一种残膜回收机防缠绕挑膜装置的制 一种秧草收获机用电力驱动行走机构

检查装置以及检查方法与流程

2023-02-20 20:27:53 来源:中国专利 TAG:


1.本发明涉及提高了不良判断的可靠性的检查装置以及利用该检查装置的检查方法。


背景技术:

2.显示装置可以包括发光元件。发光元件可以包括于墨液或者膏体等溶剂中而被提供到显示面板上,所述溶剂可以在常温下或者通过热而被气化。因此,发光元件可以具有随机地涂布在显示面板上的特性。检查装置可以拍摄显示装置来与基准图像进行比较,从而判断不良程度。


技术实现要素:

3.本发明的一目的在于,提供一种提高了不良判断的可靠性的检查装置。
4.本发明的一目的在于,提供一种利用提高了不良判断的可靠性的检查装置的检查方法。
5.本发明的一实施例涉及的检查装置可以包括:工作台,配置基板;第一光源,照射第一光;第二光源,照射波长不同于所述第一光的第二光;光学部件,配置在所述第一光源与所述第二光源之间,从而选择性地使所述第一光的光路径或者所述第二光的光路径朝向所述工作台;拍摄部,拍摄照射了所述第一光的所述基板和照射了所述第二光的所述基板;以及处理部,从拍摄照射了所述第一光的所述基板获得的第一图像数据中去除拍摄照射了所述第二光的所述基板获得的第二图像数据,从而生成检查数据。
6.可以是,所述检查装置还包括:控制部,控制所述光学部件的旋转,所述控制部根据所述第一光源和所述第二光源的工作时序来使所述光学部件旋转。
7.可以是,所述控制部构成为控制所述第一光源和所述第二光源的操作,所述控制部在所述第一光源开启时关闭所述第二光源,在所述第二光源开启时关闭所述第一光源,并且在所述光学部件旋转时关闭所述第一光源和所述第二光源。
8.可以是,所述第一光具有可见光波段的波长,并且所述第二光具有紫外线波段的波长。
9.可以是,所述检查装置还包括:第一滤波器,配置在所述第一光源与所述光学部件之间,从而使第一波段的光透过。
10.可以是,所述第一滤波器是能够拆装的。
11.可以是,所述检查装置还包括:第二滤波器,配置在所述第二光源与所述光学部件之间,从而使第二波段的光透过,所述第二滤波器是激发滤波器。
12.可以是,所述检查装置还包括:辐射滤波器,在所述光学部件与所述拍摄部之间被配置成能够移动,在所述第一光源开启时,所述辐射滤波器不配置在所述光学部件与所述拍摄部之间,并且在所述第二光源开启时,所述辐射滤波器配置在所述光学部件与所述拍摄部之间。
13.可以是,所述光学部件包括第一面以及与所述第一面对置的第二面,所述第一光中的至少一部分在所述光学部件的所述第一面被反射而朝向所述基板,并且所述第二光中的至少一部分在所述光学部件的所述第二面被反射而朝向所述基板。
14.可以是,所述检查装置还包括:判断部,比较所述检查数据与基准数据来判断是否不良。
15.可以是,所述检查数据是从所述基板的多个区域之中的一个区域获得的数据。
16.可以是,提供多个所述检查数据,多个所述检查数据与所述多个区域分别一对一地对应,所述检查装置还包括:判断部,彼此比较多个所述检查数据来判断是否不良。
17.本发明的一实施例涉及的检查方法可以包括:利用第一光源向检查对象照射可见光波段的第一光的步骤;利用拍摄部拍摄照射了所述第一光的所述检查对象来生成第一图像数据的步骤;利用第二光源向所述检查对象照射紫外线波段的第二光的步骤;利用所述拍摄部拍摄照射了所述第二光的所述检查对象来生成第二图像数据的步骤;从所述第一图像数据中去除所述第二图像数据来生成检查数据的步骤;以及根据所述检查数据判断所述检查对象是否不良的步骤。
18.可以是,所述检查对象是包括发光元件的显示面板,所述发光元件吸收所述第二光而发光。
19.可以是,向所述检查对象照射所述第一光的步骤包括:将所述第一光提供至使第一波段的光透过的第一滤波器的步骤;以及利用光学部件控制透过了所述第一滤波器的所述第一光的路径来使其朝向所述检查对象的步骤。
20.可以是,向所述检查对象照射所述第二光的步骤包括:使所述光学部件旋转的步骤;将所述第二光提供至使第二波段的光透过的第二滤波器的步骤;以及利用所述光学部件控制透过了所述第二滤波器的所述第二光的路径来使其朝向所述检查对象的步骤。
21.可以是,所述光学部件包括第一面以及与所述第一面对置的第二面,所述第一光中的至少一部分在所述光学部件的所述第一面被反射而朝向所述检查对象,并且所述第二光中的至少一部分在所述光学部件的所述第二面被反射而朝向所述检查对象。
