制冷防臭基站、表面清洁设备及表面清洁系统的制作方法

1.本公开属于清洁技术领域，本公开尤其涉及一种制冷防臭基站、表面清洁设备及表面清洁系统。


背景技术：

2.现如今的表面清洁设备已经不只局限于清扫，现在表面清洁设备还可以用于湿清理，用于清理硬地板或者软毛的地毯。表面清洁设备大多可以通过添加水或者带有清洁剂的混合物来湿清理地板上的顽固污渍。
3.表面清洁设备在污渍上移动，滚刷带动水或者带有清洁剂的混合物溶解污垢并回收、存储在表面清洁设备的污水收集箱内。
4.表面清洁设备收集的污水，在表面清洁设备回到基站后，将污水抽吸至基站内的污水存储箱以进行清理。
5.当基站的污水存储箱储存污水或者其他的固体脏污时，容易发霉发臭、产生病菌，为避免滋生细菌、发霉发臭，需频繁拆卸污水存储箱以对污水、污物等进行倾倒、清理，不仅费时费力，还影响使用体验。


技术实现要素：

6.为了解决上述技术问题中的至少一个，本公开提供一种制冷防臭基站、表面清洁设备及表面清洁系统。
7.本公开的制冷防臭基站、表面清洁设备及表面清洁系统通过以下技术方案实现。
8.根据本公开的一个方面，提供一种制冷防臭基站，包括：
9.污物存储部，所述污物存储部至少用于回收表面清洁设备的回收存储部内的污物；
10.制冷部，所述制冷部用于对所述污物存储部降温以防止所述污物存储部内的污物发臭；以及基站控制器，所述基站控制器用于控制所述制冷部的启动制冷和/或停止制冷。
11.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，还包括温度检测部，所述温度检测部设置在所述污物存储部之内，所述温度检测部对所述污物存储部内的温度进行检测，所述制冷部基于所述污物存储部内的温度启动制冷以及停止制冷。
12.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，还包括基站回收管路，所述基站回收管路的第一端用于与所述污物存储部连通，所述基站回收管路的第二端用于与所述表面清洁设备的回收存储部连通。
13.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述过滤部件设置于所述污物存储部之内，以对经由所述基站回收管路回收的污物进行过滤处理。
14.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述制冷部设置在所述污物存储部的内部。
15.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述制冷部设置在所述污物存
储部的底部区域。
16.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，还包括基站抽吸组件，所述基站抽吸组件包括基站抽吸装置以及基站抽吸管路，所述基站抽吸管路的第一端用于与所述污物存储部连通，所述基站抽吸管路的第二端与所述基站抽吸装置连通，所述基站抽吸装置经由所述基站抽吸管路对所述污物存储部的气体进行抽吸以使得所述污物存储部内产生负压，以能够将流体抽吸至所述污物存储部，使得制冷防臭基站能够将表面清洁设备的回收存储部内的污物经由所述基站回收管路回收至所述污物存储部。
17.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述基站抽吸管路的所述第一端连接于所述污物存储部的侧壁的上半部分。
18.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述基站抽吸管路的所述第一端连接于所述污物存储部的顶壁。
19.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，还包括清洁液体供应部，所述制冷部排出的热量能够加热清洁液体。
20.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，还包括清洁液体供应/回收管路，所述清洁液体供应/回收管路至少部分地经过所述制冷部，使得制冷部排出的热量对流经所述清洁液体供应/回收管路的清洁液体进行加热。
21.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述制冷包括为半导体制冷装置、压缩制冷装置和/或磁制冷装置。
