一种掩膜板的制作方法

技术特征：
1.一种掩膜板，用于采用光罩多分割曝光工序形成的母板进行遮挡，所述母板具有因多分割曝光工序形成无法曝光的基板无效区，其中，所述掩膜板包括：金属框架；支撑掩膜板，所述支撑掩膜板位于所述金属框架的一侧，所述支撑掩膜板包括镂空区，以及包围所述镂空区的框体；至少一个精细金属掩膜条，所述精细金属掩膜条位于所述支撑掩膜板背离所述金属框架的一侧，具有多个用于对所述母板中子像素蒸镀发光薄膜的开口；支撑板，所述支撑板位于所述金属框架与所述精细金属掩膜板之间，用于对所述基板无效区进行遮挡，所述支撑板的厚度大于所述支撑掩膜板的厚度。2.如权利要求1所述的掩膜板，其中，所述精细金属掩膜条包括有多个蒸镀区，每一所述蒸镀区对应所述母板中的一个子发光基板，所述开口位于所述蒸镀区。3.如权利要求1所述的掩膜板，其中，所述支撑掩膜板的所述镂空区划分成多个蒸镀开口，每一所述蒸镀开口对应所述母板中的一个子发光基板；所述开口在所述精细金属掩膜条通体分布。4.如权利要求2或3所述的掩膜板，其中，所述支撑板与所述支撑掩膜板为一体结构。5.如权利要求4所述的掩膜板，其中，所述框体包括内边框以及包围所述内边框的外边框，所述外边框背离所述金属框架一侧相对所述内边框减薄，所述支撑掩膜板在所述外边框所在位置与所述金属框架焊接。6.如权利要求5所述的掩膜板，其中，所述内边框的厚度与所述支撑板的厚度比值为0.9～1.1。7.如权利要求5所述的掩膜板，其中，所述外边框的厚度为所述支撑板厚度的10％～50％。8.如权利要求5所述的掩膜板，其中，在所述支撑掩膜板面向所述金属框架的表面内且垂直于所述精细金属掩膜条延伸的方向，所述外边框的宽度占所述框体宽度的五分之一至三分之二；在所述支撑掩膜板面向所述金属框架的表面内且垂直于所述精细金属掩膜条延伸的方向，所述外边框的宽度占所述金属框架宽度的四分之一至四分之三。9.如权利要求2或3所述的掩膜板，其中，所述支撑板与所述支撑掩膜板为两个分立部件；所述支撑板的两端分别焊接于所述金属框架相对的两边。10.如权利要求9所述的掩膜板，其中，所述支撑板具有与所述金属框架重叠的焊接部，所述焊接部的厚度为所述支撑板除所述焊接部以外的区域厚度的10％～50％。11.如权利要求10所述的掩膜板，其中，所述金属框架在与所述焊接部对应的位置设置有第一凹槽，所述第一凹槽的深度大于或等于所述焊接部的厚度。12.如权利要求11所述的掩膜板，其中，所述支撑掩膜板外边缘具有多个与所述金属框架焊接的凸出部；所述金属框架在与所述凸出部对应的位置设置有第二凹槽，所述第二凹槽的深度大于或等于所述凸出部的厚度。13.如权利要求12所述的掩膜板，其中，所述第一凹槽的深度大于所述第二凹槽的深度。
14.如权利要求13所述的掩膜板，其中，所述凸出部在所述金属框架的正投影与所述焊接部在所述金属框架的正投影不交叠。15.如权利要求14所述的掩膜板，其中，所述第二凹槽的深度等于所述凸出部的厚度；所述第一凹槽深度与所述焊接部厚度的差值，与所述第二凹槽的深度相同。16.如权利要求1所述的掩膜板，其中，所述支撑板的厚度为0.5mm～3mm。

技术总结
本实用新型公开了一种掩膜板，以改善现有技术在通过掩膜板形成发光基板的图案时，存在蒸镀位置不准确，容易产生混色的问题。所述掩膜板，用于采用光罩多分割曝光工序形成的母板进行遮挡，所述母板具有因多分割曝光工序形成无法曝光的基板无效区，其中，所述掩膜板包括：金属框架；支撑掩膜板，所述支撑掩膜板位于所述金属框架的一侧；至少一个精细金属掩膜条，所述精细金属掩膜条位于所述支撑掩膜板背离所述金属框架的一侧，具有多个用于对所述母板中子像素蒸镀发光薄膜的开口；支撑板，所述支撑板位于所述金属框架与所述精细金属掩膜板之间，用于对所述基板无效区进行遮挡，所述支撑板的厚度大于所述支撑掩膜板的厚度。撑板的厚度大于所述支撑掩膜板的厚度。撑板的厚度大于所述支撑掩膜板的厚度。


技术研发人员：毕娜 白珊珊 刘月
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2020.12.24
技术公布日：2022/1/25