一种用于探测器的干法刻蚀装置的制作方法

技术特征：
1.一种用于探测器的干法刻蚀装置，用于对晶圆干法刻蚀加工，其特征在于，包括：一刻蚀腔体，其敞口设置；一刻蚀组件，设置于所述刻蚀腔体内；一进气箱，与所述刻蚀腔体连通；一抽真空设备，与所述刻蚀腔体连通；多个夹持部，用于夹持所述晶圆；一动力部，用于带动所述夹持部进入或脱离所述刻蚀腔体的上方区域；一封闭环；一驱动部，用于带动所述封闭环移动，以将所述夹持部与所述刻蚀腔体的密封。2.根据权利要求1所述的用于探测器的干法刻蚀装置，所述封闭环套设在所述刻蚀腔体上，且能够所述刻蚀腔体沿竖直方向移动；所述驱动部为气缸，该气缸的输出端与所述刻蚀腔体连接。3.根据权利要求1所述的用于探测器的干法刻蚀装置，所述动力部包括：支撑板；电机，其输出端与所述支撑板连接；其中，多个所述夹持部安装在所述支撑板上，并分布于所述电机的输出端的四周。4.根据权利要求3所述的用于探测器的干法刻蚀装置，所述夹持部包括：一夹持组件，安装在所述支撑板上；一第一密封环，安装在所述支撑板上，并位于所述夹持组件的四周；所述封闭环的顶端设有用于收容所述第一密封环的第一收容槽。5.根据权利要求4所述的用于探测器的干法刻蚀装置，所述夹持部还包括一第二密封环，安装在所述支撑板上，并位于所述夹持组件的四周；所述封闭环的顶端设有用于收容所述第二密封环的第二收容槽。6.根据权利要求4所述的用于探测器的干法刻蚀装置，所述第一密封环或所述第二密封环的截面宽度自下往上逐渐增大。7.根据权利要求4所述的用于探测器的干法刻蚀装置，所述夹持组件包括多个呈周向分布的夹持杆，所述夹持杆与所述支撑板连接，该夹持杆上设有用于放置晶圆的台阶。8.根据权利要求7所述的用于探测器的干法刻蚀装置，所述台阶的数量至少为两个。9.根据权利要求7所述的用于探测器的干法刻蚀装置，所述夹持杆与所述支撑板可拆卸连接。10.根据权利要求1所述的用于探测器的干法刻蚀装置，所述刻蚀腔体内设有多个进气孔，环绕布置与所述刻蚀腔体内，多个所述进气孔与所述进气箱连通。

技术总结
本发明公开了一种用于探测器的干法刻蚀装置，用于对晶圆干法刻蚀加工，包括：一刻蚀腔体，其敞口设置；一刻蚀组件，设置于所述刻蚀腔体内；一进气箱，与所述刻蚀腔体连通；一抽真空设备，与所述刻蚀腔体连通；多个夹持部，用于夹持所述晶圆；一动力部，用于带动所述夹持部进入或脱离所述刻蚀腔体的上方区域；一封闭环；一驱动部，用于带动所述封闭环移动，以将所述夹持部与所述刻蚀腔体的密封。在刻蚀加工完成后，停止作业。利用驱动部带动密封环下降，利用动力部带动夹持部移开，让另一个夹持部、晶圆位于刻蚀腔体的上方，再次进行重复刻蚀作业。能够连续不断进行刻蚀加工作业，效率高。效率高。效率高。


技术研发人员：万远涛 廖世容 况诗吟
受保护的技术使用者：浙江光特科技有限公司
技术研发日：2021.11.02
技术公布日：2022/2/8