一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法与流程

本发明涉及耐高温氟塑离型膜材料，特别涉及一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法。

背景技术：

1、氟塑离型膜凭借无硅污染、低表面能、耐高温、高洁净的特性，广泛应用于各类高端精密电子与光学高温制程。目前市面上常规超薄耐高温氟塑离型膜仍存在小分子迁移控制差、高温稳定性不足的核心短板，无法满足超高洁净、长周期、高温严苛工况的生产需求，具体缺陷如下：

2、1、传统氟塑离型膜配方含有大量未反应游离单体、低分子氟化物与残留助剂，固化反应不彻底，在高温热压、长时间烘烤工况下，小分子极易析出迁移，在胶面、光学面板、精密电路表面形成雾点、油污、针孔缺陷，造成高端产品批量污染报废。

3、2、常规超薄氟塑膜涂层交联密度低、热稳定组分缺失，在180℃以上高温持续工况下，膜体易出现收缩、翘曲、涂层软化、力学性能衰减，导致离型力漂移、局部粘胶、脱模不畅，严重影响精密压合产品的平整度与良率。

4、3、氟塑材料本身表面张力极低，与pet基材界面附着力差，传统工艺无专用锚固阻隔结构，高温反复剥离、热压后，氟素涂层容易起皮、粉化、脱落，产生微小颗粒杂质，破坏制程高洁净度。

5、4、传统涂布工艺精度有限，超薄氟塑涂层极易出现薄区漏涂、厚区堆积、固化不均问题，整卷膜材离型力偏差大，存在局部难剥离、局部残胶缺陷，批次量产稳定性差。

6、5、现有产品仅依靠简单固化锁固分子，无小分子锁定助剂与界面阻隔结构，长期常温存储、高低温循环过程中，内部残余小分子持续缓慢迁移，导致后期离型性能衰减、洁净度下降，无法适配长周期库存与标准化量产。

7、6、传统厚膜耐高温性能好但柔韧性差、无法适配超薄柔性制程；超薄膜体柔韧度达标但耐热、抗迁移性能大幅下降，难以同时满足超薄贴合、高温压合、高洁净防迁移的多重严苛需求。

8、因此，需要设计一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法用于解决上述问题。

技术实现思路

1、本发明的目的是提供一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法，以解决上述问题。

2、本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法，包括以下步骤：

3、s1：选取超薄成品光学pet底膜，依次开展无尘除尘、双面除静电、低压电晕活化预处理；

4、s2：按照配比配制抗迁移耐高温锚固底涂液，搅拌、过滤、消泡后备用；

5、s3：按照配比配制低迁移超薄耐高温氟塑功能涂液，搅拌、过滤、消泡后备用；

6、s4：采用微凹版涂布将锚固底涂液涂覆于活化pet基材，经固化形成锚固阻隔层，再在锚固阻隔层表面涂布氟塑功能涂液；

7、s5：固化后的膜材经恒温恒湿长效时效熟化，再完成全性能检测、精密分切、无尘收卷得到成品氟塑离型膜。

8、本发明的进一步设置为：步骤s1中，所述pet底膜为成品光学薄膜。

9、本发明的进一步设置为：步骤s1中，预处理依次执行无尘除尘、双面除静电、低压电晕三道工序。

10、本发明的进一步设置为：步骤s2中，抗迁移耐高温锚固底涂液按质量份配比为：高阻隔耐高温聚氨酯树脂13份、耐高温异氰酸酯固化剂3.1份、高纯惰性混合溶剂83.9份。

11、本发明的进一步设置为：步骤s2中，锚固底涂液制备工艺为：原料低速匀速搅拌30min，经350目多级精密过滤，静置20min消泡待用。

12、本发明的进一步设置为：步骤s3中，低迁移超薄耐高温氟塑功能涂液按质量份配比为：高纯改性含氟树脂17.5份、氟系高效交联剂2.6份、小分子锁定抗迁移助剂1.6份、耐高温热稳定剂0.7份、超薄流平助剂0.3份、高纯惰性混合溶剂77.3份。

