制造玻璃带的方法与流程

技术特征：
1.一种制造玻璃带的方法，包括：使玻璃形成带沿行进路径流动，所述玻璃形成带包括第一主表面、与所述第一主表面相对的第二主表面、限定在所述第一主表面与所述第二主表面之间的厚度以及延伸穿过所述行进路径的宽度；在所述玻璃形成带沿所述行进路径行进的同时在所述行进路径的目标位置处加热所述玻璃形成带的所述第一主表面，所述加热将所述目标位置处的所述玻璃形成带的温度升高至距所述第一主表面约250微米或更小的加热深度；以及将所述玻璃形成带冷却成所述玻璃带，其中在所述加热之前，所述目标位置处的所述玻璃形成带包括约1,000帕斯卡-秒至约10
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帕斯卡-秒的范围内的平均粘度。2.如权利要求1所述的方法，进一步包括：在所述目标位置上游的所述行进路径上的地点处使跨越所述玻璃形成带的整个宽度的所述玻璃形成带的所述第一主表面与辊接触。3.如权利要求1-2中任一项所述的方法，所述方法进一步包括通过使玻璃形成材料流过形成装置的孔口来形成所述玻璃形成带。4.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述目标位置处的所述平均粘度在约1000帕斯卡-秒至约10
6.6
帕斯卡-秒的范围内。5.如权利要求4所述的方法，其中所述目标位置处的所述平均粘度在约10,000帕斯卡-秒至约20,000帕斯卡-秒的范围内。6.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述目标位置处的所述平均粘度在约10
6.6
帕斯卡-秒至约10
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帕斯卡-秒的范围内。7.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其中在所述加热之前，所述目标位置处的所述玻璃形成带的平均温度在约500℃至约1300℃的范围内。8.如权利要求7所述的方法，其中所述目标位置处的所述玻璃形成带的所述平均温度在约750℃至约1250℃的范围内。9.如权利要求8所述的方法，其中所述目标位置处的所述玻璃形成带的所述平均温度在约900℃至约1100℃的范围内。10.如权利要求7所述的方法，其中所述目标位置处的所述玻璃形成带的所述平均温度在约500℃至约750℃的范围内。11.如权利要求1-10中任一项所述的方法，其中在所述玻璃带的后续处理之前的所述玻璃带的所述第一主表面的表面粗糙度ra为约5纳米或更小。12.如权利要求11所述的方法，其中所述玻璃带的所述第一主表面的所述表面粗糙度ra在约0.1纳米至约2纳米的范围内。13.如权利要求11-12中任一项所述的方法，其中在所述玻璃带的后续处理之前的所述玻璃带的所述第一主表面的所述表面粗糙度ra为约5％或小于第二玻璃带的后续处理之前的所述第二玻璃带的表面粗糙度ra，其中除了所述加热之外，所述第二玻璃带与所述玻璃带相同地被制造。14.如权利要求13所述的方法，其中所述玻璃带的所述第一主表面的所述表面粗糙度ra在所述第二玻璃带的所述表面粗糙度ra的约0.01％至约1％的范围内。15.如权利要求1-14中任一项所述的方法，其中所述在所述目标位置处加热所述第一
主表面以约0.1千瓦/平方公分至约100千瓦/平方公分的范围内的速率将能量传递给所述玻璃形成带。16.如权利要求15所述的方法，其中在所述目标位置处加热所述第一主表面以约1千瓦/平方公分至约20千瓦/平方公分的范围内的速率将能量传递给所述玻璃形成带。17.如权利要求15-16中任一项所述的方法，其中传递给所述目标位置处的所述玻璃形成带的实质上所有能量在距所述目标位置处的所述第一主表面约10微米或更小的范围内被吸收。18.如权利要求1-17中任一项所述的方法，其中所述加热深度为约10微米或更小。19.如权利要求1-18中任一项所述的方法，其中在所述加热所述第一主表面期间，所述玻璃形成带的玻璃形成材料在所述目标位置处的吸收深度为约50微米或更小。20.如权利要求19所述的方法，其中所述吸收深度为约10微米或更小。21.如权利要求1-20中任一项所述的方法，进一步包括在所述玻璃形成带沿所述行进路径行进的同时在所述行进路径的第二目标位置处加热所述玻璃形成带的所述第二主表面，所述加热将所述第二目标位置处的所述玻璃形成带的温度升高至距所述第二主表面约250微米或更小的加热深度。22.如权利要求21所述的方法，其中加热所述第二主表面将所述第二目标位置处的所述玻璃形成带的所述温度升高至距所述第二主表面约10微米或更小的加热深度。23.