用于斜面蚀刻腔室的加热器支撑套件的制作方法

用于斜面蚀刻腔室的加热器支撑套件
1.发明背景
技术领域
2.本文描述的实施例总体涉及用于处理基板的方法和设备。更具体地，本文描述的实施例涉及用于斜面蚀刻腔室的加热器支撑套件。
3.相关技术的描述
4.等离子体处理常用于用于制造集成电路、平板显示器、磁性介质和其他器件的许多半导体制造工艺。等离子体或离子化气体在远程等离子体源(rps)内产生并且流入处理腔室中，并且然后被施加到工件以完成工艺，诸如沉积、蚀刻或注入。处理一般通过将前驱物气体或气体混合物引入容纳基板的真空腔室中完成。在沉积或蚀刻工艺期间，部件(诸如掩模或喷头)可与基板相对地定位。腔室中的前驱物气体或气体混合物通过使用rps被激励(例如，激发)成等离子体。所激发的气体或气体混合物进行反应，以在所述基板的边缘上选择性蚀刻膜层。
5.然而，基板的倾斜边缘(诸如其侧面和拐角)经历可能与在基板的其他部分处经历的状况不同的状况。这些不同状况影响处理参数，诸如膜厚度、蚀刻均匀性和/或膜应力。在基板的中心和边缘之间的蚀刻速率和/或膜性质(诸如膜厚度或应力)的差异变得显著，并且可能造成器件的性能欠佳。
6.因此，本领域中需要的是一种用于斜面蚀刻处理的改进的设备。


技术实现要素：

7.本文描述的实施例总体涉及用于处理基板的设备。在一个或多个实施例中，一种加热器支撑套件包括加热器组件、卡环、加热器臂组件和加热器支撑板。所述加热器组件含有具有上表面和下表面的加热器板。所述卡环设置在所述加热器板的所述上表面的至少一部分上。所述加热器臂组件含有加热器臂并且支撑所述加热器组件。所述加热器支撑板设置在所述加热器板与所述加热器臂之间，并且与所述加热器板的所述下表面的至少一部分接触。在其他实施例中，所述加热器支撑套件还包括设置在所述加热器支撑板下方的下支撑板和设置在所述下支撑板下方的中心插塞。
8.在一个或多个实施例中，一种用于斜面蚀刻处理的方法包括将基板放在处理腔室内部的基板支撑件上，所述基板具有沉积层，所述沉积层包括中心和斜面边缘。将掩模放在所述基板之上。将边缘环设置在所述基板周围和基板支撑件上。所述方法还包括：使工艺气体混合物流动以在所述斜面边缘附近进行蚀刻；和使净化气体在所述基板的顶部附近流过所述掩模的在所述基板的中心的第一孔、第二孔和第三孔。
9.在其他实施例中，一种方法包括将基板放在处理腔室内部的基板支撑件上，所述基板具有沉积层，所述沉积层包括中心和斜面边缘。将掩模放在所述基板之上。将边缘环设置在所述基板下方和基板支撑件上。所述方法还包括升高所述边缘环以接触所述掩模。所述方法还包括：使工艺气体混合物在所述斜面边缘附近流动；和使净化气体在所述基板的
顶部附近流过所述掩模的在所述基板的中心的第一孔、第二孔和第三孔。
10.在一些实施例中，一种方法包括将基板放在处理腔室内部的基板支撑件上，所述基板具有沉积层，所述沉积层包括中心和斜面边缘。将掩模放在所述基板之上。将边缘环设置在所述基板周围和基板支撑件上。所述方法还包括：使工艺气体混合物在所述斜面边缘附近流动；和使净化气体在所述基板的顶部附近流过所述掩模的在所述基板的中心的第一孔、第二孔和第三孔。工艺气体包括氮(n2)、氧(o2)、三氟化氮(nf3)、氩、氦、或它们的任何组合中的一种或多种。
附图说明
11.为了可详细地理解本公开内容的上述特征，可参考实施例来得到以上简要地概述的本公开内容的更特别的描述，实施例中的一些示出在附图中。然而，需注意，附图仅仅示出了示例性实施例，并且因此不应当被视为对其范围的限制，可允许其他等效实施例。
12.图1描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的处理腔室100的示意性剖视图。
13.图2描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的图1的腔室中利用的掩模的示意性底视图。
