一种Ni-W-WS2纳米复合镀层及其制备方法与流程

一种ni-w-ws2纳米复合镀层及其制备方法
技术领域
1.本发明涉及电镀技术领域，特别涉及一种ni-w-ws2纳米复合镀层及其制备方法。


背景技术：

2.ni-w镀层具有高硬度，高耐磨性，抗氧化性强，镀层均匀，孔隙率低等优良性能。与传统的ni-cr镀层相比，ni-w镀层没有了六价铬离子对环境的危害，这也让它成为了工业领域新应用的有力竞争者。在电沉积过程中，ni-w镀层也有部分缺陷，如阴极效率低下，不可避免的伴随着析氢副反应，这会诱发镀层内应力的产生，从而导致裂纹和针孔。此外，在实际应用环境中，ni-w镀层也有一定局限性，如耐蚀性不高，疏水性弱，硬度不高等。因此，增强二元ni-w镀层的表面特性至关重要，这样，它才能在严苛的工业环境下提供对基体的保护。


技术实现要素：

3.针对上述问题，本发明旨在提供一种ni-w-ws2纳米复合镀层及其制备方法。
4.本发明的技术方案如下：
5.一方面，提供一种ni-w-ws2纳米复合镀层的制备方法，包括以下步骤：
6.s1：对基体进行预处理；
7.s2：配置ni-w-ws2复合电镀液，并对所述ni-w-ws2复合电镀液进行超声预处理；
8.s3：将预处理后的基体放入预处理后的ni-w-ws2复合电镀液中进行脉冲电沉积，得到电沉积镀件；
9.s4：对所述电沉积镀件进行清洗，得到所述ni-w-ws2纳米复合镀层。
10.作为优选，步骤s1中，所述基体采用钢片，所述预处理包括依次进行的打磨除锈、超声清洗除油、以及酸洗活化三个步骤。
11.作为优选，进行超声清洗除油时，采用的除油剂配方为氢氧化钠10g/l-60g/l、碳酸钠20g/l-40g/l、磷酸钠20g/l-70g/l、op-10乳化剂0.5ml/l-3ml/l。
12.作为优选，进行超声清洗除油时，温度控制在30℃-80℃，清洗时间为10min。
13.作为优选，进行酸洗活化时，采用0.2mol/l-1mol/l的冰乙酸在常温下酸洗活化30s。
14.作为优选，步骤s2中，所述ni-w-ws2复合电镀液包括硫酸镍10g/l-30g/l、钨酸钠40g/l-70g/l、溴化钠10g/l-40g/l、柠檬酸三钠50g/l-300g/l、氯化铵10g/l-40g/l、表面活性剂0.1g/l-0.4g/l、ws2纳米颗粒0.01g/l-0.5g/l。
15.作为优选，所述表面活性剂为阳离子表面活性剂。
16.作为优选，步骤s3中，进行脉冲电沉积时，温度为20℃-80℃，ph为6
±
0.1-9
±
0.1，电流密度为2a/dm
2-8a/dm2，脉冲频率为200hz-800hz，占空比为10％-80％，时间为10min-80min，磁力搅拌速率为100rpm-600rpm。
17.作为优选，步骤s4中，对所述电沉积镀件进行清洗时，依次使用乙醇和纯水进行超
声清洗。
18.另一方面，还提供一种ni-w-ws2纳米复合镀层，采用上述任意一项所述的ni-w-ws2纳米复合镀层的制备方法制备而成。
19.本发明的有益效果是：
20.本发明能够改善和提高ni-w镀层的硬度、耐磨、耐腐蚀、疏水等性能，增强其实际应用环境的适应性，在严苛的工业环境下也能提供对基体的保护。
附图说明
21.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
22.图1为本发明ni-w-ws2纳米复合镀层的制备方法的原理示意图；
23.图2为镀层样品2-5使用的ws2纳米颗粒的微观形貌示意图；
24.图3为镀层样品1-5的sem扫描结果示意图；
25.图4为镀层样品1和镀层样品4的afm测试结果示意图；
26.图5为镀层样品4的镀层横截面示意图；
27.图6为镀层样品1和镀层样品4的eds元素扫描结果示意图；
