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一种自动清洁设备的制作方法

2021-11-26 21:18:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种自动清洁设备,其特征在于,包括,移动平台(100),被配置为在操作面上自动移动;清洁模组(150),设置于所述移动平台(100)上,包括:干式清洁模组(151),被配置为采用干式清洁方式清洁所述操作面的至少一部分;湿式清洁模组(400),被配置为采用湿式清洁方式清洁所述操作面的至少一部分;其中,所述湿式清洁模组(400)包括:用于清洁所述操作面的清洁头(410),用于驱动所述清洁头(410)沿着目标面往复运动的驱动单元(420),所述目标面为所述操作面的一部分,以及,用于将清洁液体浸润所述清洁头(410)的出水装置(42214),所述出水装置位于所述清洁头(410)的投影位置上方。2.根据权利要求1所述的自动清洁设备,其特征在于,所述驱动单元(420)包括:驱动平台(421),连接于所述移动平台(100)底面,用于提供驱动力;支撑平台(422),可拆卸的连接于所述驱动平台(421),用于支撑所述清洁头(410)。3.根据权利要求2所述的自动清洁设备,其特征在于,所述支撑平台(422)包括:清洁基板(4221),可自由活动的设置于所述支撑平台(422),所述清洁基板(4221)包括所述出水装置(42214)。4.根据权利要求3所述的自动清洁设备,其特征在于,所述出水装置(42214)位于所述清洁基板(4221)的边缘。5.根据权利要求1所述的自动清洁设备,其特征在于,所述清洁头(410)包括活动区域(412)和固定区域(411),所述活动区域(412)能够相对于所述固定区域(411)大致往复运动。6.根据权利要求5所述的自动清洁设备,其特征在于,所述出水装置位于所述活动区域(412)的投影位置上方,以使得所述清洁液体直接浸润所述活动区域(412)。7.根据权利要求5所述的自动清洁设备,其特征在于,所述出水装置位于所述固定区域(411)的投影位置上方,以使得所述清洁液体直接浸润所述固定区域(411)。8.根据权利要求6或7所述的自动清洁设备,其特征在于,所述活动区域(412)和所述固定区域(411)通过柔性连接部(413)相连接。9.根据权利要求8所述的自动清洁设备,其特征在于,所述柔性连接部(413)形成位于所述活动区域(412)和所述固定区域(411)之间的凹槽。10.根据权利要求9所述的自动清洁设备,其特征在于,所述出水装置位于所述固定区域(411)的投影位置上方,以使得所述清洁液体直接流入所述柔性连接部(413),并经所述凹槽浸润所述活动区域(412)和/或所述固定区域(411)。

技术总结
本发明提供一种自动清洁设备,包括,移动平台,被配置为在操作面上自动移动;清洁模组,设置于移动平台上,包括:干式清洁模组,被配置为采用干式清洁方式清洁所述操作面的至少一部分;湿式清洁模组,被配置为采用湿式清洁方式清洁操作面的至少一部分;其中,湿式清洁模组包括:用于清洁所述操作面的清洁头,用于驱动所述清洁头沿着目标面往复运动的驱动单元,目标面为所述操作面的一部分,以及,用于将清洁液体浸润所述清洁头的出水装置,出水装置位于所述清洁头的投影位置上方。使得清洁液体从出水装置流出后直接浸润所述清洁头,然后再经过清洁头对地面进行清洁,避免了清洁液体直接流淌至地面导致的水流过多且拖地不均匀现象。流淌至地面导致的水流过多且拖地不均匀现象。流淌至地面导致的水流过多且拖地不均匀现象。


技术研发人员:成盼 胡荣新 谷二东
受保护的技术使用者:北京石头世纪科技股份有限公司
技术研发日:2021.02.10
技术公布日:2021/11/25
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本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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