光刻机掩模台六自由度位移测量系统的制作方法

技术特征：
1.一种光刻机掩模台六自由度位移测量系统，其特征在于，包括：光栅安装板，固定在光刻机的掩模台上，第一平面光栅和第二平面光栅，相对固定在光栅安装板的两侧，使得平面光栅与光栅安装板的板面平行，其中，第一平面光栅包括相互垂直的栅线，且栅线方向是在所述掩模台的平移平面的x轴和y轴方向上，第二平面光栅至少包括在所述掩模台的平移平面的x轴或y轴方向上的栅线，其中x轴和y轴是直角坐标系的坐标轴；三个探测器，任一探测器都具有掩模台的平移平面内和垂直于掩模台的平移平面方向的二自由度测量功能。2.根据权利要求1所述的光刻机掩模台六自由度位移测量系统，其特征在于，掩模台的平移平面内的测量功能是指平行于光栅平面且垂直于栅线的位移测量；垂直于掩模台的平移平面方向的测量功能是指垂直于光栅平面的位移测量。3.根据权利要求1所述的光刻机掩模台六自由度位移测量系统，其特征在于，所述探测器包括探测器镜组，以及入光/回光信号接收器，所述探测器镜组与所述入光/回光信号接收器设置在所述掩模台的下方，所述探测器镜组用于产生激光干涉信号，所述入光/回光信号接收器用于提供输入信号及接收输出干涉信号。4.根据权利要求1所述的光刻机掩模台六自由度位移测量系统，其特征在于，任一探测器是光栅干涉仪或光栅编码器。5.根据权利要求1所述的光刻机掩模台六自由度位移测量系统，其特征在于，具有平移平面内的测量功能且测量位移方向一致的探测器，不在同一条直线上。6.根据权利要求1所述的光刻机掩模台六自由度位移测量系统，其特征在于，所述第一平面光栅和第二平面光栅是通过范德华力或者胶合的方式连接在所述光栅安装板的下表面。7.根据权利要求1所述的光刻机掩模台六自由度位移测量系统，其特征在于，所述第一平面光栅包括第一区域和第二区域，第一区域与第二区域的栅线相互垂直，第二平面光栅的栅线平行于第一区域或第二区域的栅线。8.根据权利要求1所述的光刻机掩模台六自由度位移测量系统，其特征在于，所述第一平面光栅包括第一区域和第二区域，第一区域与第二区域的栅线相互垂直，所述第二平面光栅的栅线为栅格。9.根据权利要求1所述的光刻机掩模台六自由度位移测量系统，其特征在于，所述第一平面光栅、所述第二平面光栅的栅线均为栅格。10.根据权利要求1所述的光刻机掩模台六自由度位移测量系统，其特征在于，所述第一平面光栅的栅线为栅格，所述第二平面光栅的栅线在所述掩模台的平移平面的x轴或y轴方向上。

技术总结
本发明公开一种光刻机掩模台六自由度位移测量系统，包括：光栅安装板，固定在光刻机的掩模台上，第一平面光栅和第二平面光栅，相对固定在光栅安装板的两侧，第一平面光栅包括相互垂直的栅线，且栅线方向是在掩模台的平移平面的x轴和y轴方向上，第二平面光栅至少包括在掩模台的平移平面的x轴或y轴方向上的栅线；三个探测器，任一探测器都具有掩模台的平移平面内和垂直于掩模台的平移平面方向的二自由度测量功能。本发明解决了现有的掩模台六自由度位移测量系统存在传感器数量过多而导致的传感器位置布置难题，可以简化六自由度位移测量模型，且不采用二维光栅即可实现掩模台六自由度位移测测量，降低制造难度及生产成本。降低制造难度及生产成本。降低制造难度及生产成本。


技术研发人员：王磊杰 朱煜 郭子文 张鸣 叶伟楠 成荣
受保护的技术使用者：清华大学
技术研发日：2021.09.27
技术公布日：2021/12/7