28.图7为镀层样品1-5的x射线衍射仪测试结果示意图；
29.图8为镀层样品1-5的疏水性能测试结果示意图；
30.图9为镀层样品1-5的显微硬度测试结果示意图；
31.图10为镀层样品1和镀层样品4的摩擦性能测试测试结果示意图；
32.图11为镀层样品1-5的耐腐蚀性能测试结果示意图。
具体实施方式
33.下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的技术特征可以相互结合。需要指出的是，除非另有指明，本技术使用的所有技术和科学术语具有与本技术所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。本发明公开使用的“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。
34.本发明提供一种ni-w-ws2纳米复合镀层，通过以下步骤制备而成：
35.s1：对基体进行预处理。
36.在一个具体的实施例中，所述基体采用钢片，所述预处理包括依次进行的打磨除锈、超声清洗除油、以及酸洗活化三个步骤。可选地，进行超声清洗除油时，采用的除油剂配方为氢氧化钠10g/l-60g/l、碳酸钠20g/l-40g/l、磷酸钠20g/l-70g/l、op-10乳化剂0.5ml/l-3ml/l。可选地，进行超声清洗除油时，温度控制在30℃-80℃，清洗时间为10min。可选地，进行酸洗活化时，采用0.2mol/l-1mol/l的冰乙酸在常温下酸洗活化30s。
37.需要说明的是，除了采用上述实施例中的基体外，其他实际应用时需要进行保护的金属基体均可作为本发明所述ni-w-ws2纳米复合镀层的基体。上述除油剂配方仅为本发
明优选的除油效果很好的除油剂配方，现有技术中的其他除油剂配方也可适用于本发明。且对于部分自身很清洁无油的基体，可以不对其进行除锈、除油等处理。
38.s2：配置ni-w-ws2复合电镀液，并对所述ni-w-ws2复合电镀液进行超声预处理。
39.在一个具体的实施例中，所述ni-w-ws2复合电镀液包括硫酸镍10g/l-30g/l、钨酸钠40g/l-70g/l、溴化钠10g/l-40g/l、柠檬酸三钠50g/l-300g/l、氯化铵10g/l-40g/l、表面活性剂0.1g/l-0.4g/l、ws2纳米颗粒0.01g/l-0.5g/l。
40.可选地，所述表面活性剂为十二烷基硫酸钠、胆酸钠、十六烷基三甲基溴化铵等阳离子表面活性剂。
41.s3：将预处理后的基体放入预处理后的ni-w-ws2复合电镀液中进行脉冲电沉积，得到电沉积镀件。
42.在一个具体的实施例中，进行脉冲电沉积时，温度为20℃-80℃，ph为6
±
0.1-9
±
0.1，电流密度为2a/dm
2-8a/dm2，脉冲频率为200hz-800hz，占空比为10％-80％，时间为10min-80min，磁力搅拌速率为100rpm-600rpm。
43.s4：对所述电沉积镀件进行清洗，得到所述ni-w-ws2纳米复合镀层。
44.在一个具体的实施例中，对所述电沉积镀件进行清洗时，依次使用乙醇和纯水进行超声清洗。
45.本发明采用ni-w-ws2复合电镀液进行脉冲电沉积的机理如下所示：
46.根据现有技术可知，w只能在fe类元素(如：fe，ni)存在的前提下才能被共沉积出来，其本身很难独立析出。本发明的ni-w-ws2复合电镀液中，柠檬酸三钠被用作ni离子和w离子的络合剂，nh4cl有利于提高阴极电流效率，nabr有利于提高镀液的电导率，减少微裂纹的产生。在进行脉冲电沉积机理时：
47.第一阶段，水和金属离子以及ws2纳米颗粒在电场和搅拌的作用下被运输在阴极表面。在有柠檬酸存在的前提下，钨主要以wo
2
形式存在，形成络合物[(wo2)(cit)]-；金属镍在镍钨电沉积过程中起诱导作用，通过柠檬酸—氨浴体系形成了[ni(wo2)(cit)(nh3)2]

