一种硅片用湿法腐蚀装置的制作方法

1.本实用新型涉及硅片加工设备技术领域，特别是涉及一种硅片用湿法腐蚀装置。


背景技术：

2.硅片腐蚀是利用氢氧化钠对多晶硅腐蚀作用，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用氢氧化钠对硅腐蚀的各向异性，争取反射率较低的表面织构。
3.药液循环可以保持硅片腐蚀速率度稳定，由于硅片在腐蚀槽内是垂直放置，处于不同深度的表面腐蚀速率会略有差异。硅片旋转可以提高硅片表面的腐蚀均匀性，即硅片表面不同位置在单位时间内的腐蚀量一致性更好。
4.现有技术中，带动硅片在腐蚀槽内旋转的转轴截面为腰圆形，由于6英寸硅片有平边，当平边与转轴接触后，转轴的平面和弧面都不能有效带动硅片转动，出现打滑现象。由于转轴转动时与硅片会出现打滑现象，导致硅片表面腐蚀均匀性变差。


技术实现要素：

5.本实用新型所要解决的技术问题是：为了克服现有技术中截面为腰圆形的转轴与带有平边的硅片接触时，转轴的平面和弧面都不能有效带动硅片转动，出现打滑现象的不足，本实用新型提供一种硅片用湿法腐蚀装置。
6.本实用新型解决其技术问题所要采用的技术方案是：一种硅片用湿法腐蚀装置，所述硅片由优弧段和直线段组成，所述装置包括支架和壳体，所述壳体内设有腐蚀药液，所述壳体上设有腐蚀药液循环组件，所述支架浸没于腐蚀药液内，所述支架内沿长度方向间隔设有若干与硅片配合的插槽，所述硅片竖直设于所述插槽内，所述支架下方设有用于带动硅片在限位槽内转动的转轴，所述转轴截面为腰圆形，所述转轴两弧面上均设有与硅片上的角配合的凹槽，所述凹槽设于所述转轴上弧面和平面的交界处，两所述凹槽沿所述转轴轴线中心对称。
7.硅片竖直设于支架上的插槽内，支架浸没在腐蚀药液内，腐蚀药液循环组件对腐蚀药液进行循环，使硅片腐蚀速率稳定，转轴用于带动硅片在插槽内转动，转轴转动时，凹槽与硅片平边两侧的角重合后可以增加转轴对硅片的摩擦力，从而带动硅片继续转动，转轴带动硅片转动时，硅片先接触凹槽，再接触弧面。
8.进一步，为了防止转轴与硅片出现打滑现象，所述凹槽沿弧面中心线向内凹陷。确保硅片与凹槽接触的宽度足够。
9.进一步，为了防止转轴与硅片出现打滑现象，所述凹槽槽深为4
‑
6mm。确保硅片与凹槽接触的深度足够。
10.进一步，所述转轴采用聚丙烯一体加工而成。聚丙烯(polypropylene，简称pp)是一种半结晶的热塑性塑料。具有较高的耐冲击性，机械性质强韧，抗多种有机溶剂和酸碱腐蚀。
11.进一步，为了使硅片腐蚀速率稳定，所述腐蚀药液循环组件包括循环泵，所述壳体
上竖直设有环形挡板，所述环形挡板与壳体侧壁配合形成回流槽，所述环形挡板高度低于壳体高度，所述转轴一端与所述环形挡板侧壁转动连接，所述转轴另一端穿过所述环形挡板侧壁与驱动机构传动连接，所述壳体底部中间位置设有进水口，所述回流槽底部设出水口，所述循环泵输出端与所述进水口连通，所述循环泵输入端与所述出水口连通。
12.支架、硅片以及环形挡板全部浸没在腐蚀药液内，循环泵启动，从进水口向壳体内压入腐蚀药液，腐蚀药液从进水口进入硅片之间，对硅片表面进行腐蚀，再从硅片上方进入回流槽内，最后从出水口进入循环泵，进行腐蚀药液循环。
13.进一步，为了带动转轴转动，从而带动硅片在插槽内旋转，所述驱动机构包括电机和减速机，所述减速机输出端通过同步带与所述转轴传动连接。
14.本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的一种硅片用湿法腐蚀装置，采用转轴上设置与硅片角配合的凹槽，当硅片平边与转轴接触后，转轴上的凹槽转动时会与硅片上的角配合，可以增加转轴对硅片的摩擦力，从而带动硅片继续转动，改造简单，改造成本低，可以有效解决6英寸硅片在湿法槽转动时的打滑现象，保证腐蚀均匀性。