14.图3描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的图1的腔室中利用的边缘环的示意性底视图。
15.图4描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的图1的腔室中利用的盖板的示意性顶视图。
16.图5描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的含有加热器支撑套件的处理腔室的示意性剖视图。
17.图6描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的图5中示出的加热器支撑套件的示意性顶视图。
18.图7描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的图5中示出的加热器支撑套件的示意性分解图。
19.图8描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的含有另一个加热器支撑套件的处理腔室的示意性剖视图。
20.图9描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的图8中示出的加热器支撑套件的示意性分解图。
21.图10描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的附接组件的示意性剖视图。
22.图11描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的加热器组件的示意性顶视图。
23.图12描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的图11中示出的加热器组件的示意性透视图。
24.图13a至图13c描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的防滑钉组件的示意图。
25.图14a至图14c描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的加热器支撑板
的示意图。
26.图15a至图15b描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的下支撑板的示意图。
27.为了促成理解，已经尽可能使用相同的附图标记标示各图共有的相同要素。设想的是，一个或多个实施例的要素和特征可有益地结合在其他实施例中。
具体实施方式
28.本文描述的实施例总体涉及用于处理基板的方法和设备。更具体地，本文描述的实施方式涉及用于斜面蚀刻处理的方法和设备。在一些实施例中，提供了一种清洁半导体基板的斜面边缘的方法。所述方法包括将基板放在处理腔室内部的盖板上，所述基板具有沉积层，所述沉积层包括中心和斜面边缘。将掩模放在基板之上。将边缘环设置在基板周围/下方。所述方法还包括：使工艺气体混合物在斜面边缘附近流动；和使净化气体在基板的顶部附近在基板的中心流过掩模的第一孔、第二孔和第三孔。
29.图1示出了根据本公开内容的一方面的处理腔室100的示意性剖视图。如图所示，处理腔室100是适于蚀刻基板(诸如基板154)的蚀刻腔室。可适于从本公开内容的示例性方面受益的处理腔室的示例是可商购自位于加利福尼亚州圣克拉拉市(santa clara,california)的应用材料公司(applied materials,inc.)的蚀刻处理腔室和precision
tm
处理腔室。设想的是，其他处理系统(包括来自其他制造商的那些)可适于从本公开内容的方面受益。
30.处理腔室100可用于各种等离子体工艺。在一方面，处理腔室100可用于用一种或多种蚀刻剂执行干法蚀刻。例如，处理腔室可用于点燃来自一种或多种碳氟化合物(例如，四氟化碳、六氟乙烷等)、氮(n2)、氧(o2)、三氟化氮(nf3)或它们的组合的等离子体。在另一个实施例中，处理腔室100可用于用一种或多种化学剂进行的等离子体增强化学气相沉积。
