表面清洁设备和表面清洁系统的制作方法

技术特征：
1.一种表面清洁设备，其特征在于，包括：清洁液体存储部，所述清洁液体存储部用于存储清洁液体；回水组件，所述回水组件与所述清洁液体存储部连通，以通过所述回水组件向所述清洁液体存储部内提供清洁液体或者将所述清洁液体存储部内的清洁液体排出；以及充电耦合结构，所述充电耦合结构位于所述表面清洁设备后部且位于所述回水组件的上方；其中，所述回水组件包括阀组件和防护结构，所述防护结构至少部分地围绕所述阀组件，且所述防护结构的最低位置与所述阀组件的最低位置相同，或者低于所述阀组件的最低位置。2.如权利要求1所述的表面清洁设备，其特征在于，所述充电耦合结构邻近所述回水组件。3.如权利要求1所述的表面清洁设备，其特征在于，还包括：框架结构，所述防护结构设置于所述框架结构，并位于所述框架结构的下端。4.如权利要求3所述的表面清洁设备，其特征在于，所述防护结构的壁面沿所述防护结构的轴线方向形成有固定肋条。5.如权利要求3所述的表面清洁设备，其特征在于，还包括：导向结构，所述导向结构邻近所述充电耦合结构设置。6.如权利要求5所述的表面清洁设备，其特征在于，所述导向结构为从所述框架结构的表面所形成的凸起结构，或者在所述框架结构上所形成的凹陷结构。7.如权利要求6所述的表面清洁设备，其特征在于，当所述导向结构为凹陷结构时，所述充电耦合结构位于所述凹陷结构内。8.如权利要求7所述的表面清洁设备，其特征在于，所述凹陷结构包括至少两个沿所述框架结构的长度方向延伸的导槽。9.如权利要求1所述的表面清洁设备，其特征在于，所述充电耦合结构包括充电弹片。10.如权利要求1所述的表面清洁设备，其特征在于，所述防护结构的内部形成有容置空间，所述阀组件设置于所述防护结构的容置空间内；并且所述防护结构和阀组件之间形成有腔室，所述腔室与所述清洁液体存储部连通。11.如权利要求10所述的表面清洁设备，其特征在于，所述防护结构的上部形成有水管接头，所述水管接头与所述腔室连通，以通过将水管接头连接于清洁液体存储部的方式，使得腔室与所述清洁液体存储部连通。12.如权利要求11所述的表面清洁设备，其特征在于，所述阀组件包括：阀体，所述阀体固定于所述防护结构，并且所述阀体的内部形成清洁液体流通的管路，所述清洁液体流通的管路与所述腔室连通；阀杆，所述阀杆可滑动地设置于所述阀体内；并使得所述阀杆能够处于第一位置和第二位置；以及堵头，所述堵头设置于所述阀杆的一端，并且当所述阀杆位于第一位置时，使得所述阀体的清洁液体流通的管路与所述腔室不连通，并且当所述阀杆位于第二位置时，使得所述阀体的清洁液体流通的管路与所述腔室连通。13.如权利要求12所述的表面清洁设备，其特征在于，所述阀体的下半部分的外表面形
成有至少一个容置密封圈的环形凹槽，所述环形凹槽内设置有密封圈。14.如权利要求12所述的表面清洁设备，其特征在于，所述阀体的内部设置有导向件，所述导向件与所述阀体的内表面间隔预设距离；所述导向件形成有中心孔，所述阀杆可滑动地设置于所述导向件的中心孔内。15.如权利要求12所述的表面清洁设备，其特征在于，当所述阀杆位于第一位置时，所述堵头与所述阀体的内壁面密封接触，以使得所述阀体的清洁液体流通的管路与所述腔室不连通；当所述阀杆位于第二位置时，所述堵头与所述阀体的内壁面间隔一定距离，以使得所述阀体的清洁液体流通的管路与所述腔室不连通。16.如权利要求14所述的表面清洁设备，其特征在于，所述阀杆的另一端形成有轴肩，弹簧的一端设置于所述轴肩，另一端设置于所述导向件，并且所述弹簧处于预压缩状态，以通过所述弹簧的弹力使得所述阀组件为常闭状态。17.一种表面清洁系统，其特征在于，包括权利要求1