22.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述半导体制冷装置包括：
23.冷端，所述冷端与所述污物存储部接触以吸取所述污物存储部的热量；
24.热端；以及半导体组件，所述半导体组件设置在所述冷端与所述热端之间，所述半导体组件至少用于吸取所述冷端的热量并将吸取的热量释放至所述热端。
25.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述半导体组件包括第一电极、第二电极、第三电极、p型半导体和n型半导体；
26.所述冷端与所述第二电极接触，所述热端的第一区域与所述第一电极接触，所述热端的第二区域与所述第三电极接触；
27.所述n型半导体的第一端与所述第三电极连接，第二端与所述第二电极连接；
28.所述p型半导体的第一端与所述第一电极连接，第二端与所述第二电极连接；
29.所述第一电极用于连接电源负极，所述第三电极用于连接电源正极。
30.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述压缩制冷装置包括：
31.蒸发器，所述蒸发器基于蒸发器内的制冷剂对所述污物存储部进行热量吸收，制冷剂转化为制冷剂蒸汽；
32.气体压缩器，所述气体压缩器用于对蒸发器输出的制冷剂蒸汽进行压缩处理，以升高所述制冷剂蒸汽的温度；
33.冷凝器，所述冷凝器将所述气体压缩器压缩处理之后的制冷剂蒸汽转化为制冷剂液体；以及膨胀器，所述膨胀器将所述冷凝器转化后的制冷剂液体进行节流膨胀，以将制冷剂液体转化为雾状制冷剂，所述雾状制冷剂进入所述蒸发器。
34.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述冷凝器与所述膨胀器之间还设置有干燥过滤器，以对所述制冷剂液体进行干燥和过滤。
35.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述磁制冷装置包括：
36.第一热二极管模组；
37.第二热二极管模组；
38.电磁铁；
39.绝热层；以及磁热芯体，所述磁热芯体设置在所述第一热二极管模组、所述第二热二极管模组以及所述绝热层形成的腔体之内；
40.其中，当所述电磁铁对所述磁热芯体施加磁场时，所述磁热芯体释放热量，且释放的热量经由所述第二热二极管模组导出，当所述电磁铁停止对所述磁热芯体施加磁场时，所述磁热芯体经由所述第一热二极管模组吸取所述污物存储部的热量以对所述污物存储部进行制冷。
41.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述第一热二极管模组以及所述第二热二极管模组的传热方向相同。
42.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述第一热二极管模组以及所述第二热二极管模组均包括多个热二极管。
43.根据本公开的至少一个实施方式的制冷防臭基站，所述污物存储部的壳体材料为保温材料。
44.根据本公开的另一个方面，提供一种表面清洁设备，包括：
45.清洁液体存储部，所述清洁液体存储部用于存储清洁液体；
46.清洁部，所述清洁部用于对待清洁对象的表面进行清洁；
47.清洁液体输送管路，所述清洁液体输送管路与所述清洁液体存储部流体连通，以将所述清洁液体输送至所述清洁部或者所述清洁部的附近；
48.回收存储部，所述回收存储部至少用于容纳经由所述清洁部回收的污物；以及表面清洁设备回收管路，经由所述表面清洁设备回收管路，所述回收存储部内的污物能够被回收至上述任一项所述的制冷防臭基站的污物存储部之内。
49.根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，还包括回收通道，所述回收通道与所述回收存储部连通，以对清洁部进行清洁操作之后产生的污物进行回收。
50.根据本公开的又一个方面，提供一种表面清洁系统，包括上述任一项所述的制冷防臭基站以及上述任一项所述的表面清洁设备。
附图说明
51.附图示出了本公开的示例性实施方式，并与其说明一起用于解释本公开的原理，其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解，并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。