22.可以是,生成所述第一图像数据的步骤包括:使辐射滤波器移动以便所述辐射滤波器不会配置在所述光学部件与所述拍摄部之间的步骤;以及由所述拍摄部拍摄照射了所述第一光的所述检查对象的步骤,生成所述第二图像数据的步骤包括:使所述辐射滤波器移动以便所述辐射滤波器配置在所述光学部件与所述拍摄部之间的步骤;以及利用所述拍摄部,在所述拍摄部与所述检查对象之间夹着所述辐射滤波器的情况下,拍摄照射了所述第二光的所述检查对象的步骤。
23.可以是,根据所述检查数据判断所述检查对象是否不良的步骤包括:提供作为标准的基准数据的步骤;以及比较所述基准数据与所述检查数据的步骤。
24.可以是,根据所述检查数据判断所述检查对象是否不良的步骤包括:从所述检查对象的多个区域提取多个检查数据的步骤;以及将所述多个检查数据彼此比较的步骤。
25.(发明效果)
26.根据本发明,可以与基准图像比较从拍摄显示面板的图像中去除了关于发光元件的部分的检查图像。因此,与基准图像进行比较的检查图像可以不包括关于随机地配置的发光元件的部分。其结果,在比较检查图像与基准图像时,具有差异的部分相当于异物,因
此可以提高不良判断的可靠性。
附图说明
27.图1是本发明的一实施例涉及的显示装置的立体图。
28.图2a是本发明的一实施例涉及的显示面板的剖视图。
29.图2b是本发明的一实施例涉及的显示面板的平面图。
30.图3是本发明的一实施例涉及的发光元件的剖视图。
31.图4表示制造图2a所示的显示面板的过程中的一部分。
32.图5是在本发明的一实施例涉及的显示面板涂布了发光元件的照片。
33.图6是表示本发明的一实施例涉及的检查装置的图。
34.图7是本发明的一实施例涉及的显示装置检查方法的顺序图。
35.图8a是表示本发明的一实施例涉及的检查装置的操作的图。
36.图8b是表示本发明的一实施例涉及的检查装置的操作的图。
37.图8c是表示本发明的一实施例涉及的检查装置的操作的图。
38.图9a是表示本发明的一实施例涉及的第一图像数据的图。
39.图9b是表示本发明的一实施例涉及的第二图像数据的图。
40.图9c是表示本发明的一实施例涉及的检查数据的图。
41.图10是表示本发明的一实施例涉及的判断检查对象是否不良的顺序图。
42.图11a是表示本发明的一实施例涉及的检查对象的多个区域的图。
43.图11b是表示本发明的一实施例涉及的判断检查对象是否不良的顺序图。
44.图12是表示本发明的一实施例涉及的检查装置的图。
45.图13是本发明的一实施例涉及的检查对象的剖视图。
46.图14是本发明的一实施例涉及的检查对象的剖视图。
47.符号说明:
48.dtd:检查装置;sub:检查对象;b1:第一光;b2:第二光;sl1:第一光源;sl2:第二光源;ft1:第一滤波器;ft2:第二滤波器;otm:光学部件;emf:辐射滤波器;ipu:拍摄部;pcu:处理部;cm:控制部;jgu:判断部。
具体实施方式
49.在本说明书中,在提及某一构成要素(或者区域、层、部分等)位于其他构成要素上、与其连接或者结合的情况下,表示可以直接配置/连接/结合在其他构成要素上,或者在其间还可以配置有第三构成要素。
50.相同的符号指代相同的构成要素。此外,在各附图中,各构成要素的厚度、比率以及尺寸为了技术内容的有效说明而有所夸张。“和/或”包括所有可以定义相关的构成要素的一个以上的组合。
51.第一、第二等用语可以用于说明各种构成要素,但所述的构成要素不应限于所述的用语。所述的用语仅用作使一个构成要素区别于其他构成要素的目的。例如,在不超出本发明的权利范围的情况下,第一构成要素可以被命名为第二构成要素,类似地,第二构成要素也可以被命名为第一构成要素。单数的表述在文中没有明确相反意思时包括多个的表
述。
52.此外,“在下方”、“在下侧”、“在上方”、“在上侧”等用语为了说明图示的各构成要素的连接关系而使用。所述的用语是相对的概念,以图示的方向为基准进行说明。
[0053]“包括”或者“具有”等用语应理解为是指代说明书上记载的特征、数字、步骤、操作、构成要素、部件或者它们的组合的存在,并不是事先排除一个或者其以上的其他特征、数字、步骤、操作、构成要素、部件或者它们的组合的存在或附加可能性。
[0054]“部(part)”、“单元”这样的用语表示执行特定功能的软件构成要素(component)或者硬件构成要素。硬件构成要素例如可以包括fpga(field-programmable gate array)或者asic(application-specific integrated circuit)。软件构成要素可以指代被可执行代码和/或可访问的存储介质内的可执行代码所使用的数据。因此,软件构成要素例如可以是面向个体的软件构成要素、类构成要素和作业构成要素,可以包括进程、功能、属性、步骤、子程序、程序代码段、驱动器、固件、微码、电路、数据、数据库、数据结构、表格、排列或者变数。