络合物；此络合物作为钨沉积的先驱体，从而实现电解质溶液中镍和钨的诱导共沉积，过程如(1)所示：
[0048][0049]
第二阶段，金属离子络合物和带电的ws2吸附在阴极表面并被电子转移还原中和，强烈吸附在阴极表面形成新的ni-w基体涂层，电化学还原过程可表示为：
[0050]
[ni(wo2)(cit)(nh3)2]

8e- 2h2o ws2→
ni-w/ws2 cit
3- 2nh3↑
4oh-ꢀꢀ
(2)
[0051]
第三阶段，在电场力与搅拌作用下，ws2纳米颗粒被嵌入在ni-w合金基体中，在此基础上制备得到ni-w/ws2纳米复合镀层，如图1所示。
[0052]
值得提出的是，(1)式中的[ni(wo2)(cit)(nh3)2]

在溶液中还存在着这样一个化学平衡：
[0053][0054]
因此，镍在阴极电沉积的来源除了[ni(wo2)(cit)(nh3)2]

之外还会以nicit(nh3)
2-形式进行电沉积：
[0055]
[0056]
而钨只能以中间混配物的形式沉积，故镍钨合金镀层中镍的含量远比钨沉积的含量高。
[0057]
本发明能够明显改善ni-w镀层的疏水性、耐磨性、耐蚀性以及硬度等性能，主要原理如下所示：
[0058]
(1)本发明在ni-w的基础上加入二硫化钨ws2，ws2是一种片层结构的低摩擦系数纳米材料，其具有较高的抗极压性能和抗氧化性能，能适用于高温高压、高负荷、强腐蚀等苛责环境；在电沉积过程中，ws2能够为ni-w合金的形成提供大量的活性位点，促进晶胞的形成，细化晶粒；
[0059]
(2)加入的ws2能够有效改变镀层的表面结构，使镀层表面结构致密、缺陷较少，且生长的晶核呈多肉结构，构成的粗糙表面能显著提高镀层的疏水性；
[0060]
(3)ws2纳米颗粒由于表面能较大，团聚现象严重，通过在ni-w-ws2复合电镀液中添加的表面活性剂、ni-w-ws2复合电镀液的超声预处理、以及电沉积过程中使用磁力搅拌，能够有效提高ws2在电镀液中的分散稳定性，明显改善纳米颗粒的团聚问题，同时提高纳米复合材料中纳米颗粒的沉积量。
[0061]
(4)本发明使用的电镀液稳定性强，电流效率高，分散性好，沉积速率快。
[0062]
(5)本发明采用脉冲电沉积技术，其能够改善电流分布和传质过程的能力，可以消除放氢、金属氢化物的形成、不均匀的沉积物和局部ph的变化。
[0063]
(6)ws2纳米颗粒能有效降低镀层残余内应力，改善晶粒生长，改变金属离子还原电位，从而获得颗粒增强的金属基复合材料；利用固体颗粒本身的特性和材料多元复合的协同效应，可有效提高复合镀层的的疏水性、耐磨性、耐蚀性以及硬度。
[0064]
对比例1
[0065]
一种ni-w镀层，通过以下步骤制备而成：
[0066]
(1)对基体进行前处理：将钢片利用砂纸打磨除锈，然后利用超声清洗除油，最后进行酸洗活化。对基体进行除油的清洗剂为水溶液，水溶液中各组分浓度为：氢氧化钠50g/l、碳酸钠40g/l、磷酸钠40g/l、op-10乳化剂3ml/l、温度70℃、时间10min。用浓度0.2-1mol/l的冰乙酸在常温下酸洗活化30s。
[0067]
(2)配制电镀液：ni-w镀液各组分为：硫酸镍15.8g/l、钨酸钠46.2g/l、溴化钠15.5g/l、柠檬酸三钠147g/l、氯化铵26.7g/l、表面活性剂(sds)0.1g/l。在电镀液配置完成后，首先对其进行超声探头超声3min，再超声水浴搅拌30min，随后进行磁力搅拌30min。
[0068]
