基片处理系统和磁悬浮式真空输送单元的制作方法

本发明的例示性的实施方式涉及基片处理系统和磁悬浮式真空输送单元。

背景技术：

1、专利文献1和2公开了一种在基片处理系统的真空输送室与处理室之间输送基片的磁悬浮式的输送装置。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2022-133867号公报

5、专利文献2：美国专利申请公开第2023/85667号说明书

技术实现思路

1、发明要解决的技术问题

2、本发明提供一种提高装置布局的自由度的技术。

3、用于解决技术问题的技术方案

4、在本发明的一个例示性的实施方式中，提供一种基片处理系统，其包括：配置于第一高度的装载端口；配置于第二高度且能够在水平方向上连结的多个磁悬浮式真空输送单元；多个基片处理模块，各基片处理模块能够与多个磁悬浮式真空输送单元中的任一者连接；和构成为能够将内部切换为大气环境或真空环境的装载锁定模块，装载锁定模块构成为，能够在大气环境下在装载锁定模块与装载端口上的基片收纳容器之间输送至少一个基片，能够在铅垂方向上输送至少一个基片，并且能够在真空环境下在装载锁定模块与多个磁悬浮式真空输送单元中的任一者之间输送至少一个基片。

5、发明效果

6、根据本发明的一个例示性的实施方式，能够提供一种提高装置布局的自由度的技术。

1.一种基片处理系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基片处理系统，其特征在于；

3.根据权利要求1所述的基片处理系统，其特征在于；

4.根据权利要求2所述的基片处理系统，其特征在于；

5.根据权利要求1所述的基片处理系统，其特征在于；

6.根据权利要求5所述的基片处理系统，其特征在于；

7.根据权利要求6所述的基片处理系统，其特征在于；

8.根据权利要求1至权利要求7中任一项所述的基片处理系统，其特征在于；

9.根据权利要求8所述的基片处理系统，其特征在于；

10.根据权利要求8所述的基片处理系统，其特征在于；

11.根据权利要求10所述的基片处理系统，其特征在于；

12.根据权利要求9所述的基片处理系统，其特征在于；

13.根据权利要求12所述的基片处理系统，其特征在于；

14.一种基片处理系统，其特征在于，包括：

15.根据权利要求14所述的基片处理系统，其特征在于：

16.一种磁悬浮式真空输送单元，其特征在于，包括：

17.根据权利要求16所述的磁悬浮式真空输送单元，其特征在于；

18.根据权利要求16所述的磁悬浮式真空输送单元，其特征在于；

19.根据权利要求16所述的磁悬浮式真空输送单元，其特征在于；

20.根据权利要求16所述的磁悬浮式真空输送单元，其特征在于；