显示面板、显示面板的制作方法以及显示装置与流程

本申请涉及显示，尤其涉及一种显示面板、显示面板的制作方法以及显示装置。

背景技术：

1、有机发光二极管(organic light emitting diode，oled)以及基于发光二极管(light emitting diode，led)等技术的平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、笔记本电脑、台式电脑等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。

2、但目前的oled显示产品的使用性能有待提升。

技术实现思路

1、本申请提供了一种显示面板、显示面板的制作方法以及显示装置，旨在提高显示面板的使用性能。

2、第一方面，本申请提供一种显示面板，包括：基板，包括平坦化层和设置于平坦化层一侧的第一电极层，第一电极层包括多个间隔设置的第一电极；像素定义层，与第一电极层位于平坦化层的同一侧，像素定义层包括像素限定部和开设于像素限定部的像素开口，多个像素开口间隔设置，且像素开口在平坦化层的正投影与第一电极在平坦化层的正投影至少部分交叠，像素限定部朝向基板凹陷形成隔离槽；发光器件层，包括发光部，发光部位于像素开口内；第二电极层，设置于发光器件层背离基板的一侧；其中，像素限定部包括在远离基板的方向层叠设置的第一子层和第二子层，隔离槽设置于第二子层。

3、根据本申请第一方面前述任一实施例，隔离槽贯穿第二子层设置，以使部分第一子层暴露于隔离槽。

4、根据本申请第一方面前述任一实施例，第一子层的材料包括无机材料；第二子层的材料包括有机材料。

5、根据本申请第一方面前述任一实施例，第一子层和第二子层被配置为在相同刻蚀条件下的刻蚀选择比为8:1至30:1。

6、根据本申请第一方面前述任一实施例，第一子层的材料包括氮化硅、氧化硅以及氧化铝中的至少一者。

7、根据本申请第一方面前述任一实施例，第一子层的材料包括由氮化硅、氧化硅以及氧化铝中的至少两者混合构成的无机材料混合层。

8、根据本申请第一方面前述任一实施例，第一子层的材料包括多个子部，每个子部包括氮化硅、氧化硅以及氧化铝中的一者，各子部交替层叠设置。

9、根据本申请第一方面前述任一实施例，还包括界面结合结构，第一子层与第二子层通过界面结合结构连接。

10、根据本申请第一方面前述任一实施例，界面结合结构包括凹陷部和与凹陷部相匹配的凸起部，凹陷部位于第一子层朝向第二子层的一侧，凸起部位于第二子层朝向第一子层的一侧。

11、根据本申请第一方面前述任一实施例，发光器件层还包括冗余部，冗余部位于隔断槽内。

12、根据本申请第一方面前述任一实施例，发光部以及冗余部均包括载流子层和发光材料层。

13、根据本申请第一方面前述任一实施例，发光器件层为单层发光器件并包括在远离基板的方向层叠设置的第一载流子层、发光材料层和第二载流子层；或者，发光器件层为叠层发光器件并包括在远离基板的方向层叠设置的第一载流子层、第一发光材料层、第二载流子层、电荷产生层、第三载流子层、第二发光材料层和第四载流子层。

14、根据本申请第一方面前述任一实施例，沿第一方向，第一子层的厚度大于或等于且小于或等于和/或，沿第一方向，第二子层的厚度大于或等于0.5μm且小于或等于0.7μm。

15、第二方面，本申请提供一种显示面板的制作方法，包括：

16、提供基板，基板包括平坦化层和设置于平坦化层一侧的第一电极层；

17、在基板的一侧依次形成第一子材料层和第二子材料层；

18、在第一子材料层以及第二子材料层形成贯穿第一子材料层以及第二子材料层自身的像素开口，且在第二子材料层形成隔离槽，以使第一子材料层以及第二子材料层构成像素定义层；

19、在像素定义层背离基板的一侧形成发光器件层和第二电极层。

20、根据本申请第二方面前述任一实施例，在第一子材料层以及第二子材料层形成贯穿第一子材料层以及第二子材料层自身的像素开口，且在第二子材料层形成隔离槽，以使第一子材料层以及第二子材料层构成像素定义层，包括：

21、利用掩模版对第二子材料层进行光刻，以形成掩模图案；

22、根据掩模图案，利用干刻工艺依次刻蚀第二子材料层以及第一子材料层，以形成像素开口。

23、根据本申请第二方面前述任一实施例，在根据掩模图案，利用干刻工艺依次刻蚀第二子材料层以及第一子材料层，以形成像素开口的步骤之后还包括：

24、对第二子材料层进行图案化处理以形成隔离槽。

25、第三方面，本申请提供一种显示装置，包括第一方面前述任一实施例的显示面板，或者，显示装置包括由第二方面前述任一实施例的显示面板制备形成的显示面板。

26、本申请提供的显示面板、显示面板的制作方法以及显示装置，显示面板包括基板、像素定义层、发光器件层和第二电极层。其中，基板包括平坦化层和设置于平坦化层一侧的第一电极层，平坦化层用于为第一电极层及像素定义层提供均匀平坦的基底。像素定义层包括像素限定部和开设于像素限定部的像素开口，发光器件层包括发光部，发光部位于像素开口内，且像素开口在平坦化层的正投影与第一电极在平坦化层的正投影至少部分交叠，使得第一电极可以与像素开口内的发光部接触连接。多个像素开口间隔设置，多个像素开口可以用于容纳用于发射不同颜色或相同颜色的发光部。像素限定部朝向基板凹陷形成隔离槽，隔离槽用于隔离相邻设置的发光部，以用于降低相邻发光部之间的光串扰概率。像素限定部包括在远离基板的方向层叠设置的第一子层和第二子层，隔离槽设置于第二子层。第一子层位于基板和第二子层之间，用于限位隔离槽的深度。由此，在第二子层上刻蚀隔离槽时，第一子层能够作为刻蚀终点阻挡层，有效增大刻蚀工艺窗口，控制隔离槽的深度，防止隔离槽的深度过深或过浅，从而降低阴极层断裂或发光串扰的概率，进而提升显示面板的使用性能。

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔离槽贯穿所述第二子层设置，以使部分所述第一子层暴露于所述隔离槽。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一子层的材料包括无机材料；

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一子层的材料包括氮化硅、氧化硅以及氧化铝中的至少一者；

5.根据权利要求1至4任意一项所述的显示面板，其特征在于，还包括界面结合结构，所述第一子层与所述第二子层通过所述界面结合结构连接；

6.根据权利要求1至4任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述发光器件层还包括冗余部，所述冗余部位于所述隔离槽内；

7.根据权利要求1至4任意一项所述的显示面板，其特征在于，沿第一方向，所述第一子层的厚度大于或等于且小于或等于

8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述在所述第一子材料层以及所述第二子材料层形成贯穿所述第一子材料层以及所述第二子材料层自身的像素开口，且在所述第二子材料层形成隔离槽，以使第一子材料层以及所述第二子材料层构成像素定义层，包括：

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至7任意一项所述的显示面板，或者，所述显示装置包括由权利要求8或9任意一项制备形成的显示面板。