一种双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料及其制备方法和应用与流程

技术特征：
1.一种双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料，其特征在于，包括二硫化钼纳米片，在所述二硫化钼纳米片上掺杂修饰有双原子硼。2.根据权利要求1所述的双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料，其特征在于，所述二硫化钼纳米片的制备包括以下步骤：在无氧惰性气氛环境中，通过正丁基锂/正己烷混合溶液加热处理二硫化钼材料，经超声辅助化学剥离、水洗处理得到单层或少层的二硫化钼纳米片。3.根据权利要求2所述的双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料，其特征在于，所述二硫化钼材料来源包括：粒径为微米的块体或通过化学方法、物理方法合成的纳米级二硫化钼。4.根据权利要求1
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3任一项所述的双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料，其特征在于，所述双原子硼掺杂修饰在所述二硫化钼纳米片的步骤包括：将二硫化钼纳米片分散到有机溶剂中，再加入联硼化合物，在惰性气体保护下，温度80～100℃加热反应5～15h，二硫化钼与联硼化合物分子进行反应，脱除联硼化合物的有机成分，同时双原子硼保留修饰在二硫化钼上，通过清洗干燥得到目标产物。5.一种双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将二硫化钼纳米片分散到有机溶剂中，再加入联硼化合物，在惰性气体保护下，温度80～100℃加热反应5～15h，二硫化钼纳米片与联硼化合物分子进行反应，脱除联硼化合物的有机成分，同时双原子硼保留修饰在二硫化钼上，通过清洗干燥得到目标产物。6.根据权利要求5所述的双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料的制备方法，其特征在于，所述二硫化钼纳米片的制备包括以下步骤：在无氧惰性气氛环境中，通过正丁基锂/正己烷混合溶液加热处理二硫化钼材料，经超声辅助化学剥离、水洗处理得到单层或少层的二硫化钼纳米片。7.根据权利要求6所述的双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料的制备方法，其特征在于，所述二硫化钼材料来源包括：粒径为微米的块体或通过化学方法、物理方法合成的纳米级二硫化钼。8.根据权利要求5所述的双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料的制备方法，其特征在于，所述联硼化合物包括：c
12
h
24
b2o4、c
10
h
20
b2o4、c
12
h8b2o4、b2(oh)4和c8h
24
b2n4中的一种或多种。9.根据权利要求5所述的双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料的制备方法，其特征在于，所述联硼化合物和二硫化钼纳米片的加入质量比为0.001
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0.5。10.权利要求1
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4任一项所述的双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料以及权利要求5
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9任一项所述双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料的制备方法制得的双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料作为催化剂的应用。

技术总结
本发明公开了一种双原子硼修饰的二硫化钼纳米材料及其制备方法和应用，属于半导体二硫化钼纳米材料的掺杂领域。本发明提供了在MoS2上以原子结构精确的方法修饰B


技术研发人员：曹洋
受保护的技术使用者：曹洋
技术研发日：2021.08.19
技术公布日：2021/11/5