma_c2。
[0155]
第一主区ma_c1设置在显示区da_c的中心部分处。第一主区ma_c1可对应于显示设备dd的前表面。第二主区ma_c2可与第一主区ma_c1的侧的每一个相邻。第二主区ma_c2可对应于显示设备dd的侧表面。
[0156]
子区sa_c1、sa_c2、sa_c3和sa_c4可包括第一子区至第四子区sa_c1、sa_c2、sa_c3和sa_c4。第一子区至第四子区sa_c1、sa_c2、sa_c3和sa_c4可对应于显示设备dd的拐角。
[0157]
在本发明的实施方式中，主区ma_c1和ma_c2以及子区sa_c1、sa_c2、sa_c3和sa_c4可包括具有不同平面面积的发光图案。并且，第一主区ma_c1和第二主区ma_c2可包括具有不同平面面积的发光图案。
[0158]
在本发明的实施方式中，设置在主区ma_c1和ma_c2以及子区sa_c1、sa_c2、sa_c3和sa_c4中的发光图案可通过限定具有不同平面面积的开口的一个掩模而一次沉积。因此，可简化工艺，并且可节省工艺成本。并且，在本发明的实施方式中，尽管限定了具有不同平面面积的开口，但是可通过控制在边界区处的开口之间的距离而提供具有提高的耐久性的掩模。
[0159]
因此，本发明的实施方式可提供掩模，其设计为防止包括不同开口的金属掩模的耐久性劣化。并且，本发明的实施方式可通过一个掩模提供具有不同平面面积的发光图案，以简化显示设备的工艺并且节省工艺成本。
[0160]
尽管已经描述了本发明的实施方式，但是应理解，本发明不应限于这些实施方式，而是在本发明的精神和范围内本领域普通技术人员可进行各种改变和修改。