一种折射率可调的AlN薄膜的制备设备的制作方法

技术特征：
1.一种折射率可调的aln薄膜的制备设备，其特征在于：包括工艺腔体，所述工艺腔体内设置有靶材和基片台，所述基片台通过导线连接匹配网络，所述匹配网络通过导线连接射频电源，所述工艺腔体上设置有工艺气体进口和真空吸口，真空吸口连接有真空泵，工艺气体进口连接有氮气管道和氩气管道，在所述氮气管道和氩气管道上述设置有气体流量计。2.根据权利要求1所述的折射率可调的aln薄膜的制备设备，其特征在于：所述工艺腔体上设置有背板，靶材连接于背板上，背板内设置有冷却管道。3.根据权利要求2所述的折射率可调的aln薄膜的制备设备，其特征在于：所述靶材通过背板与靶材电源连接，靶材电源为直流电源、脉冲直流电源、射频电源或hipims电源。4.根据权利要求3所述的折射率可调的aln薄膜的制备设备，其特征在于：所述背板后方设置有磁控管。5.根据权利要求4所述的折射率可调的aln薄膜的制备设备，其特征在于：还包括输运腔体和上载腔体，所述输运腔体内设置有机械手，所述上载腔体与输运腔体之间设置有第一真空阀门，输运腔体与工艺腔体之间设置有第二真空阀门，上载腔体上设置有密封门。

技术总结
本实用新型公开了一种折射率可调的AlN薄膜的制备设备，设备包括工艺腔体，所述工艺腔体上设置有工艺气体进口和真空吸口，工艺气体进口连接有氮气管道和氩气管道，本实用新型可以通过精确调控反应溅射中工艺气体的氮气的含量，从而对氮化铝(AlN)的折射率进行调控，以达到设计的需求。达到设计的需求。达到设计的需求。


技术研发人员：唐云俊 王昱翔 周虹玲 周东修
受保护的技术使用者：浙江艾微普科技有限公司
技术研发日：2021.06.24
技术公布日：2022/1/14