晶圆载体的制作方法

技术特征：
1.一种晶圆载体，用于在化学气相沉积装置中支撑晶圆，其特征在于，包括：多个凹槽，被平板的上部面围绕，其中，每个凹槽包括：底面；多个凸台，布置于底面的边缘而用于放置晶圆，所述多个凸台包括具有彼此不同的高度的凸台。2.根据权利要求1所述的晶圆载体，其特征在于，还包括：主轴收容槽，形成于平板的中心下部面，其中，在所述凹槽内的凸台中，靠近所述主轴收容槽的凸台位于比其他凸台相对低的位置。3.根据权利要求2所述的晶圆载体，其特征在于，在远离所述主轴收容槽的凸台中，布置于所述晶圆载体的旋转方向的后端侧的凸台位于比布置于前端侧的凸台高的位置。4.根据权利要求3所述的晶圆载体，其特征在于，所述凸台以等间隔辐射状布置。5.根据权利要求1所述的晶圆载体，其特征在于，所述凹槽具有由从所述凹槽的中心延伸并且彼此保持120度的间隔的第一辐射状轴、第二辐射状轴及第三辐射状轴而定义的第一区域、第二区域及第三区域，所述第二辐射状轴沿着从所述凹槽的中心到所述晶圆载体的中心的相反方向延伸，所述第一辐射状轴位于相对于所述第二辐射状轴沿顺时针方向旋转120度的位置，所述第三辐射状轴位于相对于所述第二辐射状轴沿逆时针方向旋转120度的位置，所述第一区域由所述第一辐射状轴和所述第二辐射状轴而定义，所述第二区域由所述第一辐射状轴和所述第三辐射状轴而定义，所述第三区域由所述第二辐射状轴和所述第三辐射状轴而定义，所述第二区域内的凸台的高度低于所述第一区域及所述第三区域内的凸台的高度。6.根据权利要求5所述的晶圆载体，其特征在于，所述第三区域内的凸台的高度高于所述第一区域内的凸台的高度。7.根据权利要求6所述的晶圆载体，其特征在于，所述底面的上端至所述第二区域内的凸台的高度是所述底面的上端至所述第一区域内的凸台的高度的80％以上，所述底面的上端至所述第三区域内的凸台的高度是所述底面的上端至所述第一区域内的凸台的高度的120％以下。8.根据权利要求7所述的晶圆载体，其特征在于，所述底面的上端至所述第二区域内的凸台的高度在所述底面的上端至所述第一区域内的凸台的高度的88％至93％范围内，所述底面的上端至所述第三区域内的凸台的高度在所述底面的上端至所述第一区域内的凸台的高度的107％至112％范围内。9.根据权利要求1所述的晶圆载体，其特征在于，所述多个凹槽布置于所述化学气相沉积装置的加热器区域内。10.根据权利要求9所述的晶圆载体，其特征在于，所述多个凹槽包括：外部凹槽，在外侧辐射状布置；以及内部凹槽，布置于被所述外部
凹槽围绕的区域内。11.根据权利要求1所述的晶圆载体，其特征在于，所述多个凹槽仅包括在外侧辐射状布置的外部凹槽。12.根据权利要求2所述的晶圆载体，其特征在于，所述多个凹槽包括：外部凹槽，在外侧辐射状布置；以及内部凹槽，布置于被所述外部凹槽围绕的区域内，所述内部凹槽与所述外部凹槽之间的间隔为5mm以上。13.根据权利要求12所述的晶圆载体，其特征在于，所述内部凹槽以所述主轴收容槽为中心辐射状布置。14.根据权利要求13所述的晶圆载体，其特征在于，所述内部凹槽与所述外部凹槽之间的最小隔开距离小于所述主轴收容槽与所述内部凹槽之间的最小隔开距离。15.一种晶圆载体，用于在化学气相沉积装置中支撑晶圆，其特征在于，包括：多个凹槽，被平板的上部面围绕，其中，每个凹槽包括：底面；边缘部，沿着所述底面的边缘而连续地布置，所述边缘部相对于所述平板的上部面倾斜。16.根据权利要求15所述的晶圆载体，其特征在于，还包括：主轴收容槽，形成于平板的中心下部面，在所述边缘部的区域中，靠近所述主轴收容槽的区域位于比其他区域相对低的位置。17.根据权利要求16所述的晶圆载体，其特征在于，在所述边缘部的远离所述主轴收容槽的区域中，布置于所述晶圆载体的旋转方向后端侧的区域位于比布置于前端测的区域高的位置。18.根据权利要求15所述的晶圆载体，其特征在于，所述多个凹槽布置于所述化学气相沉积装置的加热器区域内。19.根据权利要求18所述的晶圆载体，其特征在于，所述多个凹槽包括：外部凹槽，在外侧辐射状布置；以及内部凹槽，布置于被所述外部凹槽围绕的区域内。20.根据权利要求15所述的晶圆载体，其特征在于，所述多个凹槽仅包括在外侧辐射状布置的外部凹槽。21.根据权利要求16所述的晶圆载体，其特征在于，所述多个凹槽包括：外部凹槽，在外侧辐射状布置；以及内部凹槽，布置于被所述外部凹槽围绕的区域内，所述内部凹槽与所述外部凹槽之间的间隔为5mm以上。22.根据权利要求21所述的晶圆载体，其特征在于，所述内部凹槽以所述主轴收容槽为中心辐射状布置。23.根据权利要求22所述的晶圆载体，其特征在于，所述内部凹槽与所述外部凹槽之间的最小隔开距离小于所述主轴收容槽与所述内部凹槽之间的最小隔开距离。

技术总结
公开了一种晶圆载体。根据一实施例，提供一种用于在化学气相沉积装置中支撑晶圆的晶圆载体包括：多个凹槽，被平板的上部面围绕，其中，每个凹槽包括：底面；多个凸台，布置于底面的边缘而用于放置晶圆，所述多个凸台包括具有彼此不同的高度的凸台。彼此不同的高度的凸台。彼此不同的高度的凸台。


技术研发人员：安恩星 郭雨澈 赵成龙 韩昌锡
受保护的技术使用者：首尔伟傲世有限公司
技术研发日：2021.03.25
技术公布日：2022/1/18