一种等离子处理真空腔体结构的制作方法

技术特征：
1.一种等离子处理真空腔体结构，包括主体(1)、通气法兰(2)、放置底板(3)和导电柱(5)，所述通气法兰(2)固定连接在主体(1)的外端一侧，和主体(1)相通设置，放置底板(3)设置在主体(1)的底端位置，所述导电柱(5)固定嵌入在主体(1)和放置底板(3)之间，其特征在于：所述主体(1)的内部嵌入设置有总成安装板(4)，所述总成安装板(4)的内侧固定连接有第一限位框(12)和第二限位框(14)，所述第一限位框(12)的底部固定连接有支撑侧板(13)，所述第二限位框(14)的内侧嵌入设置有电极板(6)，所述电极板(6)的表面固定连接有导电条(7)，所述电极板(6)的外端固定连接有绝缘套(8)，所述第一限位框(12)的内侧嵌入设置有导气管(9)，所述导气管(9)表面固定连接有进气支管(10)，所述导气管(9)的表面固定连接有海绵层(11)。2.根据权利要求1所述的一种等离子处理真空腔体结构，其特征在于：所述总成安装板(4)两端呈向上垂直突出设置，且两端突出的顶端位置呈横向折角设置，主体(1)的顶端边缘位置对应总成安装板(4)的两端开设有固定槽。3.根据权利要求1所述的一种等离子处理真空腔体结构，其特征在于：所述第一限位框(12)和第二限位框(14)两者均呈横向设置，竖向排列在总成安装板(4)的内侧底部位置。4.根据权利要求1所述的一种等离子处理真空腔体结构，其特征在于：所述第一限位框(12)两端呈翻转设置，且呈弧形设置，第二限位框(14)的表面均匀分布线路透孔。5.根据权利要求1所述的一种等离子处理真空腔体结构，其特征在于：所述支撑侧板(13)呈横向设置，位于第一限位框(12)的外端底部位置。6.根据权利要求1所述的一种等离子处理真空腔体结构，其特征在于：所述导电条(7)设置两组，分布在电极板(6)的竖向两端位置，且呈“l”状向下折角设置。7.根据权利要求1所述的一种等离子处理真空腔体结构，其特征在于：所述绝缘套(8)设置为海绵套，套接在电极板(6)的外端边缘位置。8.根据权利要求1所述的一种等离子处理真空腔体结构，其特征在于：所述进气支管(10)两个一组，均匀分布设置，且内侧表面设置透孔。

技术总结
本实用新型提供一种等离子处理真空腔体结构，包括主体、通气法兰、放置底板和导电柱，通气法兰固定连接在主体的外端一侧，和主体相通设置，放置底板设置在主体的底端位置，导电柱固定嵌入在主体和放置底板之间，主体的内部嵌入设置有总成安装板，总成安装板的内侧固定连接有第一限位框和第二限位框，第一限位框的底部固定连接有支撑侧板。通过第一限位框和第二限位框达到对导气管和电极板进行限位固定安装的效果，第二限位框表面开设的透孔便于电极板线路的连接，而第一限位框翻转设置，便于对导气管进行夹持固定，通过支撑侧板达到对导气管进行支撑的效果。气管进行支撑的效果。气管进行支撑的效果。


技术研发人员：杨玉飞
受保护的技术使用者：江阴慕达斯真空设备有限公司
技术研发日：2021.06.04
技术公布日：2022/2/7