基片液处理装置和基片液处理方法与流程

本发明涉及基片液处理装置和基片液处理方法。

背景技术：

1、在专利文献1公开的装置中，基于响应时间来测量流过供给路径的处理液的流量，当该流量的测量值大于阈值时，判断为在设置于供给路径的阀中发生处理液的泄漏。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特许第6059087号公报

技术实现思路

1、发明要解决的技术问题

2、本发明提供了一种有利于检测处理液的泄漏等不良情况的发生的技术。

3、用于解决技术问题的技术方案

4、本发明的一方面涉及一种基片液处理装置，包括：供处理液流动的液配管；释放嘴，其释放经由液配管供给的处理液；配管阀机构，其调节液配管中的处理液的流动；和液检测传感器，其检测液配管中是否存在处理液，在配管阀机构工作以使液配管中的处理液位于比液配管的第一配管测量部位靠上游处的状态下，液检测传感器检测在位于第一测量点的第一配管测量部位是否存在处理液。

5、发明效果

6、依照本发明，有利于检测处理液的泄漏等不良情况的发生。

1.一种基片液处理装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的基片液处理装置，其特征在于：

3.如权利要求1所述的基片液处理装置，其特征在于：

4.如权利要求1所述的基片液处理装置，其特征在于：

5.如权利要求4所述的基片液处理装置，其特征在于：

6.如权利要求1所述的基片液处理装置，其特征在于：

7.如权利要求1所述的基片液处理装置，其特征在于：

8.一种基片液处理方法，其特征在于，包括：