一种提高铜片氧化层均匀性的氧化炉的制作方法

技术特征：
1.一种提高铜片氧化层均匀性的氧化炉，其特征在于，包括：炉体，包括分别设置在炉体两端的进料口和出料口，进料口和出料口处设置有密封气帘；传送带，用于输送铜片，由进料口到出料口贯穿炉体；多个热电偶，正对传送带安装在炉体内，且沿传送带输送方向依次排布；供氧管道；多个弥散气盒，沿传送带输送方向在炉体内排布，分别与供氧管道连通且在连通处设置有用于控制炉体内气体浓度、流速、流向的气阀；多个测温热电偶和测氧仪，设置在弥散气盒靠近传送带的一侧。2.根据权利要求1所述提高铜片氧化层均匀性的氧化炉，其特征在于：各热电偶的上、下各设置有一个所述的弥散气盒，使多个弥散气盒分别在传送带上方和下方沿传送带输送方向排布。3.根据权利要求1所述提高铜片氧化层均匀性的氧化炉，其特征在于：包括设置在传送带出料端的冷却箱。4.根据权利要求1所述提高铜片氧化层均匀性的氧化炉，其特征在于：包括设置在传送带进料端的排气管，所述排气管的管口对准炉体的进料口。5.根据权利要求1所述提高铜片氧化层均匀性的氧化炉，其特征在于：沿进料口到出料口的方向，依次在炉体内设置多个温区且温度依次升高；通过测温热电偶和测氧仪分别测量各温区内的温度和氧气含量，并控制弥散气盒释放气体速度、热电偶的功率，使各温区具有均匀温度场。

技术总结
本发明陶瓷覆铜板技术领域，公开了一种提高铜片氧化层均匀性的氧化炉，包括：炉体，包括分别设置在炉体两端的进料口和出料口，进料口和出料口处设置有密封气帘；传送带，用于输送铜片，由进料口到出料口贯穿炉体；多个热电偶，正对传送带安装在炉体内，且沿传送带输送方向依次排布；供氧管道；多个弥散气盒，沿传送带输送方向在炉体内排布，分别与供氧管道连通且在连通处设置有用于控制炉体内气体浓度、流速、流向的气阀；测温热电偶和测氧仪，设置在弥散气盒靠近传送带的一侧；保证了铜片氧化环境的稳定，使铜片表面氧化膜厚度均一。使铜片表面氧化膜厚度均一。使铜片表面氧化膜厚度均一。


技术研发人员：许海仙 张振文 张洋 史常东
受保护的技术使用者：合肥圣达电子科技实业有限公司
技术研发日：2021.07.30
技术公布日：2021/11/4