52.图1是根据本公开的一个实施方式的制冷防臭基站、表面清洁设备以及表面清洁系统的结构示意框图。
53.图2是根据本公开的又一个实施方式的制冷防臭基站、表面清洁设备以及表面清洁系统的结构示意框图。
54.图3是根据本公开的一个实施方式的制冷防臭基站的制冷部的结构示意图。
55.图4是根据本公开的一个实施方式的制冷防臭基站的制冷部对清洁液体供应/回
收管路中的液体进行加热的示意图。
56.图5是根据本公开的又一个实施方式的制冷防臭基站的制冷部的结构示意图。
57.图6是根据本公开的又一个实施方式的制冷防臭基站的制冷部的结构示意图。
58.附图标记说明
59.100 表面清洁设备
60.110 清洁部
61.120 清洁液体存储部
62.121 清洁液体输送管路
63.122 温度检测器
64.123 第一液位检测装置
65.124 泵装置
66.130 回收存储部
67.131 回收通道
68.132 表面清洁设备回收管路
69.140 第一控制装置
70.150 扶手部
71.160 主机抽吸组件
72.200 制冷防臭基站
73.220 主壳体
74.230 清洁液体供应部
75.231 清洁液体供应/回收管路
76.240 第二控制装置
77.250 加热装置
78.260 污物存储部
79.261 温度检测部
80.262 过滤部件
81.263 基站回收管路
82.270 基站抽吸装置
83.271 基站抽吸管路
84.280 制冷部
85.281 半导体制冷装置
86.282 压缩制冷装置
87.283 磁制冷装置
88.2811 冷端
89.2812 热端
90.2813 散热部
91.2814 p型半导体
92.2815 n型半导体
93.2816 第一电极
94.2817 第二电极
95.2818 第三电极
96.2821 膨胀器
97.2822 设置有干燥过滤器
98.2823 冷凝器
99.2824 气体压缩器
100.2825 蒸发器
101.2831 第一热二极管模组
102.2832 第二热二极管模组
103.2833 磁热芯体
104.2834 电磁铁
105.2835 绝热层。
具体实施方式
106.下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于解释相关内容，而非对本公开的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本公开相关的部分。
107.需要说明的是，在不冲突的情况下，本公开中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本公开的技术方案。
108.除非另有说明，否则示出的示例性实施方式/实施例将被理解为提供可以在实践中实施本公开的技术构思的一些方式的各种细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离本公开的技术构思的情况下，各种实施方式/实施例的特征可以另外地组合、分离、互换和/或重新布置。
109.在附图中使用交叉影线和/或阴影通常用于使相邻部件之间的边界变得清晰。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在与否均不传达或表示对部件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、示出的部件之间的共性和/或部件的任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或者要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述性的目的，可以夸大部件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以以不同于所描述的顺序来执行具体的工艺顺序。例如，可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外，同样的附图标记表示同样的部件。
110.当一个部件被称作“在”另一部件“上”或“之上”、“连接到”或“结合到”另一部件时，该部件可以直接在所述另一部件上、直接连接到或直接结合到所述另一部件，或者可以存在中间部件。然而，当部件被称作“直接在”另一部件“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一部件时，不存在中间部件。为此，术语“连接”可以指物理连接、电气连接等，并且具有或不具有中间部件。