附图说明
15.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
16.图1是本实用新型最佳实施例的结构示意图；
17.图2是支架与转轴配合的结构示意图；
18.图3是转轴的结构示意图；
19.图4是硅片的结构示意图。
20.图中：1、硅片，101、优弧段，102、直线段，103、角，2、壳体，201、进水口，202、出水口，3、支架，301、插槽，4、转轴，401、凹槽，5、循环泵，6、环形挡板，7、回流槽，8、电机，9、减速机，10、同步带。
具体实施方式
21.现在结合附图对本实用新型作详细的说明。此图为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
22.如图1
‑
4所示，本实用新型的一种硅片用湿法腐蚀装置，所述硅片1由优弧段101和直线段102组成，所述装置包括支架3和壳体2，所述壳体2内设有腐蚀药液，所述壳体2上设有腐蚀药液循环组件，所述支架3浸没于腐蚀药液内，所述支架3内沿长度方向间隔设有若干与硅片1配合的插槽301，所述硅片1竖直设于所述插槽301内，所述支架3下方设有用于带动硅片1在限位槽内转动的转轴4，所述转轴4截面为腰圆形，所述转轴4两弧面上均设有与硅片1上的角103配合的凹槽401，所述凹槽401设于所述转轴4上弧面和平面的交界处，两所述凹槽401沿所述转轴4轴线中心对称。所述凹槽401沿弧面中心线向内凹陷。所述凹槽401槽深为5mm。所述转轴4采用聚丙烯一体加工而成。
23.所述腐蚀药液循环组件包括循环泵5，所述壳体2上竖直设有环形挡板6，所述环形挡板6与壳体2侧壁配合形成回流槽7，所述环形挡板6高度低于壳体2高度，所述转轴4一端与所述环形挡板6侧壁转动连接，所述转轴4另一端穿过所述环形挡板6侧壁与驱动机构传动连接，所述壳体2底部中间位置设有进水口201，所述回流槽7底部设出水口202，所述循环
泵5输出端与所述进水口201连通，所述循环泵5输入端与所述出水口202连通。
24.所述驱动机构包括电机8和减速机9，所述减速机9输出端通过同步带10与所述转轴4传动连接。
25.工作过程：
26.将壳体2内放满腐蚀药液，支架3以及环形挡板6全部浸没在腐蚀药液内，将多个硅片1插进插槽301内，循环泵5启动，从进水口201向壳体2内压入腐蚀药液，腐蚀药液从进水口201进入硅片1之间，对硅片1表面进行腐蚀，再从硅片1上方进入回流槽7内，最后从出水口202进入循环泵5，进行腐蚀药液循环。
27.启动电机8减速机9，通过同步带10带动转轴4转动，转轴4转动时带动与其接触的硅片1旋转，当平边与转轴4接触后，转轴4的平面和弧面都不能有效带动硅片1转动，出现打滑现象，此时转轴4上的凹槽401转动时会与硅片1上的角103配合，可以增加转轴4对硅片1的摩擦力，从而带动硅片1继续转动。
28.本实用新型中方向和参照(例如，上、下、左、右、等等)可以仅用于帮助对附图中的特征的描述。因此，并非在限制性意义上采用以下具体实施方式，并且仅仅由所附权利要求及其等同形式来限定所请求保护的主题的范围。
29.以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关的工作人员完全可以在不偏离本实用新型的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。