31.处理腔室100包括腔室主体102、盖组件106、支撑组件104和气体出口160。盖组件106定位在腔室主体102的上端部处。图1的盖组件106和支撑组件104可与任何处理腔室一起用于等离子体或热处理。来自其他制造商的腔室也可与上述部件一起使用。支撑组件104设置在腔室主体102内，并且盖组件106耦接到腔室主体102并且将支撑组件104封闭在处理容积120中。腔室主体102包括形成在所述腔室主体102的侧壁中的狭缝阀开口126。狭缝阀开口126选择性打开和关闭，以允许基板搬运机器人(未示出)进入处理容积120来进行基板传送。
32.隔离体110可以是介电材料，诸如陶瓷或金属氧化物(例如铝氧化物和/或铝氮化物)，接触电极，并且将电极与气体分配器112和腔室主体102电分离且热分离。气体分配器112具有用于准许工艺气体进入处理容积120的开口。工艺气体可经由导管114供应到处理腔室100，并且工艺气体可在流过通向基板154的开口之前进入气体混合区域116。气体分配器112可连接到rps。
33.支撑组件104可以是任何合适的基板支撑件，诸如真空吸盘、静电吸盘或受热底座。在一个或多个实施例中，基板支撑件是“l”形底座，以节省用于装载锁定安装的空间。支撑组件具有真空吸盘线、加热线，以及探测支撑组件温度的tc。在一些实施例中，基板支撑件104被配置为支撑基板154以进行处理。升降机构允许基板支撑件104在腔室主体102内在
下传送位置与多个升高处理位置之间竖直地移动。支撑组件104可由金属或陶瓷材料形成，所述金属或陶瓷材料例如为金属氧化物或氮化物或者氧化物/氮化物混合物，诸如铝、铝氧化物、铝氮化物或铝氧化物/铝氮化物混合物。加热器122可耦接到支撑组件104。加热器122可嵌入支撑组件104内或耦接到支撑组件104的表面。加热器122可耦接到在腔室100外部延伸的电源。
34.反应物阻断板或掩模150可以是盖组件106的部分，或者可以是单独的可拆卸件。掩模150具有圆顶形主体204，圆顶形主体204具有平坦底表面。如图2所示，掩模150具有圆形孔隙。在孔隙的中心是三个开口202以形成小扼流圈，从而确保净化气体在所有方向上均匀地分布。在一些实施例中，三个开口202可以是均匀大小和形状并且等距地间隔开。掩模150可降低以接触基板154。在一些实施例中，掩模150可以是石英或其他陶瓷材料，并且可根据需要来涂覆有ni或nio，或者可以是耐化学或耐等离子体材料，诸如氧化钇或钇氧化物。盖组件106进一步包括等离子体源162。等离子体源162与掩模150相邻。
35.图3示出了根据本公开内容的一方面的图1的腔室中利用的边缘环180的示意性顶视图。在一些实施例中，边缘环180设置在接触掩模150附近。边缘环180具有环形主体306。边缘环180包括用于接合基板组件104的若干开口304。边缘环180设置在基板组件104上。在一些实施例中，边缘环180可设置在盖板152附近。边缘环180可包括陶瓷材料，诸如石英或氧化铝。边缘环180具有多个突出部302。突出部302可以是圆形隆起、正方形、矩形、六边形或任何其他形状。突出部302布置在主体306周围。示出了十个突出部302，然而，可存在更多或更少的突出部302。突出部可围绕边缘环180的主体306的圆周等距地间隔开。在一些实施例中，突出部302减少从基板组件104和基板154的热传递。另外地，边缘环180在基板的顶部与基板154的底部之间提供压差。在一些实施例中，边缘环180提供在基板154上方的均匀调平。