111.为了描述性目的，本公开可使用诸如“在
……
之下”、“在
……
下方”、“在
……
下”、“下”、“在
……
上方”、“上”、“在
……
之上”、“较高的”和“侧(例如，在“侧壁”中)”等的空间相对术语，从而来描述如附图中示出的一个部件与另一(其它)部件的关系。除了附图中描绘的方位之外，空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如
果附图中的设备被翻转，则被描述为“在”其它部件或特征“下方”或“之下”的部件将随后被定位为“在”所述其它部件或特征“上方”。因此，示例性术语“在
……
下方”可以包含“上方”和“下方”两种方位。此外，设备可被另外定位(例如，旋转90度或者在其它方位处)，如此，相应地解释这里使用的空间相对描述语。
112.这里使用的术语是为了描述具体实施例的目的，而不意图是限制性的。如这里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个(种、者)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。此外，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”以及它们的变型时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组。还要注意的是，如这里使用的，术语“基本上”、“大约”和其它类似的术语被用作近似术语而不用作程度术语，如此，它们被用来解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供的值的固有偏差。
113.图1是根据本公开的一个实施方式的制冷防臭基站、一个实施方式的表面清洁设备以及一个实施方式的表面清洁系统的结构示意框图。
114.参考图1，根据本公开的一个实施方式，制冷防臭基站200包括：
115.污物存储部260，污物存储部260至少用于回收表面清洁设备100的回收存储部130内的污物；
116.制冷部280，制冷部280用于对污物存储部260降温以防止污物存储部260内的污物发臭；
117.基站控制器240，基站控制器240用于控制制冷部280的启动制冷和/或停止制冷。
118.其中，基站控制器240可以控制芯片的形式，基站控制器240优选地包括制冷控制模块，制冷控制模块优选地以集成电路的形式设置于基站控制器240。
119.优选地，基站控制器240基于污物存储部260中的污物量控制制冷部按照污物量对应的预设制冷功率进行污物量对应的预设时长的制冷。污物量的测量可以通过在污物存储部260的外部或者内部设置物位传感器进行测量。
120.根据本公开的又一个优选实施方式，基站控制器240基于环境温度控制制冷部按照环境温度对应的预设制冷功率进行环境温度对应的预设时长的制冷，环境温度的测量可以通过环境温度传感器进行测量，环境温度传感器设置在制冷防臭基站上以对环境温度进行测量。环境温度为制冷防臭基站200所处环境的温度或者污物存储部260的外围温度。
121.根据本公开的又一个优选实施方式，基站控制器240基于接收的启动制冷信号以及停止制冷信号对制冷部进行启动制冷以及停止制冷，启动制冷信号可以接收自制冷防臭基站的遥控设备或者制冷防臭基站的人机交互装置(例如按键或者触控屏等)。
122.根据本公开的又一个优选实施方式，上文描述的启动制冷信号优选地包括一种或两者以上的制冷模式，制冷模式包括制冷功率、间歇式制冷、间歇式制冷的时间间隔、制冷时长中的一种或者两种以上的制冷模式信息。
123.根据本公开的又一个优选实施方式，制冷防臭基站200包括温度检测部261，温度检测部261优选地设置在污物存储部260之内，温度检测部261对污物存储部260内的温度进行检测，基站控制器240基于污物存储部260内的温度启动制冷、停止制冷。
124.其中，本公开的制冷防臭基站200至少用于回收表面清洁设备100的回收存储部
130内的污物，其中，污物包括液体污物和/或固体污物(固体污物例如灰尘、泥污、碎屑等等)。
