显示面板、显示面板的制备方法及显示装置与流程

摘要: 本申请涉及显示,具体涉及一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置。背景技术:1、有机发光二极管(organiclightemittingdisplay,ole...
显示面板、显示面板的制备方法及显示装置与流程

本申请涉及显示,具体涉及一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置。

背景技术:

1、有机发光二极管(organic light emitting display,oled)以及基于发光二极管(light emitting diode,led)等技术的平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点,而被广泛的应用于手机、电视、笔记本电脑、台式电脑等各种消费性电子产品,成为显示装置中的主流。

2、但目前的oled显示产品存在一些问题。

技术实现思路

1、有鉴于此,本申请实施例提供了一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置,以解决现有技术中的问题。

2、本申请第一方面提供了一种显示面板,包括:基板;发光器件层,设置于基板一侧,发光器件层包括多个发光单元,发光单元包括沿远离基板方向依次层叠设置的第一电极、发光功能层和第二电极;光取出层,设置于第二电极背离基板一侧;光调节层,位于光取出层背离基板一侧,光调节层包括折射率不同的多个介质层;盖板,设置于光调节层背离基板一侧;其中,多个介质层的折射率介于盖板的折射率与光取出层的折射率之间,沿背离基板方向上,多个介质层的折射率梯度减小或梯度增加,且靠近盖板的介质层的折射率与盖板的折射率的差值小于远离盖板的介质层的折射率与盖板的折射率差值,靠近光取出层的介质层的折射率与光取出层的折射率的差值小于远离光取出层的介质层的折射率与光取出层的折射率的差值。

3、结合第一方面,介质层的折射率大于或等于1.5且小于或等于2.5;优选地,距离盖板最近的介质层的折射率与盖板的折射率之间的差值等于第一预设值;和/或,距离光取出层最近的介质层的折射率与光取出层的折射率之间的差值等于第二预设值;优选地,第一预设值为0;和/或,第二预设值为0。

4、结合第一方面,介质层的材料包括透光材料;优选地,透光材料对440nm到780nm的波长范围内的光线的消光系数等于第三预设值;优选地,第三预设值为0;优选地,介质层的材料包括无机透明材料或有机透明材料;优选地,介质层的材料包括二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的至少一种,和/或,介质层的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯。

5、结合第一方面,光调节层的厚度大于或等于5μm且小于或等于8μm;优选地,介质层的厚度大于或等于110nm且小于或等于195nm;优选地,不同的介质层的厚度相同;优选地,光取出层的厚度大于或等于50nm且小于或等于90nm;优选地,显示面板还包括支撑结构;支撑结构位于基板和盖板之间,支撑结构、基板和盖板围成容纳空间,发光器件层、光取出层、光调节层位于容纳空间内;优选地,沿背离基板方向上,支撑结构的截面宽度逐渐减小;优选地,在垂直于基板方向上,支撑结构的截面形状包括正梯形。

6、结合第一方面,该显示面板还包括像素定义层,像素定义层位于基板和光取出层之间,像素定义层围合出多个像素开口,发光单元的至少部分位于像素开口内;优选地,第一电极位于像素定义层和基板之间,像素开口暴露第一电极的部分,发光功能层的至少部分覆盖第一电极,第二电极覆盖发光功能层。

7、本申请第二方面提供了一种显示面板,包括:基板;发光器件层,设置于基板一侧,发光器件层包括多个发光单元,发光单元包括沿远离基板方向依次层叠设置的第一电极、发光功能层和第二电极;光取出层,设置于第二电极背离基板一侧;盖板,位于光取出层背离基板一侧;支撑结构,支撑结构位于基板和盖板之间,支撑结构、基板和盖板围成容纳空间,发光器件层、光取出层位于容纳空间内;其中,光取出层和盖板之间具有光调节层,光调节层为空气层,沿垂直于基板方向上,光调节层的厚度大于或等于8μm且小于或等于0.7mm。

8、结合第二方面,盖板朝向基板方向的表面设置有透明材料层,透明材料层的折射率小于盖板的折射率;优选地,透明材料层的折射率大于或等于1.3且小于或等于1.5;优选地,透明材料层的厚度大于0且小于或等于8μm;优选地,盖板的材料包括玻璃。

9、本申请第三方面提供了一种显示面板的制备方法,包括:在基板上制备发光器件层,发光器件层包括多个发光单元,发光单元包括沿远离基板方向依次层叠设置的第一电极、发光功能层和第二电极;在第二电极背离基板一侧制备光取出层;在光取出层背离基板一侧制备光调节层,光调节层包括折射率不同的多个介质层;在光调节层背离基板一侧设置盖板;其中,多个介质层的折射率介于盖板的折射率与光取出层的折射率之间,沿背离基板方向上,多个介质层的折射率梯度减小或梯度增加,且靠近盖板的介质层的折射率与盖板的折射率的差值小于远离盖板的介质层的折射率与盖板的折射率差值,靠近光取出层的介质层的折射率与光取出层的折射率的差值小于远离光取出层的介质层的折射率与光取出层的折射率的差值。

10、结合第三方面,在光取出层背离基板一侧制备光调节层的步骤之后,制备方法还包括:在发光器件层和光取出层的周侧设置支撑结构,支撑结构背离基板的表面凸出于光取出层背离基板的表面;优选地,在光取出层背离基板一侧制备光调节层,包括:在光取出层背离基板一侧依次制备多层介质层,介质层的侧面与支撑结构接触;优选地,在光调节层背离基板一侧设置盖板,包括:在光调节层背离基板一侧放置盖板,支撑结构支撑盖板;优选地,在光调节层背离基板一侧设置盖板的步骤之后,制备方法还包括:对支撑结构背离发光器件层的表面涂覆黏合剂,以对显示面板进行密封。

11、本申请第四方面提供了一种显示装置,显示装置包括:上述的显示面板或者根据上述任一制备方法制备而成的显示面板。

12、通过上述技术方案,通过在光调节层设置折射率不同的多个介质层,减小其与上下界面材料之间的折射率差值;或者,增加空气层厚度,从而减弱光在光调节层附近产生的干涉效应,以减弱彩虹纹现象。

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述介质层的折射率大于或等于1.5且小于或等于2.5;

3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述介质层的材料包括透光材料;

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述光调节层的厚度大于或等于5μm且小于或等于8μm;

5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括像素定义层,所述像素定义层位于所述基板和所述光取出层之间,所述像素定义层围合出多个像素开口,所述发光单元的至少部分位于所述像素开口内;

6.一种显示面板,其特征在于,包括:

7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述盖板朝向所述基板方向的表面设置有透明材料层,所述透明材料层的折射率小于所述盖板的折射率;

8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:

9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述在所述光取出层背离所述基板一侧制备光调节层的步骤之后,所述制备方法还包括:

10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至7任一项所述的显示面板或者包括根据权利要求8或9所述的制备方法制备而成的显示面板。