半导体浸泡线化剂自动添加与回收装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种半导体封装设备，尤其涉及一种半导体浸泡线化剂自动添加与回收装置。


背景技术：

2.在半导体芯片的封装流程中，涉及多道水洗工序，水洗时芯片置入浸泡槽内并在浸泡线化剂内长时间浸泡，浸泡结束后需要在化剂沥干槽内沥干，再进行下一道工序。现有技术的沥干槽对化剂没有有效的管理措施，滴落的化剂通常都是通过沥干槽底部的管道直接排放，不仅化剂浪费量大，也同时增加了企业的排污成本。另外，由于芯片在化剂内浸泡的时间较长，沥干时间也较长，自然沥干的方式效率较低，且在沥干的过程中化剂中的化学成分挥发，导致环境的污染，不利于工作人员的身体健康。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种半导体浸泡线化剂自动添加与回收装置，能加速半导体芯片的沥干并收集沥干时滴落的化剂，便于化剂的回收循环利用，同时也减少了化剂对环境的污染。
4.本实用新型是这样实现的：
5.一种半导体浸泡线化剂自动添加与回收装置，包括浸泡槽、沥干槽、化剂回收槽和化剂循环泵；浸泡槽设置在沥干槽的旁侧，化剂回收槽设置在沥干槽的旁侧，化剂回收槽的上部通过管道与沥干槽的底部连通；化剂循环泵的进液端通过管道与化剂回收槽连通，化剂循环泵的出液端通过管道与浸泡槽连通；沥干槽的顶部设有活动盖，使沥干槽的顶部开口封闭。
6.所述的沥干槽内设有吹气管道，位于活动盖的下方，吹气管道上间隔设有若干个吹气嘴并面向半导体芯片，吹气管道通过气路外接供气源。
7.所述的活动盖通过自动铰轴安装在沥干槽的顶部，自动铰轴与供气源连锁控制。
8.所述的化剂回收槽内设有液位计，液位计与化剂循环泵连锁控制。
9.所述的沥干槽通过支架架高设置，使沥干槽的底部与化剂回收槽的顶部位于同一水平高度。
10.还包括设置在所述浸泡槽旁侧的化剂存储槽，所述化剂存储槽内盛放有化剂，所述化剂存储槽处设置有化剂加液泵，所述化剂加液泵的进液端通过管道与所述化剂存储槽连通，所述化剂加液泵的出液端通过管道与所述浸泡槽连通。
11.还包括装设在所述浸泡槽内的液位传感器，所述液位传感器与所述化剂加液泵连接。
12.本实用新型与现有技术相比，具有如下有益效果：
13.1、本实用新型由于设有化剂回收槽和化剂循环泵，化剂在重力作用下自动、有效的流入化剂回收槽中，能通过化剂回收槽收集沥干时滴落的化剂，减少化剂外排导致的化
剂浪费和排污成本，通过化剂循环泵实现化剂的回收循环利用，降低生产成本，增加经济效益。
14.2、本实用新型由于设有活动盖和吹气结构，能通过吹气结构加速半导体芯片的沥干过程，提高沥干效率和效果，同时通过活动盖避免沥干过程中化剂向外飞溅和化剂中化学成分挥发导致的环境污染，最大程度的减少生产环境对操作人员的健康伤害。
15.3、本实用新型能通过控制设备连锁控制，实现生产自动化，有利于提高生产效率和质量，增加收益。
附图说明
16.图1是本实用新型半导体浸泡线化剂自动添加与回收装置的剖视图；
17.图2是本实用新型半导体浸泡线化剂自动添加与回收装置的俯视图。
18.图3是本实用新型半导体浸泡线化剂自动添加与回收装置中浸泡槽与化剂存储槽的剖视图。
19.图中，1浸泡槽，2沥干槽，21活动盖，22吹气管道，23吹气嘴，24供气源，25自动铰轴，26支架，3化剂回收槽，31液位计，4化剂循环泵，5化剂存储槽，51化剂加液泵，52液位传感器。
具体实施方式
20.下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。
21.请参见附图1和附图2，一种半导体浸泡线化剂自动添加与回收装置，包括浸泡槽1、沥干槽2、化剂回收槽3和化剂循环泵4；浸泡槽1设置在沥干槽2的旁侧，化剂回收槽3设置在沥干槽2的旁侧，化剂回收槽3的上部通过管道与沥干槽2的底部连通；化剂循环泵4的进液端通过管道与化剂回收槽3连通，化剂循环泵4的出液端通过管道与浸泡槽1连通；沥干槽2的顶部设有活动盖21，使沥干槽2的顶部开口封闭。通过化剂循环泵4使化剂回收槽3内收集的化剂能泵入浸泡槽1中循环利用，减少化剂的浪费、排污成本。通过活动盖21封闭沥干槽2的开口，能防止沥干过程中化剂飞溅和化学成分挥发导致的环境污染，确保了生产环境的良好。
22.所述的沥干槽2内设有吹气管道22，位于活动盖21的下方，吹气管道22上间隔设有若干个吹气嘴23并面向半导体芯片，吹气管道22通过气路外接供气源24。供气源24用于提供压缩空气，可采用现有技术的压缩空气泵等设备，压缩空气通过吹气管道22经吹气嘴23吹出，压缩空气吹在半导体芯片表面，能起到加速沥干的效果。