如权利要求21-22中任一项所述的方法，其中在所述玻璃带的后续处理之前的所述玻璃带的所述第二主表面的表面粗糙度ra为约5纳米或更小。24.如权利要求23所述的方法，其中所述第二主表面的表面粗糙度ra在约0.1纳米至约2纳米的范围内。25.如权利要求23-24中任一项所述的方法，其中在所述玻璃带的后续处理之前的所述玻璃带的所述第二主表面的所述表面粗糙度ra为在第二玻璃带的后续处理之前的所述第二玻璃带的表面粗糙度ra的约5％或更少，其中除了所述加热之外，所述第二玻璃带与所述玻璃带相同地被制造。26.如权利要求25所述的方法，其中所述玻璃带的所述第二主表面的所述表面粗糙度ra在所述第二玻璃带的所述表面粗糙度ra的约0.01％至约1％的范围内。27.如权利要求21-26中任一项所述的方法，其中所述在所述第二目标位置处加热所述玻璃形成带的第二主表面以约0.1千瓦/平方公分至约100千瓦/平方公分的范围内的速率将能量传递给所述第二主表面。28.如权利要求27所述的方法，其中在所述第二目标位置处加热所述第二主表面以约1千瓦/平方公分至约20千瓦/平方公分的范围内的速率将能量传递给所述第二主表面。29.如权利要求1-28中任一项所述的方法，其中加热包括：用激光束在所述目标位置处撞击所述玻璃形成带的所述第一主表面。30.如权利要求29所述的方法，其中所述激光束包括在约1.5微米至约20微米的范围内的波长。31.如权利要求30所述的方法，其中所述激光束的所述波长在约5微米至约15微米的范围内。32.如权利要求31所述的方法，其中所述激光束的所述波长在约9微米至约12微米的范
围内。33.如权利要求29-32中任一项所述的方法，其中所述激光束在横向于所述行进路径的方向上的宽度为所述目标位置处的所述玻璃形成带的所述宽度的约50％或更多。34.如权利要求33所述的方法，其中所述激光束的所述宽度在所述目标位置处的所述玻璃形成带的所述宽度的约80％至约100％的范围内。35.如权利要求29-34中任一项所述的方法，进一步包括在所述目标位置处跨越所述玻璃形成带的所述宽度的一部分扫描所述激光束。36.如权利要求35所述的方法，其中所述部分在所述目标位置处的所述玻璃形成带的所述宽度的约80％至约100％的范围内。37.如权利要求29-36中任一项所述的方法，其中所述撞击包括用多个激光束撞击所述目标位置处的所述第一主表面。38.如权利要求37所述的方法，其中在所述目标位置处撞击所述玻璃形成带的所述多个激光束沿所述玻璃形成带的所述宽度的方向配置成一列。39.如权利要求29-38中任一项所述的方法，其中所述激光束为包括实质上恒定的注量的实质上连续的激光束。40.如权利要求1-28中任一项所述的方法，其中所述加热包括：用燃烧器发出火焰；以及用所述火焰在所述目标位置处加热所述玻璃形成带。41.如权利要求40所述的方法，其中所述燃烧器包括发出多个火焰的多个燃烧器，所述多个火焰在所述目标位置处加热所述玻璃形成带。42.如权利要求41所述的方法，其中所述多个火焰沿所述玻璃形成带的所述宽度的方向配置成一列。43.如权利要求40-42中任一项所述的方法，其中所述燃烧器发出功率实质恒定的火焰。44.如权利要求1-43中任一项所述的方法，进一步包括将所述玻璃带分成多个玻璃板。45.一种制作电子产品的方法，包括：将多个电气组件至少部分地置放在外壳内，所述外壳包括前表面、后表面及多个侧表面，且所述些电气组件包括控制器、内存及显示器，其中所述显示器置放在所述外壳的所述前表面处或附近；以及将覆盖基板安置在所述显示器上方，其中所述外壳的一部分或所述覆盖基板中的至少一者包括通过如权利要求1至43中任一项所述的方法制造的所述玻璃带的一部分。46.一种电子产品，包括：外壳，包括前表面、后表面及多个侧表面；多个电气组件，至少部分地在所述外壳内，所述些电气组件包括控制器、内存及显示器，所述显示器处于所述外壳的所述前表面处或附近；以及覆盖基板，安置在所述显示器上方，其中所述外壳的一部分或所述覆盖基板中的至少一者包括如权利要求1至43中任一项所述的玻璃带的一部分。

技术总结
一种制造玻璃带的方法可以包括使玻璃形成带沿行进路径流动。玻璃形成带可以包括第一主表面及与第一主表面相对的第二主表面。厚度可以限定在第一主表面与第二主表面之间。方法可以包括在玻璃形成带沿行进路径行进的同时在行进路径的目标位置处加热玻璃形成带的第一主表面。加热可以将目标位置处的玻璃形成带的温度升高至距第一主表面约250微米或更小的加热深度。方法可以包括将玻璃形成带冷却成玻璃带。在加热之前，目标位置处的玻璃形成带可以包括约1,000帕斯卡-秒至约1011帕斯卡-秒的范围内的平均粘度。范围内的平均粘度。范围内的平均粘度。


技术研发人员：杰弗里
受保护的技术使用者：康宁公司
技术研发日：2021.06.16
技术公布日：2023/3/3