36.图4示出了根据本公开内容的一方面的图1的腔室中利用的盖板152的示意性顶视图。盖板152包括中心孔隙402、多个开口404、多个紧固件410、扇形边缘406和多个辐条408。中心孔隙402可以是圆形开口、六边形开口、矩形开口或任何其他形状的开口。多个开口404是围绕中心孔隙402周向地移位的圆形开口。多个开口404中的每一者小于中心孔隙402。尽管本公开内容示出了八个开口404，但是多个开口404可包括多于或少于八个的开口404。在一些实施例中，开口404围绕中心孔隙402均匀地间隔开。在其他实施例中，在开口404之间的距离是变化的。多个辐条408是盖板152中的沟槽。多个辐条408从包围中心孔隙402的圆形沟槽辐射出。多个辐条408是朝向扇形边缘406径向向外延伸的直线沟槽。扇形边缘406包括具有均匀凹痕的波状图案。扇形边缘406可具有圆形边缘、正方形边缘或尖锐边缘。当放在盖板152和卡环180上时，扇形边缘406防止基板滑动。
37.在操作中，蚀刻基板的方法开始于将基板放在处理腔室内部的基板支撑件上。在相同腔室或不同腔室中进行沉积工艺后，基板具有介电层、中心和斜面边缘。将掩模150降低到基板154之上，以在掩模与基板之间维持在0.003英寸与0.100英寸之间的小间隙。在一个或多个实施例中，升高基板154和边缘环180，以接触掩模150。在一些实施例中，在基板154与掩模150之间的距离小于100密耳。在一些实施例中，在基板154与掩模150之间的距离为约10密耳。在其他实施例中，在基板154与掩模150之间的距离小于100密耳，诸如在5密耳与20密耳之间。边缘环180设置在基板154周围/下方。在其他实施例中，边缘环180设置在盖
板152周围。在其他实施例中，边缘环180设置在基板组件104之上。所述方法通过使工艺气体混合物在基板154的顶部附近和斜面边缘附近流动来继续。工艺气体可以是任何数量的蚀刻剂气体。工艺气体蚀刻斜面边缘。工艺气体可包括氮(n2)、氧(o2)、三氟化氮(nf3)、氩、氦或它们的任何组合中的一种或多种。所述方法进一步包括使净化气体在基板154的中心周围流过掩模150的三个开口202。
38.通过使蚀刻剂气体在第一位置处流动并且使净化气体在第二位置处流动，可实现更均匀且受控的蚀刻。另外地，掩模中的各种开口产生小流量扼流圈并且确保净化气体在所有方向上均匀地分布。最后，扇形盖板可在基板放置和拾取期间提供稳定性。
39.图5描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的含有加热器支撑套件501的处理腔室500的示意性剖视图。处理腔室500可具有与上文描述和讨论的处理腔室100相同的部件和/或配置。替代地，处理腔室100中的处理套件或部件可用加热器支撑套件501和/或其部件或零件代替。处理腔室500还包括腔室主体502和腔室盖504。
40.在一个或多个实施例中，加热器支撑套件501包括卡环520、加热器组件530、加热器臂组件540、加热器支撑板560、下支撑板580和中心插塞590，如图5所示。
41.根据本文描述和讨论的一个或多个实施例，图6描绘了加热器支撑套件501的示意性顶视图，并且图7描绘了加热器支撑套件501的示意性分解图。在一些实施例中，加热器组件530含有具有上表面531和下表面533的加热器板532，并且卡环520设置在加热器板532的上表面531的至少一部分上。加热器臂组件540含有加热器臂542并且支撑加热器组件530。加热器臂组件540还含有耦接到加热器臂542的下表面的加热器冷却轴544。加热器支撑板560设置在加热器板532与加热器臂542之间，并且与加热器板532的下表面533的至少一部分接触。
42.加热器支撑套件501包括设置在加热器支撑板560下方的下支撑板580。加热器支撑套件501包括设置在下支撑板580下方的中心插塞590。中心插塞590可耦接或附接到腔室主体502。下支撑板580含有或包括一种或多种材料，诸如钢、不锈钢、铁、铬、镍、铝、它们的合金或它们的任何组合。加热器支撑套件501进一步包括耦接到加热器臂组件540的泵吸板510，如图7所示。