125.回收存储部130可以为箱体结构，例如圆筒形箱体结构或者长方体形箱体结构等，回收存储部130与表面清洁设备100的回收通道131连通，经由回收通道131回收的污物被存储至回收存储部130。
126.参考图1，表面清洁设备100还包括主机抽吸组件160、清洁液体存储部120、清洁液体输送管路121、泵装置124、清洁部110。
127.泵装置124设置在清洁液体输送管路121上，以将清洁液体存储部120中存储的清洁液体经由清洁液体输送管路121泵送至清洁部110或者清洁部110的附近，清洁部110可以是滚刷式清洁部，泵装置124可以将清洁液体泵送至清洁部110的腔体之内，或者泵送至临近清洁部110的表面设置的多个喷嘴(未示出)，清洁液体经由多个喷嘴喷洒至清洁部110的表面。
128.清洁液体输送管路121上还优选设置有温度检测器122，温度检测器122用于检测清洁液体存储部120输出的清洁液体的温度，优选地，温度检测器122临近清洁液体存储部120的液体输出端口设置。
129.根据本公开的优选实施方式，表面清洁设备100还包括第一液位检测装置123，第一液位检测装置123用于检测清洁液体存储部120中存储的清洁液体的液位，以生成液位信息，可以基于液位信息，使用制冷防臭基站200对清洁液体存储部120补充清洁液体。
130.优选地，制冷防臭基站200可以设置有清洁液体供应部(未示出)，清洁液体供液部能够向表面清洁设备100的清洁液体存储部120提供清洁液体，或者对表面清洁设备100的清洁液体存储部120中的清洁液体进行回收。制冷防臭基站200的清洁液体供应部与表面清洁设备100的清洁液体存储部120之间可以通过液体补充/回收管路连通，液体补充/回收管路可以部分地设置于表面清洁设备100且部分地设置于制冷防臭基站200。
131.当表面清洁设备100停靠至制冷防臭基站200时，设置于表面清洁设备100的液体补充/回收管路与设置于制冷防臭基站200的液体补充/回收管路能够通过接口部(包括设置于表面清洁设备100的接口部以及设置于制冷防臭基站200的接口部)连通，以进行清洁液体的补充或者回收，清洁液体的补充或者回收优选地通过设置于液体补充/回收管路的双向泵实现，双向泵优选地设置于制冷防臭基站200。
132.参考图1，表面清洁设备100的主机抽吸组件160经由回收通道131对清洁部110进行清洁操作之后产生的污物(液体、粉尘、碎屑等)进行抽吸，使得污物跟随抽吸气流经由回收通道131进入回收存储部130，优选地，回收存储部130的顶部设置有第一过滤组件，气流通过第一过滤组件并被排出至表面清洁设备100之外，污物(液体、粉尘、碎屑)等被第一过滤组件阻挡，并回落至回收存储部130内进行存储。
133.根据本公开的优选实施方式，临近清洁部110设置有吸嘴组件，清洁部110进行清洁操作之后产生的污物经由吸嘴组件、回收通道131被主机抽吸组件160抽吸进入回收存储部130。
134.其中，表面清洁设备100的主机抽吸组件160设置在表面清洁设备100的腔体之内，且设置在清洁液体存储部120与回收存储部130之间。
135.参考图1，表面清洁设备100还包括第一控制装置140，第一控制装置140与主机抽
吸组件160、温度检测器122、第一液位检测装置123、泵装置124以及清洁部110的驱动装置电连接/通信连接，以生成相应的控制信号。
136.第一控制装置140可以是控制芯片或者可编程逻辑控制电路等形式。
137.表面清洁设备100可以包括主机部分(图1中表面清洁设备的上部分)以及清洁头部分(图1中表面清洁设备的下部分，包括清洁部110、泵装置124、部分回收通道)，主机部分还可以包括扶手部150。
138.根据本公开的优选实施方式，制冷防臭基站200还包括基站回收管路263，基站回收管路263的第一端用于与污物存储部260连通，基站回收管路263的第二端用于与表面清洁设备100的回收存储部130连通。
139.其中，基站回收管路263的第一端优选地与污物存储部260的侧壁的上半部分连通，或者与污物存储部260的顶壁连通。
140.其中，如图1所示，表面清洁设备100包括表面清洁设备回收管路132，经由表面清洁设备回收管路132以及基站回收管路263，回收存储部130内的污物能够被回收至制冷防臭基站200的污物存储部260之内。
141.参考图1，当表面清洁设备100停靠至制冷防臭基站200时，表面清洁设备回收管路132能够与基站回收管路263连通。
