一种均相臭氧氧化反应池的制作方法

1.本实用新型涉及臭氧氧化反应池技术领域，特别是涉及一种均相臭氧氧化反应池。


背景技术：

2.臭氧是人类已知的最强的氧化剂之一，作为污水处理的氧化剂，处理的主要目的是：1、去除水中有机物和一些无机污染物；2、提高污水的可生化性；3、脱除水的色度；4、杀菌消毒等。
3.现在水处理行业广为使用的臭氧氧化工艺，系利用臭氧的强氧化性对水中污染物进行氧化降解的技术，为了提高臭氧的氧化效率，大多采用了组合式高级氧化技术(如o3/h2o2等)或催化技术，这就是臭氧高级氧化或臭氧催化氧化工艺，在实际应用中，根据使用的催化剂的形态，可分为均相过程和非均相过程，均相臭氧催化氧化工艺采用的催化剂一般为过渡金属离子，非均相臭氧催化氧化工艺采用的催化剂是固态金属、金属氧化物或负载在载体上的金属或金属氧化物，但是现有的均相臭氧催化氧化工艺中存在传统臭氧氧化工艺臭氧传质效率低的缺陷、无法促使臭氧高效快速产生羟基自由基(
·
oh)的问题以及臭氧接触反应池出水中残余臭氧无法快速消解的问题，为此我们提出一种均相臭氧氧化反应池以解决上述问题。