43.在其他实施例中，加热器支撑套件501包括：加热器组件530，加热器组件530含有具有上表面531和下表面533的加热器板532；卡环520，卡环520设置在加热器板532的上表面531的至少一部分上；加热器臂组件540，加热器臂组件540含有加热器臂542并且支撑加热器组件530；和加热器支撑板560，加热器支撑板560设置在加热器板532与加热器臂542之间，并且与加热器板532的下表面533的至少一部分接触。加热器支撑套件501还包括设置在加热器支撑板560下方的下支撑板580和设置在下支撑板580下方的中心插塞590。
44.图8描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的含有加热器支撑套件801的处理腔室800的示意性剖视图。处理腔室800可具有与上文描述和讨论的处理腔室100相同的部件和/或配置。替代地，处理腔室100中的处理套件或部件可用加热器支撑套件801和/或其部件或零件代替。处理腔室还包括腔室主体802和腔室盖804。
45.在一个或多个实施例中，加热器支撑套件801包括卡环520、加热器组件530、加热器臂组件840、加热器支撑板560和中心插塞890，如图8所示。图9描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的加热器支撑套件801的示意性分解图。
46.在其他实施例中，加热器支撑套件801还包括设置在加热器支撑板560下方的中心插塞890。中心插塞890可耦接或附接到腔室主体802。加热器支撑套件801进一步包括耦接到加热器臂组件840的泵吸板810，如图9所示。加热器臂组件840含有防滑钉组件845和加热器冷却轴544。防滑钉组件845可包括防滑钉846和心轴847。防滑钉846可围绕心轴847旋转，并且可接合和脱离心轴847，同时减少或消除在腔室部件(例如，腔室主体802和/或腔室盖804)和/或防滑钉846之间的任何空间或间隙。
47.在一些实施例中，加热器支撑套件801包括：加热器组件530，加热器组件530含有具有上表面531和下表面533的加热器板532；卡环520，卡环520设置在加热器板532的上表面的至少一部分上；和加热器臂组件540，加热器臂组件540含有加热器臂542并且支撑加热器组件530。加热器支撑套件801还包括：加热器支撑板560，加热器支撑板560设置在加热器板532与加热器臂542之间，并且与加热器板532的下表面的至少一部分接触；和中心插塞890，中心插塞890设置在加热器板560下方。
48.图10描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的附接组件535的示意性剖视图。加热器支撑套件501、801中的任一者上可含有并使用附接组件535。附接组件535包括将加热器板532和中心插塞590、890耦接在一起的附接组件535。附接组件535含有夹紧插塞534、一个或多个紧固件536和一个或多个致动装置538。在一些示例中，附接组件535含有两个或更多个紧固件536和两个或更多个致动装置538。紧固件536可以是或包括螺栓、螺钉等。致动装置538含有一个或多个弹簧。在一些示例中，致动装置538是一个或多个波形弹簧。当组装加热器支撑套件501、801时，一个或多个致动装置538可用于产生用于控制预加载力的载荷。
49.根据本文描述和讨论的一个或多个实施例，图11描绘了加热器组件530的示意性顶视图，并且图12描绘了加热器组件530的示意性透视图。加热器板531可包括环绕加热器板531的外侧部分的沟槽537。如图所示，卡环520可定位在沟槽537上。加热器板531可包括一种或多种材料，诸如铝、铝合金、钛、钢、不锈钢、它们的合金或它们的任何组合。
