光学指纹器件及其制造方法与流程

技术特征：
1.一种光学指纹器件的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：提供形成有若干图像传感器的第一晶圆；在第一晶圆上设置挡光结构；采用透光材料形成位于图像传感器感光单元上方的透光结构并在所述透光结构上形成微透镜；从而形成所述光学指纹器件。2.根据权利要求1所述的光学指纹器件的制造方法，其特征在于，所述挡光结构由不透可见光的材料制成。3.根据权利要求2所述的光学指纹器件的制造方法，其特征在于，所述挡光结构由第二晶圆或有机挡光材料形成。4.根据权利要求1所述的光学指纹器件的制造方法，其特征在于，采用压印的方式一体成型所述透光结构和微透镜。5.根据权利要求1所述的光学指纹器件的制造方法，其特征在于，先用压印或涂覆的方式形成透光结构，平坦化所述透光结构，再用压印或涂覆的方式在所述透光结构上形成微透镜。6.根据权利要求1所述的光学指纹器件的制造方法，其特征在于，所述透光材料为光敏胶，二氧化硅或有机材料。7.根据权利要求1所述的光学指纹器件的制造方法，其特征在于，形成透光结构之前，采用覆盖层阻挡图像传感器的焊盘区以避免所述透光材料接触焊盘区；形成透光结构和微透镜之后，去除所述覆盖层对应于焊盘区的部分以暴露出焊盘区。8.根据权利要求7所述的光学指纹器件的制造方法，其特征在于，该覆盖层与焊盘区之间具有间隙，采用机械切割或激光切割的方式去除所述覆盖层对应于焊盘区的部分。9.根据权利要求7所述的光学指纹器件的制造方法，其特征在于，所述挡光结构作为覆盖层，或者在所述挡光结构上设置透光层作为覆盖层。10.根据权利要求1所述的光学指纹器件的制造方法，其特征在于，还包括：在所述微透镜之间形成挡光层。11.根据权利要求1所述的光学指纹器件的制造方法，其特征在于，还包括：在所述挡光结构和第一晶圆之间形成红外截止滤光膜。12.根据权利要求1所述的光学指纹器件的制造方法，其特征在于，还包括：在所述挡光结构表面及侧壁覆盖减反射层。13.一种光学指纹器件，其特征在于，包括：形成有若干图像传感器的第一晶圆；设置于所述第一晶圆上的挡光结构；位于图像传感器感光单元上方的透光结构以及位于所述透光结构上的微透镜。14.根据权利要求13所述的光学指纹器件，其特征在于，所述挡光结构由不透可见光的材料形成。15.根据权利要求14所述的光学指纹器件，其特征在于，所述挡光结构由第二晶圆或有机挡光材料形成。16.根据权利要求13所述的光学指纹器件，其特征在于，所述透光结构和微透镜由光敏
胶，二氧化硅或有机材料的透光材料形成。17.根据权利要求13所述的光学指纹器件，其特征在于，还包括：位于所述微透镜之间的挡光层。18.根据权利要求13所述的光学指纹器件，其特征在于，还包括：位于所述挡光结构和第一晶圆之间的红外截止滤光膜。19.根据权利要求13所述的光学指纹器件，其特征在于，还包括：位于所述挡光结构表面及侧壁的减反射层。

技术总结
本发明提供一种光学指纹器件及其制造方法，该方法包括如下步骤：提供形成有若干图像传感器的第一晶圆；在第一晶圆上设置挡光结构；采用透光材料形成位于图像传感器感光单元上方的透光结构并在所述透光结构上形成微透镜；从而形成所述光学指纹器件。本发明通过采用透光材料形成位于图像传感器感光单元上方的透光结构，代替现有技术中的透光层，提高结构可靠性，改善入射光线的均匀性，提高像素单元接收光学信号的准确性，改善光学指纹器件的识别性能，由于采用机械切割或激光切割方式去除覆盖层，相比现有技术的刻蚀工艺，节省了工艺时间，提高了生产效率，增加了产能，降低了制造成本。造成本。造成本。


技术研发人员：夏欢 赵立新
受保护的技术使用者：格科微电子（上海）有限公司
技术研发日：2020.05.22
技术公布日：2021/11/25