142.优选地，表面清洁设备回收管路132与基站回收管路263之间通过接口组件(包括表面清洁设备100的接口组件以及制冷防臭基站200的接口组件)连通，以将回收存储部130中存储的污物回收至制冷防臭基站200的污物存储部260。
143.对于上述实施方式的制冷防臭基站200，优选地，还包括过滤部件262，过滤部件262设置于污物存储部260之内，以对经由基站回收管路263回收的污物进行过滤处理。
144.通过在污物存储部260之内设置过滤部件262，将污物中的固体污物过滤，可以减少污物中细菌的滋生。
145.参考图1，优选地，基站回收管路263的第一端设置在过滤部件262的上方区域。
146.参考图1，对于上述各个实施方式的制冷防臭基站200，优选地，制冷部280设置在污物存储部260的内部。
147.根据本公开的优选实施方式，制冷部280设置在污物存储部260的底部区域。
148.本领域技术人员可以对制冷部280的设置位置进行调整，均落入本公开的保护范围之内。
149.参考图1，制冷防臭基站200还包括第二控制装置240，第二控制装置240可以是控制芯片或者可编程逻辑控制电路等形式。
150.第二控制装置240与温度检测部261连接，第二控制装置240与制冷部280连接，温度检测部261对污物存储部260内的温度进行检测，第二控制装置240基于温度检测部261检测的温度信息生成相应的控制信号，以控制制冷部280启动制冷以及停止制冷。
151.例如，当污物存储部260内的温度升至第一预设温度时，第二控制装置240控制制冷部280启动，以对污物存储部260进行降温，当污物存储部260的温度降至第二预设温度时，第二控制装置240控制制冷部280停止制冷。
152.优选地，温度检测部261设置在污物存储部260之内。
153.对于上述各个实施方式的制冷防臭基站200，优选地，还包括基站抽吸组件，基站
抽吸组件包括基站抽吸装置270以及基站抽吸管路271，基站抽吸管路271的第一端用于与污物存储部260连通，基站抽吸管路271的第二端与基站抽吸装置270连通，基站抽吸装置270经由基站抽吸管路271对污物存储部260的气体进行抽吸使得污物存储部260内产生负压，以能够将流体抽吸至污物存储部260，使得制冷防臭基站200能够将表面清洁设备100的回收存储部130内的污物经由基站回收管路263回收至污物存储部260。参考图1，基站抽吸装置270可以是风机装置，可以设置在制冷防臭基站200的主壳体220之内，第二控制装置240以及污物存储部260也优选地均设置在主壳体220之内。
154.优选地，基站抽吸管路271的第一端连接于污物存储部260的侧壁的上半部分，更优选地，基站抽吸管路271的第一端连接于污物存储部260的顶壁，参见图1。
155.本领域技术人员可以对基站抽吸管路271的第一端的与污物存储部260的连接位置进行调整，均落入本公开的保护范围。
156.根据本公开的又一个优选实施方式的制冷防臭基站200，参考图2，制冷防臭基站200还包括清洁液体供应部230，制冷部280排出的热量能够加热清洁液体，能够有效提高清洁液体的清洁性能。此外，在本公开的一些实施方式中，仅通过制冷部280排除的热量无法满足清洁液体的加热需求，在这种情况下，制冷防臭基站280可额外设置加热装置250以对清洁液体进行加热，通过加热装置250和制冷部280排出的热量配合使用，将清洁液体加热至预定的温度。制冷部280的散热结构可根据使用需求布置于适当的位置，例如，与清洁液体供应部230的侧壁、底壁等位置相对地布置。
157.优选地，制冷防臭基站280还包括清洁液体供应/回收管路231，清洁液体供应/回收管路231至少部分地经过制冷部280，使得制冷部280排出的热量对流经清洁液体供应/回收管路231的清洁液体进行加热。
158.其中，清洁液体供应部230用于存储清洁液体，经由清洁液体供应/回收管路231，清洁液体供应部230中的清洁液体能够被提供至表面清洁设备100的清洁液体存储部120，清洁液体供应/回收管路231上可以设置泵装置以将清洁液体由制冷防臭基站的清洁液体供应部230中的清洁液体泵送至表面清洁设备100的清洁液体存储部120。
159.参考图2，根据本公开的优选实施方式，清洁液体供应/回收管路231上设置有加热装置250，加热装置250对流经清洁液体供应/回收管路231的清洁液体进行加热，使得基站能够向表面清洁设备100供应加热后的清洁液体。