(3)进行脉冲电沉积：将前处理好的基体放入配制好的电镀液中进行脉冲电沉积。沉积过程中控制温度为70℃、ph为7.5、电流密度为5a/dm2。连接外加脉冲电源和超声发生器，开始进行超声辅助脉冲电沉积。电镀完成后利用乙醇及纯水进行超声清洗处理，得到成品。超声辅助脉冲电镀过程中的工艺参数为：脉冲频率为600hz，占空比为50％，超声功率为100w，时间为60min，磁力搅拌速率为400rpm。
[0069]
(4)对镀件进行后处理：脉冲电沉积结束后，对镀件表面依次使用乙醇、纯水进行超声清洗，得到镀层样品1。
[0070]
实施例1
[0071]
一种ni-w/ws2纳米复合镀层，通过以下步骤制备而成：
[0072]
(1)对基体进行前处理：将钢片利用砂纸打磨除锈，然后利用超声清洗除油，最后
进行酸洗活化。对基体进行除油的清洗剂为水溶液，水溶液中各组分浓度为：氢氧化钠50g/l、碳酸钠40g/l、磷酸钠40g/l、op-10乳化剂3ml/l、温度70℃、时间10min。用浓度0.2-1mol/l的冰乙酸在常温下酸洗活化30s。
[0073]
(2)配制电镀液：ni-w-ws2复合电镀液各组分为：硫酸镍15.8g/l、钨酸钠46.2g/l、溴化钠15.5g/l、柠檬酸三钠147g/l、氯化铵26.7g/l、表面活性剂(sds)0.1g/l、ws2纳米颗粒0.1g/l。在电镀液配制完成后，首先对其进行超声探头超声3min，再超声水浴搅拌30min，随后进行磁力搅拌30min。
[0074]
本实施例采用的ws2纳米颗粒其通过前处理使ws2纳米颗粒的尺寸控制在40-80nm。所述前处理具体为：将ws2纳米颗粒放置在70ml表面活性剂水溶液(sds，10g/l)中，分散层状粉末(ws2，前处理前的尺寸在2微米左右)使其分散均匀。利用超声探头(功率750w)超声10分钟，得到稳定的ws2分散液。利用离心机在3500rpm转速条件下进行离心，保留沉积物烘干得到分散好的ws2剥离产物，前处理后的ws2纳米颗粒微观形貌如图2所示。
[0075]
(3)进行脉冲电沉积：将前处理好的基体放入配制好的电镀液中进行脉冲电沉积。沉积过程中控制温度为70℃、ph为7.5、电流密度为5a/dm2。连接外加脉冲电源和超声发生器，开始进行超声辅助脉冲电沉积。电镀完成后利用乙醇及纯水进行超声清洗处理，得到成品。超声辅助脉冲电镀过程中的工艺参数为：脉冲频率为600hz，占空比为50％，超声功率为100w，时间为60min，磁力搅拌速率为400rpm。
[0076]
(4)对镀件进行后处理：脉冲电沉积结束后，对镀件表面依次使用乙醇、纯水进行超声清洗，得到镀层样品2。
[0077]
实施例2
[0078]
一种ni-w/ws2纳米复合镀层，与实施例1不同的是：在步骤(2)中，所述ni-w-ws2复合电镀液中的ws2纳米颗粒为0.2g/l。得到镀层样品3。
[0079]
实施例3
[0080]
一种ni-w/ws2纳米复合镀层，与实施例1不同的是：在步骤(2)中，所述ni-w-ws2复合电镀液中的ws2纳米颗粒为0.3g/l。得到镀层样品4。
[0081]
实施例4
[0082]
一种ni-w/ws2纳米复合镀层，与实施例1不同的是：在步骤(2)中，所述ni-w-ws2复合电镀液中的ws2纳米颗粒为0.4g/l。得到镀层样品5。
[0083]
性能测试：
[0084]
1、使用扫描电子显微镜(sem，fesem,apreo s)，能量色散光谱仪(eds，aztec x-max80)，原子力显微镜(afm，nx10,park)和x射线衍射仪(xrd，panalytical x
′
pert pro衍射仪)分析复合涂层的表面形态、微观结构、以及化学成分。
[0085]
2、使用维氏硬度计(tmvs-1s)在f＝1000g的载荷下测量纳米复合涂层15秒钟的显微硬度。
[0086]
3、使用接触角测试仪(xedspj,beijing hake)测试纳米复合镀层的接触角大小。
[0087]