23.所述的活动盖21通过自动铰轴25安装在沥干槽2的顶部，自动铰轴25与供气源24连锁控制。优选的，可采用现有技术的plc设备对自动铰轴25的转动电机(图中未示出)和供气源22连锁控制，当供气源24供气使吹气嘴23吹气时，转动电机带动自动铰轴25转动时活动盖21封闭沥干槽2的顶部开口，既能防止吹气沥干过程中化剂飞溅出沥干槽2，又能防止化剂中的化学成分向外挥发，有效控制了环境污染问题。
24.所述的化剂回收槽3内设有液位计31，液位计31与化剂循环泵4连锁控制。优选的，可采用现有技术的plc设备对液位计31和化剂循环泵4进行连锁控制，当液位计31检测到化剂回收槽3内化剂达到一定高度时，触发化剂循环泵4工作，将化剂回收槽3内的化剂泵入浸
泡槽1，达到化剂回收的目的。液位计31可采用现有技术的翻板式液位计、浮球式液位计等测量设备，用于实现化剂回收槽3内液位高度的测量以及警戒液位和安全液位的触发功能，从而实现化剂循环泵4的开关自动化控制。
25.所述的沥干槽2通过支架26架高设置，使沥干槽2的底部与化剂回收槽3的顶部位于同一水平高度或大致等高，便于沥干槽2底部与化剂回收槽3顶部之间的管道的布设，使化剂在重力作用下能直接流入化剂回收槽3中，确保化剂的有效回收。
26.浸泡槽内的化剂现有技术中是人工手动添加的，由于浸泡槽内的化剂需加热使用，故在人工手动添加化剂时，药水的挥发严重的影响作业人员的身体健康。为解决这一技术问题，本实用新型的半导体浸泡线化剂自动添加与回收装置还提供了自动添加化剂的功能。具体地，如图2和图3所示，该半导体浸泡线化剂自动添加与回收装置还包括设置在浸泡槽1旁侧的化剂存储槽5，该化剂存储槽5内盛放有化剂，该化剂存储槽5处设置有化剂加液泵51，该化剂加液泵51的进液端通过管道与化剂存储槽5连通，化剂加液泵51的出液端通过管道与浸泡槽1连通，从而通过该化剂加液泵51能够将化剂存储槽5内的化剂泵送至浸泡槽1内，实现了自动添加化剂，节省了作业人员的工作量，降低了安全风险。化剂存储槽5内的化剂虽然也需要人工手动添加，但由于该化剂存储槽5内的化剂无需加热，在常温状态下化剂的挥发小，气味溢出较少，能够减小对作业人员身体健康的影响。
27.进一步地，在浸泡槽1内装设有液位传感器52，液位传感器52与化剂加液泵51连接，该液位传感器52用于检测浸泡槽1内的化剂的液面高度，在该化剂的液面高度低于设定低值时，触发化剂加液泵51工作，将化剂存储槽5内的化剂泵入到浸泡槽1内，当化剂的液面高度达到设定高值时，触发化剂加液泵5停止工作。该液位传感器52可采用现有技术的翻板式液位计、浮球式液位计等测量设备。优选的，可采用现有技术的plc设备对液位传感器52和化剂加液泵51进行连锁控制。本实用新型可应用于现有技术半导体浸泡线上的浸泡机，本实用新型的工作流程是：
28.将在浸泡槽1内完成水洗浸泡等工序的半导体芯片置入沥干槽2内沥干，在沥干的过程中，plc等控制设备可控制转动电机的输出轴正向转动，使连接在转动电机输出轴上的自动铰轴25同步转动，从而使活动盖21封闭沥干槽2的顶部开口，防止化剂中的化学成分挥发而污染环境。同时，plc等控制设备可控制供气源24通过气管道22经若干个吹气嘴23向半导体芯片进行吹气，提高沥干效率和沥干效果，在吹气的同时可连锁控制活动盖21，防止压缩吹气导致化剂飞溅出沥干槽2。
29.半导体芯片上的化剂滴落至沥干槽2底部，并通过管道流入化剂回收槽3内。当化剂回收槽3内的化剂达到设定高度，触发液位计31向plc等控制设备发送液位警报信号，plc等控制设备连锁控制化剂循环泵4运行，通过管道将化剂回收槽3内的化剂泵入浸泡槽1内，实现化剂的回收再利用，减少化剂的浪费和排污成本，也防止化剂回收槽3内的化剂溢出。化剂回收槽3内的化剂液位下降后，液位计31向plc等控制设备发送液位安全信号，plc等控制设备关闭化剂循环泵4。
30.当浸泡槽1内的化剂较少时，触发液位传感器52向plc等控制设备发送加液信号，plc等控制设备连锁控制化剂加液泵51运行，通过管道将化剂存储槽5内的化剂泵入到浸泡槽1内，当浸泡槽1内的化剂达到设定高度时，触发液位传感器52向plc等控制设备发生停止加液信号，plc等控制设备关闭化剂加液泵51。
31.本实用新型的运行控制方法可采用现有技术的plc等控制设备及其内部软件的方式实现，此处不再赘述。本实用新型的运行控制方法也可采用人工控制开关的方式实现。
32.以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用于限定本实用新型的保护范围，因此，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。