50.图13a至图13c描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的防滑钉组件545的示意图。防滑钉组件545含有耦接到加热器臂542的上表面541的防滑钉546。在一些实施例中，防滑钉组件545包括一个或多个紧固件548。紧固件548中的每一者可独立地是或包括螺栓或螺钉。在一些示例中，紧固件548中的每一者可以是定位螺钉、锁定定位螺钉、导向螺钉、带肩螺钉等。在一个或多个实施例中，防滑钉组件545进一步包括定位螺钉、带肩螺钉、桥接杆和锁定定位螺钉。例如，防滑钉组件545可包括两个或更多个定位螺钉和两个或更多个带肩螺钉。
51.图14a至图14c描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的加热器支撑板560的示意图。加热器支撑板560具有上表面561和下表面563，如图14a和图14c分别所示。图14b描绘了加热器支撑板560的剖视图。加热器支撑板560是环，且具有在上表面561和下表面563之间延伸穿过加热器支撑板560的孔口或孔562。一个或多个凸起特征562从下表面563延伸，并且设置在加热器支撑板560的外边缘周围。
52.加热器支撑板560在加热器板532的外边缘上提供物理支撑。附接组件535在加热器板532上向下提供轴向力，并且加热器支撑板560维持加热器板532在轴向力下不弯曲或变形。加热器支撑板560含有一种或多种材料，诸如石英、二氧化硅或二氧化硅、氧化铝或铝
氧化物、铝氮化物、铝的氧氮化物、氧化钇或钇氧化物、一种或多种金属、它们的硅酸盐、它们的陶瓷或它们的任何组合。加热器支撑板560中含有的示例性金属可以是或包括钢、不锈钢、铁、铬、镍、铝、它们的合金或它们的任何组合。
53.图15a至图15b描绘了根据本文描述和讨论的一个或多个实施例的下支撑板580的示意图。下支撑板580具有上表面581和下表面583，如图15a和图15b分别所示。下支撑板580可包括一种或多种材料，诸如钢、不锈钢、铁、铬、镍、铝、它们的合金或它们的任何组合。
54.在一个或多个实施例中，加热器的支撑结构在斜面蚀刻腔室中是有帮助的。当在较高温度下操作加热器并且间距要求严格(
±
几密耳)时，加热器表面可由加热器支撑板支撑。气体净化流穿过掩模的中心，并且o2/n2自由基流在晶片斜面表面处。在晶片与掩模之间的操作间距状况为在约5密耳至约20密耳的距离处，但是间距公差为
±
约1密耳。在一些示例中，如果不维持间距，则可能产生对斜面蚀刻性能和腔室生产率的影响。加热器支撑板有助于维持所期望的间距。
55.由于蚀刻发生在晶片斜面表面上，因此支撑结构在加热器边缘处更稳健，如图所示。因此，在加热器边缘表面下方使用加热器支撑板。在一些示例中，加热器支撑板含有可在高温下操作而不变形的材料，诸如石英、钢或其他金属、alox、aln或它们的组合。在一些配置中，加热器支撑板用于支撑加热器表面，并且还可在加热器表面下方提供均匀泵吸通道。加热器在中心处是弹簧加载的。
56.加热器支撑板提供了使斜面蚀刻性能更均匀的稳健性，并且不允许随晶片循环而发生任何加热器变形/蠕变。
57.加热器支撑板可以是在加热器下方的任何几何设计。所述加热器支撑板可被粘结或夹紧，或者正好放在加热器表面下方。加热器支撑板可以是在边缘上或者在加热器结构上或仅在中心是均匀的。
58.本公开内容的实施例进一步涉及以下段落1至18中的任一者或多者：
59.1.一种加热器支撑套件，包括：加热器组件，所述加热器组件含有具有上表面和下表面的加热器板；卡环，所述卡环设置在所述加热器板的所述上表面的至少一部分上；加热器臂组件，所述加热器臂组件包括加热器臂并且支撑所述加热器组件；和加热器支撑板，所述加热器支撑板设置在所述加热器板与所述加热器臂之间并且与所述加热器板的所述下表面的至少一部分接触。
60.2.一种加热器支撑套件，包括：加热器组件，所述加热器组件含有具有上表面和下表面的加热器板；卡环，所述卡环设置在所述加热器板的所述上表面的至少一部分上；加热器臂组件，所述加热器臂组件包括加热器臂并且支撑所述加热器组件；加热器支撑板，所述加热器支撑板设置在所述加热器板与所述加热器臂之间并且与所述加热器板的所述下表面的至少一部分接触；下支撑板，所述下支撑板设置在所述加热器支撑板下方；和中心插塞，所述中心插塞设置在所述下支撑板下方。