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16之一所述的表面清洁设备。18.如权利要求17所述的表面清洁系统，其特征在于，还包括：基站，所述基站用于向所述表面清洁设备提供电能，和/或，实现与表面清洁设备的流体交互。19.如权利要求18所述的表面清洁系统，其特征在于，所述基站包括：清洁液体供给部，所述清洁液体供给部用于存储清洁液体；连接接口，所述连接接口连接至所述清洁液体供给部，当所述表面清洁设备停靠于所述基站时，所述表面清洁设备的回水组件连接于所述连接接口，以将所述清洁液体供给部的清洁液体通过所述连接接口输送至所述清洁液体存储部，或者将所述清洁液体存储部内的清洁液体通过所述连接接口输送至所述清洁液体供给部；以及盖板，所述盖板能够在第一位置和第二位置之间运动，其中，当所述盖板位于所述第一位置时，所述盖板覆盖所述连接接口，当所述盖板位于第二位置时，使得所述连接接口露出；以及充电结构，所述充电结构设置于所述盖板，所述充电结构与所述表面清洁设备的充电耦合结构配合，用于向停靠于所述基站的表面清洁设备提供电能，并实现所述表面清洁设备的充电。20.如权利要求19所述的表面清洁系统，其特征在于，所述基站还包括：导向致动结构，所述导向致动结构设置于所述盖板，所述表面清洁设备能够通过所述导向致动结构致动所述盖板，且被所述导向致动结构导向。21.如权利要求20所述的表面清洁系统，其特征在于，所述充电结构所处于的水平面位置高于所述连接接口所处于的水平面的位置。22.如权利要求20所述的表面清洁系统，其特征在于，所述导向致动结构位于所述充电结构上方，并临近所述充电结构。23.如权利要求20所述的表面清洁系统，其特征在于，所述导向致动结构为相对于所述盖板表面的凸起结构或凹陷结构。24.如权利要求19所述的表面清洁系统，其特征在于，所述盖板包括连续的弧面，所述充电结构位于所述连续的弧面上。25.如权利要求24所述的表面清洁系统，其特征在于，所述连续的弧面至少包括相互邻
接设置的第一弧面和第二弧面，所述充电结构位于所述第一弧面或第二弧面上。26.如权利要求20所述的表面清洁系统，其特征在于，所述盖板包括连续的弧面，所述导向致动结构位于所述连续的弧面上。27.如权利要求26所述的表面清洁系统，其特征在于，所述连续的弧面至少包括相互邻接设置的第一弧面和第二弧面，所述导向致动结构位于所述第一弧面或第二弧面上。28.如权利要求20所述的表面清洁系统，其特征在于，所述导向致动结构包括至少一个导向片，所述导向片沿着所述盖板的长度方向设置；或者，所述导向致动结构包括至少一个圆柱形凸起或者半球形凸起。

技术总结
本公开提供一种表面清洁设备，其包括：清洁液体存储部，所述清洁液体存储部用于存储清洁液体；回水组件，所述回水组件与所述清洁液体存储部连通，以通过所述回水组件向所述清洁液体存储部内提供清洁液体或者将所述清洁液体存储部内的清洁液体排出；以及充电耦合结构，所述充电耦合结构位于所述表面清洁设备后部且位于所述回水组件的上方；其中，所述回水组件包括阀组件和防护结构，所述防护结构至少部分地围绕所述阀组件，且所述防护结构的最低位置与所述阀组件的最低位置相同，或者低于所述阀组件的最低位置。本公开还提供一种表面清洁系统。洁系统。洁系统。


技术研发人员：徐哲 唐成 段飞 钟亮
受保护的技术使用者：北京顺造科技有限公司
技术研发日：2021.06.21
技术公布日：2021/12/7