辊单元及具备辊单元的真空处理装置的制作方法

本发明涉及一种配置在从送出轴送出片状基材、直到用卷绕轴卷绕所送出的片状基材为止的基材输送路径上的辊单元及在真空室内具备该辊单元的真空处理装置。

背景技术：

1、作为这种真空处理装置，例如在专利文献1中已知有在树脂材质膜等片状基材表面上通过真空蒸镀法连续形成金属膜等的真空蒸镀装置。在该装置中，在位于真空室内的基材输送路径上配置卷绕片状基材的辊筒，并且与之相对地设置有蒸镀源。在这样的真空处理装置中，在成膜过程中，例如防附着板等的附着堆积的蒸镀材料由于某种原因而飞散，形成尺寸为几十μm～几百μm左右的颗粒而漂浮在真空室内。这种颗粒有时会附着在输送过程中的片状基材表面上。在附着有颗粒的状态下用卷绕轴卷绕成膜完毕的片状基材时，在片状基材的表面上会形成凹凸，有时会在片状基材上产生褶皱，造成产品成品率恶化。

2、作为上述情况的解决方案，会在基材输送路径的位于成膜位置和卷绕轴之间的部分上配置与片状基材表面接触的粘合辊。作为粘合辊，除了由电动机直接旋转驱动的方式以外，还有无动力地自走旋转的方式。在这种情况下，通常构成为夹持并送出片状基材的一对递送辊，至少将一侧的递送辊作为粘合辊。然后，使粘合力比粘合辊更强的粘合片（粘合体）与粘合辊接触，随着粘合辊的旋转使粘合片移动。由此，在移送过程中使附着在片状基材的成膜完毕的面上的颗粒向粘合辊转移，进而使其向粘合片转移，从而防止颗粒再附着到片状基材上（例如，参照专利文献2）。

3、但是，近年来，作为真空处理的对象的片状基材，一直利用的是壁较薄（厚度几μm）且宽度宽的产品。因此，当在一对递送辊之间夹持片状基材时，如果一侧的递送辊对片状基材施加的按压力强，则在片状基材上会产生导致产品不合格的褶皱。另一方面，如果按压力弱，则不能使片状基材表面的颗粒有效地向粘合辊转移。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、【专利文献1】日本专利第3795518号公报

7、【专利文献2】日本专利公开平10-74319号公报

技术实现思路

1、发明要解决的技术问题

2、鉴于以上情况，本发明的技术问题在于提供一种辊单元及具备辊单元的真空处理装置，该辊单元能够不损害去除附着在片状基材表面上的颗粒的功能而尽量抑制因过度按压片状基材而产生褶皱。

3、解决技术问题的手段

4、为了解决上述技术问题，本发明的配置在从送出轴送出片状基材、直到用卷绕轴卷绕所送出的片状基材为止的基材输送路径上的辊单元，具备夹持并送出片状基材的一对递送辊，使附着在片状基材的一侧表面上的颗粒向一侧的递送辊的外表面转移，其特征在于，通过一侧的递送辊相对于另一侧的递送辊的相对位置的变化，自由调整一侧的递送辊向片状基材施加的按压力。在这种情况下，优选采用如下结构：具备分别轴支撑一侧的递送辊的旋转轴两端的支撑部和分别与两个支撑部连结并使一侧的递送辊相对于另一侧的递送辊在接近远离方向上移动的致动器，设置在通过致动器使一侧的递送辊在接近方向上移动时限制其移动的移动限制部，使移动被限制之前的一侧的递送辊的移动量变化，从而调整施加在片状基材上的按压力。再有，可以采用如下结构：在一侧的递送辊的与片状基材接触的面上具有第1粘合层，并具备粘合体，其具有粘合力比第1粘合层强的第2粘合层，并随着一侧的递送辊的旋转而移动。第2发明的真空处理装置的特征在于，具有：上述辊单元；配置在所述基材输送路径上并卷绕所述片状基材的辊筒；以及对卷绕在辊筒上的基材部分的外表面实施规定的真空处理的处理单元。

5、如上所述，在利用处理单元对卷绕在辊筒上的片状基材的外表面（处理面）实施规定的真空处理后，在将片状基材向卷绕轴输送之前，将处理完毕的片状基材向一对递送辊引导。而且，当在一对递送辊之间夹持并送出片状基材时，通过使一侧的递送辊在连续送出的片状基材的处理面上滚动，例如，使附着在该处理面上的颗粒向形成在一侧的递送辊上的第1粘合层转移，从而能够使转移到了第1粘合层上的颗粒进一步转移到粘合力更强的第2粘合层。此时，能够使一侧的递送辊相对于另一侧的递送辊在接近远离的方向上移动，除此之外，通过移动限制部自由调整了一侧的递送辊向接近方向的移动量，从而能够实现一侧的递送辊总是向片状基材施加适当调整后的恒定的按压力的结构（另外，如果由止动螺栓构成移动限制部的话，则能够简化装置结构）。从而，能够不损害去除附着在片状基材表面上的颗粒的功能而尽量抑制由于过度按压片状基材而产生褶皱。

1.一种配置在从送出轴送出片状基材、直到用卷绕轴卷绕所送出的片状基材为止的基材输送路径上的辊单元；

2.根据权利要求1所述的辊单元，其特征在于：

3.根据权利要求2所述的辊单元，其特征在于：

4.一种真空处理装置，其特征在于，具备：