溶液制备装置的制作方法

本发明的技术涉及一种溶液制备装置。

背景技术：

1、通过溶剂供给通道及粉体供给通道将溶剂及粉体连续地供给到混合容器中，并且通过在混合容器中混合溶剂和粉体来制备设定浓度的溶液的溶液制备装置已普及。溶剂例如为纯水之类的纯化水，粉体例如为粉体培养基，溶液例如为培养基（培养液）。

2、在溶液制备装置中，产生以下各种问题：粉体附着于粉体供给通道的内壁面，导致粉体供给通道变窄或最坏的情况下发生阻塞，或者凝固而成为块的粉体意外地落入到混合容器中，从而引起浓度控制不良。这样的问题会因粉体吸收从混合容器蒸发的水分而变得更加严重。因此，在日本特开昭62-160129号公报、日本特开2001-025650号公报及日本特开2007-152343号公报中记载有通过向粉体供给通道的径向的中央部供给气体来抑制水分从混合容器侵入的技术。

技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、日本特开昭62-160129号公报、日本特开2001-025650号公报及日本特开2007-152343号公报中记载的技术虽然能够抑制水分从混合容器向粉体供给通道的侵入，但由于粉体被在粉体供给通道的中央部流动的气体吹送到内壁面，因此对抑制粉体附着于粉体供给通道的内壁面的效果不大。尤其，在如粉体培养基那样附着性高且流动性低的粉体的情况下，粉体更容易附着于粉体供给通道的内壁面，因此期望根本的解决方案。

3、本发明的技术所涉及的一个实施方式提供一种能够抑制粉体附着于粉体供给通道的内壁面的溶液制备装置。

4、用于解决课题的手段

5、本发明的溶液制备装置通过溶剂供给通道及粉体供给通道将溶剂及粉体连续地供给到混合容器中，并且通过在混合容器中混合溶剂和粉体来制备设定浓度的溶液，所述溶液制备装置具备：气体供给机构，向粉体供给通道供给气体，并且产生沿着粉体供给通道的内壁面的气体的流动。

6、优选气体供给机构包括：气体供给通道，具有与粉体供给通道的入口对置的气体的流出口；及整流部件，配置于入口与流出口之间，并且将从流出口流出的气体的流动整流为沿着粉体供给通道的内壁面的流动。

7、优选整流部件为板状部件，所述板状部件沿着入口的形状形成有供从流出口流出的气体通过的第一孔。

8、优选第一孔为环状狭缝。

9、优选第一孔为多个圆孔。

10、优选在板状部件中，在与入口的中央部对置的位置也形成有供气体通过的第二孔。

11、优选整流部件包括：板状部件，在与入口的中央部对置的位置形成有供气体通过的孔；及盖部件，在封闭孔的封闭位置与开放孔的开放位置之间移动。

12、优选盖部件与将储存于料斗中的粉体导入到粉体供给通道中的给料器的动作联动地在封闭位置与开放位置之间移动。

13、优选气体供给机构包括具有与粉体供给通道的入口对置的气体的流出口的气体供给通道，气体供给通道配置于从流出口流出的气体的流动成为沿着粉体供给通道的内壁面的流动的位置。

14、优选在混合容器中设置有气体的排气口。

15、优选为溶剂为纯化水，粉体为粉体培养基，溶液为培养基。

16、优选培养基从混合容器连续地供给到培养槽。

17、发明效果

18、根据本发明的技术，能够提供一种能够抑制粉体附着于粉体供给通道的内壁面的溶液制备装置。

1.一种溶液制备装置，其通过溶剂供给通道及粉体供给通道将溶剂及粉体连续地供给到混合容器中，并且通过在混合容器中混合所述溶剂和所述粉体来制备设定浓度的溶液，其中，

2.根据权利要求1所述的溶液制备装置，其中，

3.根据权利要求2所述的溶液制备装置，其中，

4.根据权利要求3所述的溶液制备装置，其中，

5.根据权利要求3所述的溶液制备装置，其中，

6.根据权利要求3所述的溶液制备装置，其中，

7.根据权利要求2所述的溶液制备装置，其中，

8.根据权利要求7所述的溶液制备装置，其中，

9.根据权利要求1所述的溶液制备装置，其中，

10.根据权利要求1所述的溶液制备装置，其中，

11.根据权利要求1所述的溶液制备装置，其中，

12.根据权利要求11所述的溶液制备装置，其中，