用于吸附用于沉积工艺的掩模的基板支撑件的制作方法

技术特征：
1.一种基板支撑件，所述基板支撑件包括：基板接收表面；凹陷部分，所述凹陷部分围绕所述基板接收表面的周边设置；静电吸盘，所述静电吸盘设置在所述基板接收表面下方；和多个可压缩按钮，所述多个可压缩按钮设置在相应开口内，所述相应开口形成于与所述静电吸盘形成电路的所述凹陷部分中。2.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所述静电吸盘包括粘附到所述基板支撑件的主体的上表面的介电层。3.如权利要求2所述的基板支撑件，其中所述介电层包含陶瓷材料。4.如权利要求2所述的基板支撑件，其中电极嵌入在所述介电层中。5.如权利要求2所述的基板支撑件，其中所述介电层被压印以在所述基板接收表面上形成沟槽图案。6.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所述基板接收表面包括沟槽图案。7.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所述基板接收表面包括介电层。8.如权利要求7所述的基板支撑件，其中所述介电层延伸到所述基板接收表面之外。9.如权利要求7所述的基板支撑件，其中所述基板支撑件的主体包括侧壁，并且所述介电层覆盖所述侧壁的一部分。10.一种基板支撑件，所述基板支撑件包括：主体，所述主体包含导电材料；基板接收表面，所述基板接收表面包括粘附到所述主体的介电层，其中所述主体包括围绕所述基板接收表面的周边设置的凹陷部分；静电吸盘，所述静电吸盘设置在所述基板接收表面下方；和多个可压缩按钮，所述多个可压缩按钮设置在相应开口内，所述相应开口形成于与所述静电吸盘形成电路的所述凹陷部分中。11.如权利要求10所述的基板支撑件，其中所述可压缩按钮中的每个可压缩按钮由导电材料制成。12.如权利要求10所述的基板支撑件，其中所述可压缩按钮中的每个可压缩按钮由介电材料制成。13.如权利要求10所述的基板支撑件，其中所述介电层包括陶瓷材料。14.如权利要求13所述的基板支撑件，其中电极嵌入在所述介电层中。15.如权利要求13所述的基板支撑件，其中所述介电层被压印以在所述基板接收表面上形成沟槽图案。

技术总结
本公开内容的实施方式包括用于在沉积腔室中将掩模静电耦接到基板支撑件的方法和设备。在一个实施方式中，公开了一种基板支撑件，所述基板支撑件包括：基板接收表面；凹陷部分，所述凹陷部分围绕所述基板接收表面的周边设置；静电吸盘，所述静电吸盘设置在所述基板接收表面下方；和多个可压缩按钮，所述多个可压缩按钮设置在形成于与所述静电吸盘形成电路的所述凹陷部分中的相应开口内。的所述凹陷部分中的相应开口内。的所述凹陷部分中的相应开口内。


技术研发人员：陈志坚 桑杰伊
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2020.01.17
技术公布日：2021/11/25