13、本发明的进一步设置为：步骤s4中，锚固底涂、氟塑功能层均采用微凹版超轻量精密涂布工艺控制干膜厚度；

14、锚固底涂液涂覆于活化pet基材后采用75～85℃中温烘干固化；

15、涂布氟塑功能涂液后采用65～75℃低温流平和110～125℃高温两段梯度固化。

16、本发明的进一步设置为：步骤s5中，熟化环境温度23～27℃、湿度50～60%，连续时效24～48h；

17、检测项目包含高温抗迁移、涂层附着力、离型均匀度、膜面洁净度，合格后分切无尘收卷。

18、本发明的有益效果是：

19、1、本发明采用低残留改性氟塑配方+小分子锁定助剂+深度交联结构，配合锚固阻隔双层防护，体系游离小分子残留极低，高温工况下无析出、无迁移、无油污雾点，彻底杜绝精密胶层失粘、光学面板污染、电路瑕疵等不良，大幅提升高端产品良率；采用超薄高柔韧基材搭配耐高温改性氟塑体系，膜体轻薄服帖、弯折性能优异，同时可长期耐受180–220℃高温热压与烘烤环境，高温下无收缩、无翘曲、无涂层软化，完美适配超薄柔性器件高温精密制程；

20、2、本发明增设耐高温抗迁移锚固底涂层，既解决氟素涂层难附着、高温易脱落的行业难题，又可双向阻隔小分子迁移通道，涂层结合牢固、不起皮、不粉化、无颗粒污染，长效使用结构稳定；采用微凹超薄精密涂布和梯度固化工艺，氟塑涂层厚薄均匀、交联致密一致，无漏涂、堆积、固化不均缺陷，整卷离型力波动极小，无局部残胶、难剥离不良，量产批次稳定性优异；全程采用纯氟无硅体系，彻底杜绝传统硅油膜的硅迁移污染问题，配合低残留配方纯化工艺，膜面洁净度极高，可满足半导体辅料、芯片封装、高端光学器件的超高洁净生产要求；

21、3、本发明配方体系耐湿热、耐氧化、耐热循环性能突出，经时效熟化处理后，交联反应完全、无活性残余基团，长期存储、高低温循环工况下无性能衰减、无力度漂移，使用寿命大幅延长；一体化涂布成型工艺简洁、良品率高，同时兼具低迁移、超薄、耐高温、高洁净多重优势，可完全替代进口高端氟塑离型膜，大幅降低高端精密制造的耗材与返工成本。

1.一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法，其特征在于，步骤s1中，所述pet底膜为成品光学薄膜。

3.根据权利要求1所述的一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法，其特征在于，步骤s1中，预处理依次执行无尘除尘、双面除静电、低压电晕三道工序。

4.根据权利要求1所述的一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法，其特征在于，步骤s2中，抗迁移耐高温锚固底涂液按质量份配比为：高阻隔耐高温聚氨酯树脂13份、耐高温异氰酸酯固化剂3.1份、高纯惰性混合溶剂83.9份。

5.根据权利要求1所述的一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法，其特征在于，步骤s2中，锚固底涂液制备工艺为：原料低速匀速搅拌30min，经350目多级精密过滤，静置20min消泡待用。

6.根据权利要求1所述的一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法，其特征在于，步骤s3中，低迁移超薄耐高温氟塑功能涂液按质量份配比为：高纯改性含氟树脂17.5份、氟系高效交联剂2.6份、小分子锁定抗迁移助剂1.6份、耐高温热稳定剂0.7份、超薄流平助剂0.3份、高纯惰性混合溶剂77.3份。

7.根据权利要求1所述的一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法，其特征在于，步骤s4中，锚固底涂、氟塑功能层均采用微凹版超轻量精密涂布工艺控制干膜厚度；

8.根据权利要求1所述的一种低迁移超薄耐高温氟塑离型膜的制备方法，其特征在于，步骤s5中，熟化环境温度23～27℃、湿度50～60%，连续时效24～48h；