160.优选地，基于清洁液体供应/回收管路231，可以将表面清洁设备100中的清洁液体回收至制冷防臭基站200的清洁液体供应部230。
161.对于上述各个实施方式的制冷防臭基站200，优选地，制冷部280包括半导体制冷装置281、压缩制冷装置282和/或磁制冷装置283。
162.本领域技术人员也可以使用其他类型的制冷部280，均落入本公开的保护范围。
163.参考图3，根据本公开的优选实施方式，半导体制冷装置281包括：
164.冷端2811，冷端2811与污物存储部260接触以吸取污物存储部260的热量；热端2812；以及半导体组件，半导体组件设置在冷端2811与热端2812之间，半导体组件至少用于吸取冷端2811的热量并将吸取的热量释放至热端2812。
165.优选地，半导体组件包括第一电极2816、第二电极2817、第三电极2818、p型半导体2814和n型半导体2815；冷端2811与第二电极2817接触，热端2812的第一区域与第一电极
2816接触，热端2812的第二区域与第三电极2818接触；n型半导体2815的第一端与第三电极2818连接，第二端与第二电极2817连接；p型半导体2814的第一端与第一电极2816连接，第二端与第二电极2817连接；第一电极2816用于连接电源负极，第三电极2818用于连接电源正极。
166.参考图3，当有电流通过不同的导体组成的回路(图3中的p型半导体2814和n型半导体2815)时，除产生不可逆的焦耳热外，在不同导体的接头处随着电流方向的不同会分别出现吸热、放热现象。
167.参考图3，电子从电源负极出发到达第一电极2816(可以是cu电极)和p型半导体2814的交界处，当电子从第一电极2816进入p型半导体2814时，即相当于电子的能量从费米能级进入半导体的价带，价带中电子的能量低于费米能，因此导致在热端2812放热。
168.电子继续运动，当电子从p型半导体2814进入冷端2811的第二电极2817(可以是铜电极)时，相当于电子从价带到达费米能级，故第二电极2817对冷端2811吸热。
169.电子继续运动，当电子从第二电极2817进入n型半导体2815时，相当于电子从费米能级进入导带，导带中电子的能量高于费米能级，这个过程需要吸热。电子从n型半导体2815进入热端2812的第三电极2818(可以是铜电极)时释放能量，释放的能量回到电源正极。
170.优选地，半导体制冷装置281还包括散热部2813，所述散热部2813用于将热端2812产生的热量转移至污物存储部260之外。
171.散热部2813可以是散热片的形式。
172.参考图4，以半导体制冷装置281为例，清洁液体供应/回收管路231优选地经过热端2812，使得热端2812产生的热量对流经清洁液体供应/回收管路231的清洁液体进行加热。
173.其中，清洁液体供应/回收管路231可以以嵌入的方式经过热端2812。
174.根据本公开的优选实施方式，清洁液体供应/回收管路231至少部分地设置在热端2812与散热部2813之间。
175.参考图5，根据本公开的优选实施方式，压缩制冷装置282包括：
176.蒸发器2825，蒸发器2825基于蒸发器2825内的制冷剂对污物存储部260进行热量吸收，制冷剂转化为制冷剂蒸汽(低温低压蒸汽)；
177.气体压缩器2824，气体压缩器2824用于对蒸发器2825输出的制冷剂蒸汽(低温低压蒸汽)进行压缩处理，以升高制冷剂蒸汽的温度(高温高压蒸汽)；
178.冷凝器2823，冷凝器2823将气体压缩器2824压缩处理之后的制冷剂蒸汽(高温高压蒸汽)转化为制冷剂液体(高压液体)；以及，
179.膨胀器2821，膨胀器2821将冷凝器2823转化后的制冷剂液体(高压液体)进行节流膨胀，以将制冷剂液体转化为雾状制冷剂，雾状制冷剂进入蒸发器2825。
180.本公开的压缩制冷装置282的工作流程包括以下三个过程：
181.压缩过程：
182.在常温下制冷剂是易液化的物质。制冷剂在蒸发器2825内吸热蒸发成低温低压的制冷剂蒸气，为使低温低压的制冷剂蒸气变成高温高压的制冷剂蒸气，以在常温下液化，需经过气体压缩器2824压缩，经过压缩后的高温高压的制冷剂蒸气再经管路输送到冷凝器
2823中进行液化。
183.冷凝过程：
184.经过压缩后的高温高压的制冷剂蒸气在冷凝器2823内被空气(或冷却水)冷却放出热量而被冷凝成制冷剂液体。
185.膨胀过程：
