一种光源装置及投影设备的制作方法

技术特征：
1.一种光源装置，其特征在于，包括：激光光源，其用于发射激发光；分光合光单元，其用于引导光路方向；波长转换单元，其包括时序位于所述激发光的光路上的波长转换区及非波长转换区；当所述波长转换区位于所述激发光光路上时，部分所述激发光在所述波长转换区发生波长转换形成受激光，剩余所述激发光成为残留光并随所述受激光一起自所述波长转换区反射向所述分光合光单元；当所述非波长转换区位于所述激发光光路上时，所述激发光在所述非波长转换区形成基色光并射向所述分光合光单元，所述非波长转换区包括有光路偏移模块，所述光路偏移模块用于对射入所述非波长转换区的所述激发光进行光路偏移，以使所述基色光射向所述分光合光单元的光路与所述残留光射向所述分光合光单元的光路不重合；集光单元，其沿所述受激光、所述残留光以及所述基色光的出光方向，设置在所述分光合光单元之后，所述集光单元包括集光区及滤光区，所述受激光及基色光经由所述分光合光单元引导至所述集光区以进入后续光路，所述残留光经由所述分光合光单元引导至所述滤光区以被滤除。2.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，进一步包括第一聚光透镜，沿所述激发光的入射方向，所述分光合光单元、所述第一聚光透镜以及波长转换单元依次设置，所述激发光依次经过所述分光合光单元、第一聚光透镜到达所述波长转换单元，形成的所述受激光、所述残留光以及所述基色光分别依次经过所述第一聚光透镜、分光合光单元后射向所述集光单元。3.如权利要求2所述的光源装置，其特征在于，所述分光合光单元包括第一反射单元以及透射所述激发光并反射所述受激光的二向色元件，其中，所述第一聚光透镜的光轴与所述二向色元件的光轴重合，所述受激光经由所述二向色元件反射至所述集光单元的集光区，所述基色光透过所述二向色元件后经由所述第一反射单元反射至所述集光单元的集光区，所述残留光透过所述二向色元件后经由所述第一反射单元反射至所述集光单元的滤光区。4.如权利要求3所述的光源装置，其特征在于，所述光路偏移模块包括沿所述激发光入射方向依次设置的激发光透射区、第二聚光透镜以及第二反射单元，当所述非波长转换区位于所述激发光光路上时，到达所述波长转换单元的所述激发光依次经过所述激发光透射区、所述第二聚光透镜后达到所述第二反射单元，经由所述第二反射单元反射后依次穿过所述第二聚光透镜、所述激发光透射区后形成所述基色光，其中，所述第二聚光透镜的光轴与所述第一聚光透镜的光轴不重合。5.如权利要求3所述的光源装置，其特征在于，所述光路偏移模块包括沿所述激发光入射方向依次设置的激发光透射区及反射杯，当所述非波长转换区位于所述激发光光路上时，到达所述波长转换单元的所述激发光经过所述激发光透射区后到达所述反射杯，经由所述反射杯反射后穿过所述激发光透射区形成所述基色光，其中，所述反射杯的光轴与所述第一聚光透镜的光轴不重合。6.如权利要求3所述的光源装置，其特征在于，所述非波长转换区沿其厚度方向形成有靠近所述激发光入光面的透光层及远离所述激发光入光面的反光层，所述透光层及反光层
构成所述光路偏移模块，当所述非波长转换区位于所述激发光光路上时，到达所述波长转换单元的所述激发光穿过所述透光层后到达所述反光层，经由所述反光层反射后二次穿过所述透光层形成所述基色光，其中，所述激发光的入射方向与所述第一聚光透镜的光轴不重合。7.如权利要求3所述的光源装置，其特征在于，所述集光单元为复眼单元或者方棒单元：当为复眼单元时，所述集光区为所述复眼单元的容纳角度范围所涵盖的区域，所述滤光区为所述复眼单元的容纳角度范围所涵盖的区域之外的区域；当为方棒单元时，所述集光区为所述方棒单元的入光口区域，所述滤光区为所述方棒单元的入光口区域之外的区域。8.如权利要求4或5所述的光源装置，其特征在于，所述波长转换单元为旋转色轮，所述激发光透射区位于所述旋转色轮的轮体上。9.如权利要求6所述的光源装置，其特征在于，所述波长转换单元为旋转色轮，所述非波长转换区形成在所述旋转色轮的轮体上，其中，所述透光层具有对光束的入射角度进行调制的光学表面，所述光学表面通过对光束入射角度的调制，来扩大所述基色光射向所述分光合光单元的光路与所述残留光射向所述分光合光单元的光路之间的偏移量。10.一种投影设备，其包括如权利要求1～9任一项所述的光源装置。

技术总结
本发明提供了一种光源装置，包括激光光源；分光合光单元；波长转换单元，其包括波长转换区及非波长转换区；当波长转换区位于激发光光路上时，部分激发光在发生波长转换形成受激光，剩余激发光成为残留光并随受激光一起自波长转换区反射向分光合光单元；激发光在非波长转换区形成基色光并射向分光合光单元，非波长转换区包括有光路偏移模块，用于使基色光射向分光合光单元的光路与残留光射向分光合光单元的光路不重合；集光单元，包括集光区及滤光区，述受激光及基色光经由分光合光单元引导至集光区以进入后续光路，残留光经由分光合光单元引导至滤光区以被滤除。从而实现基色光与残留光的区分与滤除。本发明还提供一种投影设备。备。备。


技术研发人员：杨炳柯 王则钦 郭祖强 李屹
受保护的技术使用者：深圳光峰科技股份有限公司
技术研发日：2020.07.10
技术公布日：2022/1/10