技术实现要素：

4.本实用新型提供一种均相臭氧氧化反应池，以克服现有技术的不足。
5.为解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：一种均相臭氧氧化反应池，包括产水池，所述产水池一侧分别依次设有接触反应池配水区、后反应填料池、后反应池反洗进气阀和出水水封井，所述接触反应池配水区背向产水池的一侧设置有接触反应填料池，所述接触反应填料池背向接触反应池配水区的一侧设置有接触反应池清水区，所述接触反应池清水区背向接触反应填料池的一侧设置有接触反应池，后反应填料池位于接触反应池配水区右侧，后反应填料池背向产水池的一侧设置有第二后反应池，所述第二后反应池背向后反应填料池一侧设置有后反应池配水区，所述后反应池配水区背向第二后反应池的一侧设置有第一后反应池，接触反应池出水管的一端与接触反应池清水区相通，接触反应池出水管的另一端与位于后反应池配水区和第二后反应池之间设置的后反应池布水槽及反洗排水槽的一端相通。
6.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述接触反应池配水区通过管道连接有进水控制阀、反洗进水控制阀、接触反应池放空阀、臭氧进气控制阀及布气装置和反洗进气控制阀。
7.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述接触反应池配水区与接触反应填料池之间固定有接触反应池滤板，所述接触反应池滤板上等间距设置有多组接触反应池滤头，所述第二后反应池与后反应填料池之间固定有后反应池滤板，所述后反应池滤板上等间距
设置有多组后反应池滤头。
8.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述后反应池配水区与第二后反应池之间设置有后反应池布水槽及反洗排水槽，所述后反应池布水槽及反洗排水槽一端通过接触反应池出水管与接触反应池清水区相连通，所述后反应池布水槽及反洗排水槽另一端安装有后反应池反洗排水阀。
9.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述后反应填料池分别通过管道连接有后反应池反洗进气阀和后反应池反洗进水阀，所述后反应池反洗进水阀通过后反应池产水调节阀与出水水封井内下端相连通。
10.与现有技术相比，本实用新型能达到的有益效果是：
11.1、本实用新型结构紧凑合理，能使水、臭氧、催化剂或反应助剂在填料层充分混合、接触、传质、反应。
12.2、在进水中投加反应助剂或催化剂(包括但不限于h2o2、naoh、过渡金属离子催化剂等)，使进入填料区的臭氧短时间内产生大量的羟基自由基(
·
oh)，从而进一步提高反应效率。
13.3、后反应池主体采用滤池型结构，用于提供残余臭氧和羟基自由基(
·
oh)和水中残余污染物继续进行反应消解的场所，并利用臭氧的混凝效应在滤层中截留残余的污染物。
附图说明
14.图1为本实用新型的结构示意图；
15.其中：1、进水控制阀；2、反洗进水控制阀；3、接触反应池放空阀；4、臭氧进气控制阀及布气装置；5、反洗进气控制阀；6、接触反应池配水区；7、接触反应池滤头；8、接触反应池滤板；9、接触反应填料池；10、接触反应池出水管；11、第一后反应池；12、后反应池布水槽及反洗排水槽；13、第二后反应池；14、后反应填料池；15、后反应池滤头；16、后反应池滤板；17、后反应池反洗进气阀；18、后反应池产水调节阀；19、后反应池反洗进水阀；20、后反应池反洗排水阀；21、出水水封井；22、产水池；23、接触反应池清水区；24、后反应池配水区；25、接触反应池。
具体实施方式
16.为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例，进一步阐述本实用新型，但下述实施例仅仅为本实用新型的优选实施例，并非全部。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其它实施例，都属于本实用新型的保护范围。下述实施例中的实验方法，如无特殊说明，均为常规方法，下述实施例中所用的材料、装置、元件、试剂等，如无特殊说明，均可从商业途径得到。
17.实施例：
18.如图1所示，一种均相臭氧氧化反应池，包括产水池22，所述产水池22一侧分别依次设有接触反应池配水区6、后反应填料池14、后反应池反洗进气阀17和出水水封井21。所述接触反应池配水区6背向产水池22的一侧设置有接触反应填料池9，所述接触反应填料池
背向接触反应池配水区6的一侧设置有接触反应池清水区23，所述接触反应池清水区23背向接触反应填料池9的一侧设置有接触反应池25，后反应填料池14位于接触反应池配水区6右侧，后反应填料池14背向产水池22的一侧设置有第二后反应池13，所述第二后反应池13背向后反应填料池14一侧设置有后反应池配水区24，所述后反应池配水区24背向第二后反应池13的一侧设置有第一后反应池11，接触反应池出水管10的一端与接触反应池清水区23相通，接触反应池出水管10的另一端与位于后反应池配水区24和第二后反应池之间设置的后反应池布水槽及反洗排水槽12的一端相通。
19.所述接触反应池配水区6通过管道连接有进水控制阀1、反洗进水控制阀2、接触反应池放空阀3、臭氧进气控制阀及布气装置4和反洗进气控制阀5。
20.所述接触反应池配水区6与接触反应填料池9之间固定有接触反应池滤板8，所述接触反应池滤板8上等间距设置有多组接触反应池滤头7，所述第二后反应池13与后反应填料池14之间固定有后反应池滤板16，所述后反应池滤板16上等间距设置有多组后反应池滤头15。
21.所述后反应池配水区24与第二后反应池13之间设置有后反应池布水槽及反洗排水槽12，所述后反应池布水槽及反洗排水槽12一端通过接触反应池出水管10与接触反应池清水区23相连通，所述后反应池布水槽及反洗排水槽另一端安装有后反应池反洗排水阀20。
22.所述后反应填料池14分别通过管道连接有后反应池反洗进气阀17和后反应池反洗进水阀19，所述后反应池反洗进水阀19通过后反应池产水调节阀18与出水水封井21内下端相连通。
23.工作原理：污水(投加反应助剂或催化剂等)首先经过进水控制阀1进入接触反应池配水区6，同时富含臭氧的气体经臭氧进气控制阀及布气装置4进入接触反应池配水区6中进行全池均衡分配，在这里进行初步混合接触，然后共同通过安装在接触反应池滤板8上的接触反应池滤头7进入接触反应填料池9，在这里进行深度混合、接触、传质、反应，污水经过填料区后进入接触反应池清水区23，再经接触反应池出水管10、后反应池布水槽及反洗排水槽12进入后反应池配水区24、第二后反应池13和第一后反应池11，在这里消耗掉水中残余的臭氧和羟基自由基，使cod进一步降低，经安装在后反应池滤板16的后反应池滤头15进入后反应填料池14，经后反应池产水调节阀18进入出水水封井21。
24.由于污水中难免存在悬浮物质，当工作一段时间后，需要对接触反应填料池9进行反洗，反洗开始时，先关闭进水控制阀1和臭氧进气控制阀及布气装置4；然后开启接触反应池放空阀3将水位降到接触反应填料池9以下一定距离，然后关闭接触反应池放空阀3，开启反洗进气控制阀5，对接触反应填料池9进行气洗，气洗一段时间后开启反洗进水控制阀2和后反应池反洗排水阀20，对接触反应填料池9进行气
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水联合反洗，联合反洗一段时间后，关闭反洗进气控制阀5，对接触反应填料池9进行一段时间的单独水洗，气
‑
水联合反洗和单独水洗时，反洗废水经接触反应池出水管10进入第二后反应池13的后反应池布水槽及反洗排水槽12，通过后反应池反洗排水阀20排至外部反洗废水池。反洗过程结束，同时关闭反洗进水控制阀2和后反应池反洗排水阀20后，打开进水控制阀1和臭氧进气控制阀及布气装置4，新的处理循环再次开始。
25.当后反应填料池14工作一段时间需要进行反冲洗时，首先关闭后反应池产水调节
阀18、进水控制阀1和臭氧进气控制阀及布气装置4；然后开启后反应池产水调节阀18将池内水位降低到一定程度，再开启后反应池反洗进气阀17，开始对后反应填料池14进行气洗，经过一段时间后，开启后反应池反洗进水阀19，开始对后反应填料池14进行气
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水反洗，经过一段时间后，关闭后反应池反洗进气阀17，同时打开后反应池反洗排水阀20。对后反应填料池14进行单独水洗，经过一段时间后关闭后反应池反洗进水阀19和后反应池反洗排水阀20，反洗过程结束。开启后反应池产水调节阀18，后反应池重新开始工作。
26.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
27.以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本实用新型的优选例，并不用来限制本实用新型，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。