一种受热均匀的烤盘的制作方法

1.本实用新型涉及烤盘技术领域，具体涉及一种受热均匀的烤盘。


背景技术：

2.目前的电烤盘为了将从食物中烤制出来的油的排出，普遍将电烤盘中的盘面的中间高度略高于边缘高度设置，这样设置的缺陷是容易导致酱汁流出，不能够与食物充分结合；同时目前的烤盘表面为带有凸起的光滑盘面，这种盘面使得食物受热不均匀，导致在烤制一段时间后，食物容易烤糊。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供了一种受热均匀的烤盘，能够避免食物滑落，酱汁能够留存，且与食物充分结合，且其具有凹点，能够使得食物受热均匀，提高烤盘的烤制效率。
4.为达到上述目的，本实用新型采用了下列技术方案：它包含烤盘本体，所述烤盘本体的盘面边缘下陷一体成型有凹槽，烤盘本体的上边缘左右对称一体成型有手柄，烤盘本体的盘面一体成型有麻面层，该麻面层上一体成型有如果按个凸点吸盘，烤盘本体的盘面上一体成型有章鱼爪状棱条；它还包含：
5.凹点，所述凹点为若干个，分为若干圈一体成型于烤盘本体的背面，且每圈中的若干个凹点呈等角度分布。
6.优选地，所述的手柄的正面设有图案层。
7.优选地，所述的手柄的背面一体成型有指纹槽。
8.优选地，位于最外圈的若干个凹点外围的烤盘本体的背面一体成型有凸棱。
9.优选地，所述烤盘本体的背面，位于凹槽位置处，一体成型有保护圈。
10.优选地，所述的烤盘本体的外围套设固定有钢圈。
11.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型提供了一种受热均匀的烤盘，能够避免食物滑落，酱汁能够留存，且与食物充分结合，且其具有凹点，能够使得食物受热均匀，提高烤盘的烤制效率。
12.附图说明：
13.图1是本实用新型的结构示意图。
14.图2是图1的俯视图。
15.图3是图1的仰视图。
16.附图标记说明：
17.烤盘本体1、凹槽1-1、图案层1-2、指纹槽1-3、章鱼爪状棱条2、手柄3、麻面层4、保护圈5、凸棱6、凹点7、凸点吸盘8、钢圈9。
18.具体实施方式：
19.下面将结合附图，对本实用新型中的技术方案进行清楚、完整地描述，以描述中的
优选实施例只作为举例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.如图1-图3所示，本具体实施方式采用如下技术方案：它包含烤盘本体1，烤盘本体1的中心开设有透气孔；所述烤盘本体1的盘面边缘下陷一体成型有凹槽1-1，烤盘本体1的上边缘左右对称一体成型有手柄3，烤盘本体1的盘面一体成型有麻面层4（该麻面层4由不规则纹路与不凹陷一体而成），该麻面层4上一体成型有若干个凸点吸盘8（凸点吸盘8为高于盘面的带有通孔的凸点结构，其能够在烤制食物时，将热量直接传递到食物，并由于温差产生的压力而吸住食物），烤盘本体1的盘面上一体成型有章鱼爪状棱条2；它还包含：
21.凹点7，所述凹点7使得烤盘本体1的盘面受热均匀，其数量为若干个，分为若干圈一体成型于烤盘本体1的背面，且每圈中的若干个凹点7呈等角度分布，且每个凹点7的直径为10mm。
22.作为优选方案，更进一步地，所述的手柄3的正面设有图案层1-2。
23.作为优选方案，更进一步地，所述的手柄3的背面一体成型有指纹槽1-3。
24.作为优选方案，更进一步地，位于最外圈的若干个凹点7外围的烤盘本体1的背面一体成型有凸棱6。
25.作为优选方案，更进一步地，所述烤盘本体1的背面，位于凹槽1-1位置处，一体成型有保护圈5。
26.作为优选方案，更进一步地，所述的烤盘本体1的外围套设固定有钢圈9，且该钢圈9上刻设有产品商标。
27.本具体实施方式的工作原理：将食物放置在烤盘本体1的盘面上的麻面层4上，烤炉的电热丝加热后，热量由烤盘本体1背面的凹点7传递到烤盘本体1的正面，经过与食物接触的麻面层4以及凸点吸盘8，有效将热量均匀的传递到食物中，实现对食物的均匀受热烤制。
28.与现有技术相比，本具体实施方式的有益效果是：本具体实施方式提供了一种受热均匀的烤盘，能够避免食物滑落，酱汁能够留存，且与食物充分结合，且其具有凹点，能够使得食物受热均匀，提高烤盘的烤制效率。
29.对于本领域的技术人员来说，其可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改、部分技术特征的等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种受热均匀的烤盘，它包含烤盘本体（1），所述烤盘本体（1）的盘面边缘下陷一体成型有凹槽（1-1），烤盘本体（1）的上边缘左右对称一体成型有手柄（3），烤盘本体（1）的盘面一体成型有麻面层（4），该麻面层（4）上一体成型有如果按个凸点吸盘（8），烤盘本体（1）的盘面上一体成型有章鱼爪状棱条（2）；其特征在于：它还包含：凹点（7），所述凹点（7）为若干个，分为若干圈一体成型于烤盘本体（1）的背面，且每圈中的若干个凹点（7）呈等角度分布。2.根据权利要求1所述的一种受热均匀的烤盘，其特征在于：所述的手柄（3）的正面设有图案层（1-2）。3.根据权利要求1所述的一种受热均匀的烤盘，其特征在于：所述的手柄（3）的背面一体成型有指纹槽（1-3）。4.根据权利要求1所述的一种受热均匀的烤盘，其特征在于：位于最外圈的若干个凹点（7）外围的烤盘本体（1）的背面一体成型有凸棱（6）。5.根据权利要求1所述的一种受热均匀的烤盘，其特征在于：所述烤盘本体（1）的背面，位于凹槽（1-1）位置处，一体成型有保护圈（5）。6.根据权利要求1所述的一种受热均匀的烤盘，其特征在于：所述的烤盘本体（1）的外围套设固定有钢圈（9）。

技术总结
一种受热均匀的烤盘，本实用新型涉及烤盘技术领域，它包含烤盘本体，所述烤盘本体的盘面边缘下陷一体成型有凹槽，烤盘本体的上边缘左右对称一体成型有手柄，烤盘本体的盘面一体成型有麻面层，该麻面层上一体成型有如果按个凸点吸盘，烤盘本体的盘面上一体成型有章鱼爪状棱条；它还包含：凹点为若干个，分为若干圈一体成型于烤盘本体的背面，且每圈中的若干个凹点呈等角度分布。能够避免食物滑落，酱汁能够留存，且与食物充分结合，且其具有凹点，能够使得食物受热均匀，提高烤盘的烤制效率。提高烤盘的烤制效率。提高烤盘的烤制效率。


技术研发人员：尹光浩
受保护的技术使用者：尹光浩
技术研发日：2021.05.10
技术公布日：2022/1/28