61.3.一种加热器支撑套件，包括：加热器组件，所述加热器组件含有具有上表面和下表面的加热器板；卡环，所述卡环设置在所述加热器板的所述上表面的至少一部分上；加热器臂组件，所述加热器臂组件包括加热器臂并且支撑所述加热器组件；加热器支撑板，所述加热器支撑板设置在所述加热器板与所述加热器臂之间并且与所述加热器板的所述下表面的至少一部分接触；和中心插塞，所述中心插塞设置在所述加热器支撑板下方。
62.4.根据段落1至3中任一项的加热器支撑套件，进一步包括下支撑板，所述下支撑板设置在所述加热器支撑板下方。
63.5.根据段落1至4中任一项的加热器支撑套件，进一步包括中心插塞，所述中心插塞设置在所述下支撑板下方。
64.6.根据段落1至5中任一项的加热器支撑套件，其中所述下支撑板包括钢、不锈钢、铁、铬、镍、铝、它们的合金或它们的任何组合。
65.7.根据段落1至6中任一项的加热器支撑套件，进一步包括中心插塞，所述中心插塞设置在所述加热器支撑板下方。
66.8.根据段落1至7中任一项的加热器支撑套件，进一步包括附接组件，所述附接组件将所述加热器板和中心插塞耦接在一起。
67.9.根据段落1至8中任一项的加热器支撑套件，其中所述附接组件包括夹紧插塞、紧固件和致动装置。
68.10.根据段落1至9中任一项的加热器支撑套件，其中所述附接组件包括两个或更多个紧固件和两个或更多个致动装置。
69.11.根据段落1至10中任一项的加热器支撑套件，其中所述紧固件包括螺栓或螺钉，并且所述致动装置包括弹簧。
70.12.根据段落1至11中任一项的加热器支撑套件，其中所述弹簧是波形弹簧。
71.13.根据段落1至12中任一项的加热器支撑套件，其中所述加热器臂组件进一步包括耦接到所述加热器臂的上表面的防滑钉。
72.14.根据段落1至13中任一项的加热器支撑套件，其中所述防滑钉进一步包括定位螺钉、带肩螺钉、桥接杆和锁定定位螺钉。
73.15.根据段落1至14中任一项的加热器支撑套件，其中所述防滑钉进一步包括两个或更多个定位螺钉和两个或更多个带肩螺钉。
74.16.根据段落1至15中任一项的加热器支撑套件，其中所述加热器臂组件进一步包括加热器冷却轴，所述加热器冷却轴耦接到所述加热器臂的下表面。
75.17.根据段落1至16中任一项的加热器支撑套件，进一步包括泵吸板，所述泵吸板耦接到所述加热器臂组件。
76.18.根据段落1至17中任一项的加热器支撑套件，其中所述加热器支撑板包括石英、二氧化硅、二氧化硅、氧化铝、铝氧化物、铝氮化物、铝氧氮化物、氧化钇、钇氧化物、金属、它们的硅酸盐、它们的陶瓷或它们的任何组合。
77.尽管前述内容针对的是本公开内容的实施例，但是在不脱离本公开内容的基本范围的情况下可设想其他和进一步实施例，并且本公开内容的范围由所附权利要求书的范围确定。本文描述的所有文件以引用方式并入本文，包括与本文本不矛盾的任何优先权文件和/或测试程序。从前述一般描述和具体实施例中显而易见的是，尽管已经示出和描述了本公开内容的形式，但是在不脱离本公开内容的精神和范围的情况下可作出各种修改。因此，不意图由此限制本公开内容。同样地，出于美国法律的目的，术语“包含”被认为与术语“包括”同义。同样地，每当在组成、元素或一组元素前面加上过渡短语“包含”时，应当理解，也设想了在同一组成或同一组元素前面加上过渡短语“基本上由
……
组成”、“由
……
组成”、“选自由
……
组成的组”或“是”来陈述组成、一种元素或多种元素，反之亦然。
78.某些实施例和特征已经使用一组数值上限和一组数值下限进行描述。应当理解，除非另外指明，否则设想包括任何两个值的组合的范围，例如任何下限值与任何上限值的组合、任何两个下限值的组合和/或任何两个上限值的组合。某些下限、上限和范围出现在一项或多项所附权利要求中。