4、使用摩擦磨损试验机(umt,bruker nano inc,america)在载荷为20n下测试纳米复合镀层和ni-w镀层的摩擦力及摩擦系数。
[0088]
5、采用三电极电化学腐蚀工作站(corrtest，cs310)分析ni-w/ws2纳米复合涂层的极化曲线。
[0089]
(1)镀层表面形貌
[0090]
采用fesem,apreo s型扫描电子显微镜(sem)观察镀层的表面形貌，结果如图3所示，其中a-e分别为镀层样品1-5的表面形貌图。从图3可以看出，随着ws2纳米颗粒的加入，制备的ni-w/ws2纳米复合镀层的表面形貌逐渐变得致密、粗糙。其中图3(d)加入0.3g/l的ws2纳米颗粒条件下的复合镀层具有最均匀分布且合适大小的晶胞结构，且无明显团聚出现。
[0091]
镀层样品1和镀层样品4的afm结果如图4所示，其中a为镀层样品1，b为镀层样品4。从图4可以看出，本发明加入ws2后的复合镀层，镀层表面呈胞状突起，整体高度上升，表面粗糙度(ra)明显提高。
[0092]
图5为镀层样品4的镀层横截面图。从图5可以看出，整个镀层非常的均匀，没有裂纹，复合镀层与基底接触面连结均匀，镀层厚18微米，表现出良好的镀层结构。
[0093]
结合图3-5可以看出，本发明ws2纳米颗粒的加入，增加了复合镀层的致密性和均质性，使得镀层表面形貌致密均匀。
[0094]
(2)镀层元素组成及含量
[0095]
图6为样品1和样品4的eds元素组成扫描图，其中a为镀层样品1，b为镀层样品4。从图6可以看出，涂层中存在镍，钨，硫和碳，表明ws2纳米粒子成功嵌入，并且分布均匀；且涂层中ni的含量最高，这是由于ws2提供的活性位点强化了ni的沉积效率。随着ws2纳米颗粒在镀液中含量的增加，镀层中沉积的ws2含量也逐渐增加。
[0096]
(3)镀层晶体结构
[0097]
采用panalytical x
′
pert pro型x射线衍射仪(xrd)，以cukα辐射，扫描范围为10-80
°
，研究分析复合镀层的晶体结构，结果如图7所示。从图7可以看出，在所有样品中均发现了与ni十分接近的峰，这是因为生成了的ni-w基体固溶体导致。最明显的峰位于43.9
°
，优选的方向是(111)晶面，且所有涂层均表现出面心立方结构。此外，由于ws2的成功嵌入，xrd谱图上在峰位为14.32
°
(002)，75.91
°
(116)也表现了ws2的特征峰结构，且这种现象随着ws2加量增大趋势明显。经过进一步分析，发现ws2提供的活性位点有利于金属ni的沉积，之前并未发现的(200)晶面峰随ws2加量增大逐渐明显。
[0098]
(4)接触角测试
[0099]
通过xedspj接触角测试仪在水性条件下测试复合镀层的接触角大小，如图8所示。从图8可以看出，原始的ni-w镀层疏水性并不强，其接触角为96.37
°
，本发明接触角＞120
°
，疏水性大大的提高，且当ws2加量为0.3g/l时，复合涂层有着最大的接触角154.4
°
，这已经达到了超疏水的效果。原因分析：本发明随着加入增强材料ws2的浓度不同，复合涂层的组织结构和表面粗糙度发生显著变化，加入的增强材料促使胞状物质生长，这使涂层表面微小的孔隙结构减少。
[0100]
(4)显微硬度测试
[0101]
通过tmvs-1s显微硬度测试仪测试复合镀层的显微硬度，负载为1000g，时间为15s。结果如图9所示。从图9可以看出，不含纳米增强颗粒的ni-w涂层的显微硬度为427hv，随着纳米粒子含量的增加，硬度逐渐增加，当纳米粒子含量达到0.3g/l时，显微硬度为834hv。
[0102]
(5)摩擦系数测试
[0103]
