气体均匀分布的真空镀膜设备的制作方法

技术特征：
1.气体均匀分布的真空镀膜设备，其特征在于，包括：镀膜腔，具有进料口和出料口；阴极室，内部设置旋转阴极，且具有朝向所述镀膜腔的开口；气体管路，置于所述阴极室内，且与所述旋转阴极并行布置；所述气体管路为多层管结构，每根管路的管壁上均设置有出气孔；阻挡件，布置在所述气体管路和旋转阴极之间，使气体迂回地扩散至所述旋转阴极。2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，最外层管路上的出气孔背对所述旋转阴极设置。3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述气体管路为双层管结构，所述双层管结构包括内层圆管、外层方管，所述内层圆管上沿轴向间隔分布有朝向所述旋转阴极的第一出气孔，所述外层方管上沿轴向间隔分布有背对所述旋转阴极的第二出气孔。4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述气体管路包括并行布置且紧靠的工作气路、反应气路。5.根据权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述反应气路呈多段式分布。6.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述阻挡件包括布置在气体管路和所述开口之间的折弯部。7.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，还包括用于固定气体管路的支架，具有夹持固定所述气体管路的固定部及与所述阴极室连接的连接部，所述固定部与连接部一体成型。8.根据权利要求7所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述阻挡件固定在所述支架上。9.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述阴极室由门板、侧挡板、前挡板围合形成，所述侧挡板上具有用于固定所述前挡板的多个固定位。10.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述旋转阴极呈倾斜设置，且与竖直方向呈2
°
～5
°
。

技术总结
本申请公开了一种气体均匀分布的真空镀膜设备，包括：镀膜腔，具有进料口和出料口；阴极室，内部设置旋转阴极，且具有朝向所述镀膜腔的开口；气体管路，置于所述阴极室内，且与所述旋转阴极并行布置；所述气体管路为多层管结构，每根管路的管壁上均设置有出气孔；阻挡件，布置在所述气体管路和旋转阴极之间，使气体迂回地扩散至所述旋转阴极。本申请的气体先后经过多次迂回，包括在多层管内部迂回扩散及沿阻挡件侧壁方向迂回扩散，不仅避免现有技术中出气孔直接朝向旋转阴极且出气孔附近气体浓度偏高的不利情况，且使得阴极室内空间尤其是气体管路与阴极室侧壁之间空间的气体分布更均匀。匀。匀。


技术研发人员：江嘉 娄国明 徐建柱 沈纬徵
受保护的技术使用者：安徽越好电子装备有限公司
技术研发日：2023.06.02
技术公布日：2023/10/1