一种喷嘴结构及光刻胶处理罐的制作方法

本申请涉及半导体制造设备，具体而言涉及一种喷嘴结构及光刻胶处理罐。

背景技术：

1、目前，用于喷出光刻胶及稀释剂的喷嘴结构中通常只有一种喷口，通过该喷口自光刻胶处理罐的罐体的顶部向罐体内先后注入光刻胶和稀释剂，依赖重力或者自然扩散稀释光刻胶。但是高粘度光刻胶容易沉淀而导致分层，致使稀释剂难以对其充分稀释，需要人工介入处理，影响生产效率。

2、因此需要进行改进，以至少部分地解决上述问题。

技术实现思路

1、在 技术实现要素： 部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本实用新型的实用新型内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。

2、为了至少部分地解决上述问题，根据本实用新型的第一方面，提供了一种喷嘴结构，其包括：

3、输液管；

4、喷液部，所述喷液部包括底壁、顶壁以及连接于底壁和顶壁之间的周向侧壁，所述底壁、所述顶壁和所述周向侧壁之间形成容纳空间，所述周向侧壁上设置有光刻胶喷口和稀释剂喷口，所述输液管连接于所述顶壁且与所述容纳空间连通；

5、阻挡部，可转动地套设于所述输液管和所述喷液部外侧，用于在转动至第一位置时，封闭所述稀释剂喷口，打开所述光刻胶喷口，且用于在转动至第二位置时，打开所述稀释剂喷口，封闭所述光刻胶喷口。

6、示例性的，所述光刻胶喷口包括单个的方形开口；

7、所述稀释剂喷口包括阵列排布的多个圆形开口。

8、示例性的，所述光刻胶喷口和所述稀释剂喷口均有两个；

9、两个所述光刻胶喷口间隔设置于所述周向侧壁上，且位于所述周向侧壁相对的两侧；

10、两个所述稀释剂喷口位于所述周向侧壁相对的两侧，且分别位于两个所述光刻胶喷口之间。

11、示例性的，所述周向侧壁为圆周侧壁；或，

12、所述周向侧壁包括依次连接的第一侧壁、第二侧壁、第三侧壁和第四侧壁，所述第一侧壁平行于所述第三侧壁，且垂直于所述第二侧壁，所述第二侧壁平行于所述第四侧壁。

13、示例性的，所述底壁呈圆锥状或四棱锥状。

14、示例性的，所述阻挡部上设置有转动把手。

15、根据本实用新型的第二方面，提供了一种光刻胶处理罐，其包括罐体和如上所述的喷嘴结构；

16、其中，所述喷液部位于所述罐体中，且邻近所述罐体的底部，所述输液管和所述阻挡部均部分地位于所述罐体中。

17、示例性的，所述罐体外侧设置有加热器。

18、示例性的，所述罐体外侧设置有超声换能器。

19、示例性的，所述喷液部与所述罐体底部的距离小于罐体高度的一半。

20、根据本实用新型的喷嘴结构及光刻胶处理罐，可以通过光刻胶喷口和稀释剂喷口分别喷出光刻胶及稀释剂，使两者能够更好地注入，且由于阻挡部可转动地套设于输液管和喷液部外侧，因此可以转动阻挡部以对光刻胶及稀释剂进行搅拌，加速光刻胶与稀释剂的混合，提升光刻胶的稀释效果，避免光刻胶出现分层现象，显著减少人工介入处理，提升生产效率。

1.一种喷嘴结构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的喷嘴结构，其特征在于，

3.根据权利要求1或2所述喷嘴结构，其特征在于，

4.根据权利要求3所述喷嘴结构，其特征在于，

5.根据权利要求4所述喷嘴结构，其特征在于，

6.根据权利要求1所述喷嘴结构，其特征在于，

7.一种光刻胶处理罐，其特征在于，包括罐体和如权利要求1-6中任一项所述的喷嘴结构；

8.根据权利要求7所述光刻胶处理罐，其特征在于，

9.根据权利要求7所述光刻胶处理罐，其特征在于，

10.根据权利要求7所述光刻胶处理罐，其特征在于，