通过utm摩擦磨损试验机测试镀层样品的摩察系数，使用氮化硅球在载荷为20n的情况下对材料表面进行20分钟的往复摩擦实验，如图10所示，其中a为镀层样品1，b为镀层样品4。从图10可以看出，对比例1制备的纯ni-w镀层展现出较高的摩擦系数，表明材料不耐磨，而实施例3制备的复合镀层(0.3g/l ws2纳米颗粒)反而展现出很低的摩擦系数。通过对比发现，加入固体润滑纳米颗粒ws2能极大的提高ni-w基合金镀层的耐磨性。
[0104]
另外，直接观察测试后的镀层，在原始的ni-w涂层中，细长的摩擦痕迹被清晰呈现，提高放大倍数观察ni-w涂层，其摩擦痕迹周围能清楚的发现因摩擦挤压导致的裂纹；而本发明并没有这种现象发生，同样证实了本发明ni-w/ws2复合涂层具有良好的耐磨性。
[0105]
原因分析：当原始的ni-w涂层进行摩擦实验时，表面容易产生划痕，导致磨损增加；部分镍钨合金的结构表面遭受磨损，导致基体发生软化和疲劳；由于温度的升高，对挤压出的镍钨合金保护作用减弱，从而导致部分表面发生鳞片附着，最终导致涂层的磨损。相反，本发明在加入了ws2充当固体润滑剂后，复合涂层表面容易在摩擦过程中产生一层固体润滑膜，起到润滑的效果；当复合涂层与对应物接触时，表面遭受挤压，部分ws2从复合涂层中分离出来，黏附在磨损表面；另外，ws2具有很低的摩擦系数，这为摩擦提供了有效的固体润滑效果，使金属间的直接接触难以进行，从而表现出优异的耐磨性。
[0106]
(6)耐腐蚀性测试
[0107]
使用corrtest cs310型电化学工作站研究所制备的复合镀层的耐腐蚀性能。使用典型的三电极体系，其中工作电极为镀覆有ni-w/ws2纳米复合镀层的p110号碳钢，有效面积为15mm
×
25mm，辅助电极为铂电极，参比电极为饱和甘汞电极(sce)，腐蚀介质为3.5％氯化钠溶液。结果如图11和表1所示。
[0108]
表1不同复合镀层的腐蚀电位及腐蚀电流密度
[0109]
样品样品1样品2样品3样品4样品5腐蚀电位(v)-0.391-0.369-0.356-0.33-0.34腐蚀电流(μa/cm2)0.8612.3322.5791.5493.23
[0110]
一般来说，镀层的自腐蚀电位越高，腐蚀电流越低，镀层就越不易被腐蚀。从图11和表1可以看出，本发明在ni-w镀层中添加ws2纳米颗粒，能够显著提高镀层的耐腐蚀性。原因分析：本发明增加的ws2纳米颗粒提供了更多的成核位点，生长的胞状结构更加密集。这填充了部分基质孔隙，提高了复合涂层的阻隔性能。此外，由于薄片层元素的存在，限制了cl离子到达金属表面，导致双电层电容(cpe)降低，有利用提高复合涂层的耐腐蚀性。
[0111]
需要说明的是，除了上述实施例镀层样品2-5采用的ni-w-ws2复合电镀液配方外，硫酸镍10g/l-30g/l、钨酸钠40g/l-70g/l、溴化钠10g/l-40g/l、柠檬酸三钠50g/l-300g/l、氯化铵10g/l-40g/l、表面活性剂0.1g/l-0.4g/l、ws2纳米颗粒0.01g/l-0.5g/l组成的ni-w-ws2复合电镀液中，其他浓度制备得到的ni-w-ws2纳米复合镀层的硬度、疏水性、耐磨性、耐腐蚀性等性能也均比常规镍钨镀层相应的性能要强。另外，现有制备镍钨镀层的镍钨镀液还可以采用其他体系，例如氨基磺酸盐型的镍钨镀液等，然而并非所有的镍钨镀液均可利用ws2纳米颗粒增强其硬度、疏水性、耐磨性、耐腐蚀性等性能，本发明上述的ni-w-ws2复合电镀液才能达到上述效果，该ni-w-ws2复合电镀液是发明人付出创造性劳动获得的结果。
[0112]
综上所述，本发明ws2纳米颗粒均匀分散于ni-w镀层中，改变了镀层的表面结构，
复合镀层上无针孔，无微裂纹，显著增强了镀层的硬度，减小镀层的摩擦系数，提高镀层的疏水性能甚至达到超疏水效果，显著提升耐磨性、耐蚀性；与现有技术相比，本发明具有显著的进步。
[0113]
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。