涂布处理方法及涂布处理装置与流程

技术特征：
1.一种涂布处理方法，其是在至少一部分具有圆形状的外周部的衬底形成涂布膜的涂布处理方法，且所述衬底具有相互面向反方向的第1面及第2面，在所述第1面，形成向与所述第1面正交的方向突出且沿所述外周部延伸的圆环状的凸部，所述涂布处理方法包含以下步骤：以所述第1面面向上方的方式以水平姿势保持所述衬底；对所述第1面供给涂布液，通过在涂布液的供给中或供给后使以水平姿势保持的所述衬底绕铅直轴旋转来对整个所述第1面扩展涂布液；及在扩展所述涂布液的步骤之后，通过使以水平姿势保持的所述衬底绕铅直轴旋转来使所述衬底干燥；且使所述衬底干燥的步骤包含：在第1时点到所述第1时点之后的第2时点之间，使所述衬底以第1转速旋转；及在所述第2时点到所述第2时点之后的第3时点之间，使所述衬底以高于所述第1转速的第2转速旋转。2.根据权利要求1所述的涂布处理方法，其还包含在使所述衬底干燥的步骤之后，使所述衬底以低于所述第1转速的第3转速旋转，且对所述第2面供给清洗液的步骤。3.根据权利要求1或2所述的涂布处理方法，其中将所述第2时点规定为扩展于所述第1面上的涂布液中所述第1面的中央区域所存在的部分干燥且包围所述第1面的所述中央区域的区域上所存在的部分流动的状态的期间内。4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的涂布处理方法，其中将所述第2时点规定为经过所述第1时点后供给到所述第1面的涂布液的表面所产生的干涉条纹消失之前的时点。5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的涂布处理方法，其中所述第2转速是高于所述第1转速的2倍的转速。6.一种涂布处理装置，其是在至少一部分具有圆形状的外周部的衬底形成涂布膜的涂布处理装置，且所述衬底具有相互面向反方向的第1面及第2面，在所述第1面，形成向与所述第1面正交的方向突出且沿所述外周部延伸的圆环状的凸部，所述涂布处理装置具备：旋转保持部，以所述第1面面向上方的方式以水平姿势保持所述衬底且使它绕铅直轴旋转；涂布液供给部，对所述第1面供给涂布液；及控制部，以对所述第1面供给涂布液的方式控制所述涂布液供给部，以通过涂布液的供给中或供给后以水平姿势保持的所述衬底绕所述铅直轴旋转来对整个所述第1面扩展涂布液的方式控制所述旋转保持部；且所述控制部在对整个所述第1面扩展涂布液之后，在第1时点到所述第1时点之后的第2时点之间，
以水平姿势保持的所述衬底以第1转速旋转，在所述第2时点到所述第2时点之后的第3时点之间，以水平姿势保持的所述衬底以高于所述第1转速的第2转速旋转，由此所述衬底干燥，以此方式进一步控制所述旋转保持部。7.根据权利要求6所述的涂布处理装置，其还具备对所述第2面供给清洗液的清洗液供给部，所述控制部以所述衬底通过以所述第2转速旋转干燥之后，所述衬底以低于所述第1转速的所述第3转速旋转的方式进一步控制所述旋转保持部，且以对以所述第3转速旋转的所述衬底的所述第2面供给清洗液的方式进一步控制所述清洗液供给部。8.根据权利要求6或7所述的涂布处理装置，其中将所述第2时点规定为扩展于所述第1面上的涂布液中所述第1面的中央区域所存在的部分干燥且包围所述第1面的所述中央区域的区域上所存在的部分流动的状态的期间内。9.根据权利要求6到8中任一权利要求所述的涂布处理装置，其中将所述第2时点规定为经过所述第1时点后供给到所述第1面的涂布液的表面所产生的干涉条纹消失之前的时点。10.根据权利要求6到9中任一权利要求所述的涂布处理装置，其中所述第2转速是高于所述第1转速的2倍的转速。

技术总结
本发明涉及一种涂布处理方法及涂布处理装置。本发明的衬底具有上表面及下表面，在上表面形成着圆环状的凸部。衬底以水平姿势保持。对所述衬底的上表面供给涂布液。在涂布液的供给中或供给后通过使衬底绕铅直轴旋转而对整个上表面扩展涂布液。之后，通过使衬底绕铅直轴旋转而将衬底干燥。在使衬底干燥时，在第1时点到第1时点之后的第2时点之间，使衬底以第1转速旋转。另外，在第2时点到第2时点之后的第3时点之间，使衬底以高于第1转速的第2转速旋转。速旋转。速旋转。


技术研发人员：熊田雄介 徐飞
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：2022.05.16
技术公布日：2022/11/22