186.制冷剂被液化后先进行节流膨胀，使之减压并调节流量(调节流量可以通过膨胀器2821的毛细管实现)然后进入蒸发器2825。冷凝后的高压制冷剂液体在膨胀器2821的膨胀阀的作用下，压力突然下降，液体急剧膨胀，从而转化成低温低压的雾状制冷剂进入蒸发器2825。
187.参考图5，优选地，冷凝器2823与膨胀器2821之间还设置有干燥过滤器2822，以对制冷剂液体进行干燥和过滤。
188.参考图6，根据本公开的优选实施方式，磁制冷装置283包括：
189.第一热二极管模组2831；
190.第二热二极管模组2832；
191.电磁铁2834；
192.绝热层2835；以及，
193.磁热芯体2833，磁热芯体2833设置在第一热二极管模组2831、第二热二极管模组2832以及绝热层2835形成的腔体之内；
194.其中，当电磁铁2834对磁热芯体2833施加磁场时，磁热芯体2833释放热量，且释放的热量经由第二热二极管模组2832导出，当电磁铁2834停止对磁热芯体2833施加磁场时，磁热芯体2833经由第一热二极管模组2831吸取污物存储部260的热量以对污物存储部260进行制冷。
195.参考图6，绝热层2835可以设置在磁热芯体2833的四周，绝热层2835可以是圆筒形或者方筒形，第一热二极管模组2831形成在磁热芯体2833的第一端部(图示的上端部)，第二热二极管模组2832形成在磁热芯体2833的第二端部(图示的下端部)，使得热量仅能够沿一个方向传导，例如图6中的由上向下传导。
196.优选地，第一热二极管模组2831以及第二热二极管模组2832的传热方向相同。
197.优选地，第一热二极管模组2831以及第二热二极管模组2832均包括多个热二极管。
198.优选地，污物存储部260的壳体材料为保温材料。
199.需要说明的是，图3至图6中仅示出了污物存储部260的局部。
200.本领域技术人员可以对制冷部280在污物存储部260内的位置进行调整，均落入本公开的保护范围。
201.根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备100，参考图1，包括：
202.清洁液体存储部120，清洁液体存储部120用于存储清洁液体；
203.清洁部110，清洁部110用于对待清洁对象的表面进行清洁；
204.清洁液体输送管路121，清洁液体输送管路121与清洁液体存储部120流体连通，以将清洁液体输送至清洁部110或者清洁部110的附近；
205.回收存储部130，回收存储部130至少用于容纳经由清洁部110回收的污物；以及，
表面清洁设备回收管路132，经由表面清洁设备回收管路132，回收存储部130内的污物能够被回收至上述任一个实施方式的制冷防臭基站200的污物存储部260之内。
206.根据本公开的一个实施方式的表面清洁系统，参考图1，包括本公开任一个实施方式的制冷防臭基站200以及本公开任一个实施方式的表面清洁设备100。
207.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例/方式”、“一些实施例/方式”、“示例”、“具体示例”或“一些示例”等的描述意指结合该实施例/方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本公开的至少一个实施例/方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例/方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例/方式或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例/方式或示例以及不同实施例/方式或示例的特征进行结合和组合。
208.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本公开的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
209.本领域的技术人员应当理解，上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本公开，而并非是对本公开的范围进行限定。对于所属领域的技术人员而言，在上述公开的基础上还可以做出其它变化或变型，并且这些变化或变型仍处于本公开的范围内。