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基于亚波长金属/介质的集成光学器件的制作方法

2022-02-20 07:24:28 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种基于亚波长金属/介质的集成光学器件,其特征在于,所述集成光学器件包括:第一金属层;第二金属层,所述第一金属层与所述第二金属层之间形成纳米腔;以及金属栅格,所述金属栅格设置于所述纳米腔中,所述金属栅格与所述第一金属层之间具有第一距离,所述金属栅格与所述第二金属层之间具有第二距离;其中,通过设置所述第一距离和所述第二距离,能够调控所述金属栅格与所述第一金属层之间的第一波导等效折射率以及所述金属栅格与所述第二金属层之间的第二波导等效折射率。2.根据权利要求1所述的集成光学器件,其特征在于,所述第一距离或所述第二距离越大,所述第一距离对应的所述第一波导等效折射率或所述第二距离对应的所述第二波导等效折射率越小;所述第一距离或所述第二距离越小,所述第一距离对应的所述第一波导等效折射率或所述第二距离对应的所述第二波导等效折射率越大。3.根据权利要求2所述的集成光学器件,其特征在于,所述集成光学器件包括多个金属栅格,将所述多个金属栅格间隔设置,并且将所述多个金属栅格的第一距离和第二距离设置为相等的距离,以形成布拉格光栅效应反射光谱。4.根据权利要求3所述的集成光学器件,其特征在于,将所述多个金属栅格之间的间隔距离设置为不同距离,以得到不同周期的布拉格光栅效应反射光谱。5.根据权利要求3所述的集成光学器件,其特征在于,将所述多个金属栅格设置为不同长度的金属栅格,以得到不同的布拉格光栅效应反射光谱,随着所述金属栅格的长度增大,所述布拉格光栅效应反射光谱的特征峰出现红移现象。6.根据权利要求3所述的集成光学器件,其特征在于,将所述多个金属栅格设置为不同厚度的金属栅格,以得到不同的布拉格光栅效应反射光谱,随着所述金属栅格的厚度增大,所述布拉格光栅效应反射光谱的特征峰出现红移现象。7.根据权利要求3所述的集成光学器件,其特征在于,将所述多个金属栅格的第一距离和第二距离设置为不相等的距离,以形成级联马赫-曾德尔干涉光谱和布拉格光栅效应反射光谱。8.根据权利要求7所述的集成光学器件,其特征在于,将所述多个金属栅格设置为不同长度的金属栅格,以形成不同的马赫-曾德尔干涉光谱。9.根据权利要求7所述的集成光学器件,其特征在于,将所述多个金属栅格设置为不同厚度的金属栅格,以形成不同的马赫-曾德尔干涉光谱。10.根据权利要求3或7所述的集成光学器件,其特征在于,将多个相同或不同的金属栅格作为一个周期,通过级联组合产生不同的布拉格光栅效应反射光谱和/或马赫-曾德尔干涉光谱。

技术总结
本发明实施例提供一种基于亚波长金属/介质的集成光学器件。该集成光学器件包括:第一金属层;第二金属层,第一金属层与第二金属层之间形成纳米腔;以及金属栅格,金属栅格设置于纳米腔中,金属栅格与第一金属层之间具有第一距离,金属栅格与第二金属层之间具有第二距离;其中,通过设置第一距离和第二距离,能够调控金属栅格与第一金属层之间的第一波导等效折射率以及金属栅格与第二金属层之间的第二波导等效折射率。这样,可以实现亚波长集成光回路,可以实现如布拉格光栅反射效应和马赫-曾德尔干涉效应的多功能光学效应,集成两种光学器件的优点且互不干扰,性能优越,尺寸较小,为全光集成回路提供了重要支撑。为全光集成回路提供了重要支撑。为全光集成回路提供了重要支撑。


技术研发人员:曾亮 李嘉其 曹成艺 温坤华 翁俊 麦茂靖 李旭东 余泉澔 曾欣媛 张简智
受保护的技术使用者:广东工业大学
技术研发日:2021.10.15
技术公布日:2022/1/11
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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