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用于物体的粒子光学检查的粒子束系统和方法与流程

2022-02-20 13:18:09 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种在多束带电粒子系统中使用的检测系统,包括:多检测器,包含用于多个检测区域中的每一个的多个检测场;以及控制器,配置为:从所述多个检测场获取强度信号组;基于所述强度信号组确定束斑的至少一个单个连续区域;以及基于所述至少一个单个连续区域确定所述多个检测场的检测场组在所述束斑内。2.根据权利要求1所述的检测系统,其中,所述控制器配置为基于从所述检测场组接收的检测器信号确定所述束斑的强度值,以及基于所述强度值生成物体的图像。3.根据权利要求2所述的检测系统,其中,所述控制器配置为分析检测区域的检测场中检测的强度信号以实现附加信息。4.根据权利要求3所述的检测系统,其中,所述控制器配置为基于所述附加信息对所述图像的边缘加以突出显示。5.根据权利要求1所述的检测系统,其中,所述多检测器包括具有上游闪烁体的ccd相机。6.根据权利要求1所述的检测系统,其中,所述多检测器包括闪烁体以及光缆,所述光缆针对每个检测场包含至少一条光纤。7.根据权利要求1所述的检测系统,其中,所述多检测器包括像素化电子检测器。8.根据权利要求1所述的检测系统,其中,所述束斑由带电粒子束生成,所述带电粒子束由所述多束带电粒子系统生成。9.根据权利要求9所述的检测系统,其中,所述强度信号由所述带电粒子束与所述多束带电粒子系统的物场中的物体的交互产物生成。10.一种方法,包含:将源自第一平面的第一区域的交互产物投射到检测器系统的第一检测区域上;将源自所述第一平面的第二区域的交互产物投射到所述检测器系统的第二检测区域上;以及修改所述第一区域和第二区域与指配给所述第一区域和第二区域的第一检测场和第二检测场之间的关联。11.根据权利要求10所述的方法,其中,修改关联包括:确定所述检测区域的局部强度分布;从所述检测区域的所确定的局部强度分布确定单独检测区域中的检测场;以及组合所述检测场以定义两个新的检测区域,使得针对所述两个新的检测区域中的每一个,相应强度分布完全位于所述新的检测区域内。12.根据权利要求10所述的方法,还包含:整合指配给同一检测区域的所有检测场的所有检测器信号以获得与第一平面中的相应点关联的图像信号。13.根据权利要求11所述的方法,其中,所述两个新的检测区域中的每一个包含的检测场的数量与所述第一检测区域和第二检测区域的每一个中的检测场的数量不同。14.根据权利要求10所述的方法,其中,修改关联包含:寻找具有增大的信号强度的简单连续区域以及确定束位置。15.根据权利要求10所述的方法,包含:每帧修改关联至少一次。
16.根据权利要求10所述的方法,还包含:分析在检测区域的检测场中检测的强度分布以实现附加信息。17.根据权利要求16所述的方法,其中,所述分析包含:确定所述强度分布与旋转对称性的偏差或所述强度分布的位移。18.根据权利要求16所述的方法,还包含:评估所述附加信息,以及基于所述附加信息改进图像信息。19.根据权利要求18所述的方法,其中,改进图像信息包含:基于所述图像信息对图像的边缘加以突出显示。20.根据权利要求17所述的方法,还包含:基于所述强度分布的所确定的位移或所述强度分布与旋转对称性的偏差,产生自动对焦信号。21.根据权利要求10所述的方法,还包含:使用多束带电粒子系统以提供至少一个带电粒子束,所述至少一个带电粒子束在所述第一平面的第一区域和第二区域中撞击物体以生成所述交互产物。22.一种方法,包含:从多束检查系统的检测器获得图像,其中所述图像是基于来自于多个二次粒子束入射于其上的检测器的多个检测区域的多个检测信号生成的;以及使用所述多个检测信号和与所述多个二次粒子束关联的束强度之间的关系以减少由入射的所述多个二次粒子束引起的串扰。23.一种方法,包含:a)检测多检测器的检测区域的单独检测场中的交互产物;b)通过分析从所述检测区域发出的检测器信号来分析所述交互产物的空间强度分布;以及c)确定所检测的交互产物的空间强度分布的位移以及所述空间强度分布与旋转对称性的偏差;以及d)基于c),产生自动对焦信号。24.根据权利要求23所述的方法,还包含:在所述多检测器的检测区域内同时指明所述交互产物的粒子束的强度分布。25.根据权利要求23所述的方法,其中,所述分析包含实现附加信息,并且所述方法还包含:评估所述附加信息;以及以所述附加信息改进图像信息。

技术总结
本发明涉及一种粒子束系统。该粒子束系统具有多粒子束发生器,其被配置成产生多条部分粒子束,部分粒子束在空间上间隔开,至少包括第一部分粒子束和第二部分粒子束。该粒子束系统具有透镜,其被配置成用于使入射的部分粒子束聚焦在第一平面中,使得该第一平面中该第一部分粒子束撞击的第一区域与该第二部分粒子束撞击的第二区是分开的。该粒子束系统包括具有多个检测区的检测器系统和投射系统,该投射系统被配置成将交互产物投射到检测器系统上。投射系统和多个检测区相匹配,使得源自该第一平面的第一区的交互产物被投射到第一检测区上,而源自第一平面的第二区的交互产物被投射到与第一检测区不同的第二检测区上。该检测器系统包括过滤器装置。系统包括过滤器装置。系统包括过滤器装置。


技术研发人员:D.蔡德勒 S.舒伯特
受保护的技术使用者:卡尔蔡司显微镜有限责任公司
技术研发日:2016.02.03
技术公布日:2022/1/14
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