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一种沉铜背光切片制备方法及检测方法与流程

2021-11-24 21:55:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种沉铜背光切片制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1,钻孔,在生产板(1)的板边缘处钻取4

8个观察孔(22),且观察孔(22)圆心位于同一轴线上;步骤2,沉铜,将步骤1中的生产板(1)固定在挂具或者挂篮上,并进行化学铜沉积处理;步骤3,背光切片(2)制取,在步骤2所得的生产板(1)上裁取观察孔(22)所在的区域,并获得背光切片(2);步骤4,研磨切片,对步骤3中所得的背光切片(2)进行研磨。2.根据权利要求1所述的沉铜背光切片制备方法,其特征在于,观察孔(22)的孔径尺寸为0.4mm

1.1mm。3.根据权利要求1所述的沉铜背光切片制备方法,其特征在于,相邻两个观察孔(22)孔边缘之间的间距为1mm。4.根据权利要求1所述的沉铜背光切片制备方法,其特征在于,背光切片(2)的尺寸为10mm
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12mm。5.根据权利要求1所述的沉铜背光切片制备方法,其特征在于,步骤4中,背光切片(2)的研磨步骤包括:步骤4.1,对背光切片(2)进行夹持固定;步骤4.2,提供一砂纸,并使砂纸的磨面与背光切片(2)的上侧接触;步骤4.3,通过往复运动的砂纸对背光切片(2)的上侧进行研磨;步骤4.4,当背光切片(2)的一侧研磨完成后,对背光切片(2)进行翻转,以使背光切片(2)的下侧朝上,并使背光切片(2)的下侧与砂纸的磨面接触;步骤4.5,通过往复运动的砂纸对背光切片(2)的下侧进行研磨。6.根据权利要求5所述的沉铜背光切片制备方法,其特征在于,在研磨时,先用200目砂纸先对背光切片(2)进行研磨,当背光切片(2)的研磨深度接近于预定研磨深度时,使用2000目砂纸对背光切片(2)继续研磨,直至背光切片(2)的研磨深度等于预定研磨深度为止。7.根据权利要求6所述的沉铜背光切片制备方法,其特征在于:研磨时,背光切片(2)的第一长边(20)的预定研磨深度为观察孔(22)的二分之一;背光切片(2)的第二长边(21)的预定研磨深度为距离观察孔(22)边缘的2mm

2.5mm。8.一种沉铜背光切片检测方法,其特征在于,对如权利要求1

7中任意一项所述的沉铜背光切片制备方法制备所得的背光切片(2)进行背光检测,并与标准背光图比较,得到生产板(1)的背光等级;背光检测步骤为,将背光切片(2)半孔朝上的放置在载物台上,并在背光切片(2)的第一长边(20)和第二长边(21)上各覆盖一个毛玻璃片(3),并通过夹子对背光切片(2)和毛玻璃片(3)之间进行固定,固定完成后通过显微镜进行背光检测。

技术总结
一种沉铜背光切片制备方法及检测方法,涉及印制板检测检测领域,其制备方法包括如下步骤:步骤1,钻孔,在生产板的板边缘处钻取4


技术研发人员:李清华 邓岚 胡志强 张仁军 杨海军 牟玉贵
受保护的技术使用者:四川英创力电子科技股份有限公司
技术研发日:2021.10.27
技术公布日:2021/11/23
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本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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