[0055]
只要没有不同的定义,在本说明书中使用的所有用语(包括技术用语以及科学用语)具有与本领域技术人员通常所理解的意思相同的意思。此外,如在通常使用的字典中定义的用语这样的用语应解释为具有与相关技术脉络上的含义一致的含义,并且除非在此明确定义,否则不应解释为理想化或过于形式化的含义。
[0056]
以下,参照附图,说明本发明的各实施例。
[0057]
图1是本发明的一实施例涉及的显示装置dd的立体图。
[0058]
参照图1,显示装置dd可以通过显示区域da显示图像。在图1中,例示性地示出了在第一方向dr1以及与第一方向dr1交叉的第二方向dr2所定义的面提供显示区域da的情况。但是,在本发明的其他实施例中可以在弯曲的面提供显示装置的显示区域。
[0059]
显示装置dd的厚度方向指代第三方向dr3。第一方向dr1、第二方向dr2和第三方向dr3所指代的方向是相对的概念,可以变换为其他方向。在本说明书内,“在平面上观察时”的意思可以表示在第三方向dr3上观察的情况。此外,“厚度方向”可以是第三方向dr3。
[0060]
在图1中,例示性地示出了显示装置dd为电视机的情况。但是,显示装置dd除了如监视器或外部广告板这样的大型电子装置以外,还可以使用在如个人计算机、笔记本计算机、个人数字终端机、汽车导航单元、游戏机、智能电话、平板和相机这样的中小型电子装置等中。此外,这些只是作为实施例示出的,在不超出本发明的概念的情况下当然也可以采用于其他电子设备中。
[0061]
显示装置dd可以包括显示面板dp。显示面板dp可以是包括超小型发光元件的超小型发光元件显示面板dp。例如,显示面板dp可以包括发光元件。所述发光元件可以是纳米led或者微型led。
[0062]
图2a是本发明的一实施例涉及的显示面板dp的剖视图。图2b是本发明的一实施例涉及的显示面板dp的平面图。为了便于说明,在图2a和图2b中示出了与一个像素对应的区域,省略了部分构成的图示。
[0063]
参照图2a,第一基底层bl1和第二基底层bl2可以彼此相向。第一基底层bl1和第二基底层bl2分别可以是硅基板、塑料基板、玻璃基板、绝缘膜或者包括多个绝缘层的层叠结构体。
[0064]
缓冲层bfl可以配置在第一基底层bl1上。
[0065]
第一薄膜晶体管tr1和第二薄膜晶体管tr2可以配置在缓冲层bfl上。第一薄膜晶体管tr1可以包括第一控制电极ce1、第一输入电极ie1、第一输出电极oe1和第一半导体图案sp1。第二薄膜晶体管tr2可以包括第二控制电极ce2、第二输入电极ie2、第二输出电极oe2和第二半导体图案sp2。
[0066]
第一半导体图案sp1和第二半导体图案sp2可以配置在缓冲层bfl上。缓冲层bfl可以向第一半导体图案sp1和第二半导体图案sp2提供改质的表面。在该情况下,第一半导体图案sp1和第二半导体图案sp2形成在缓冲层bfl上的情况与直接形成在第一基底层bl1上的情况相比可以针对缓冲层bfl具有高的粘接力。或者,缓冲层bfl可以是保护第一半导体图案sp1和第二半导体图案sp2各自的下表面的阻挡层。在该情况下,缓冲层bfl可以阻断来自第一基底层bl1自身的污染或湿气等渗透至第一半导体图案sp1和第二半导体图案sp2的情况,或者可以阻断通过第一基底层bl1流入的污染或湿气等渗透至第一半导体图案sp1和第二半导体图案sp2的情况。
[0067]
第一绝缘层l1可以配置在缓冲层bfl上,覆盖第一半导体图案sp1和第二半导体图案sp2。第一绝缘层l1可以包括无机物质,并且可以具有单层或多层的结构。第一绝缘层l1可以包括铝氧化物、钛氧化物、硅氧化物、硅氮化物、硅氮氧化物、锆氧化物和铪氧化物中的至少一种。第一控制电极ce1和第二控制电极ce2可以配置在第一绝缘层l1上。第二绝缘层l2可以配置在第一绝缘层l1上,并且可以覆盖第一控制电极ce1和第二控制电极ce2。第二绝缘层l2可以包括无机物质。
[0068]
电容器(未图示)可以包括第一覆盖电极(未图示)和第二覆盖电极cpa。例如,所述第一覆盖电极可以从第二控制电极ce2分支,第二覆盖电极cpa可以配置在第二绝缘层l2上。
[0069]
第三绝缘层l3可以配置在第二绝缘层l2上,覆盖第二覆盖电极cpa。第一输入电极ie1、第一输出电极oe1、第二输入电极ie2和第二输出电极oe2可以配置在第三绝缘层l3上。第一输入电极ie1和第一输出电极oe1可以通过贯通第一绝缘层l1至第三绝缘层l3的贯通孔而与第一半导体图案sp1连接。第二输入电极ie2和第二输出电极oe2可以通过贯通第一绝缘层l1至第三绝缘层l3的贯通孔而与第二半导体图案sp2连接。在第三绝缘层l3上除了第一输入电极ie1、第一输出电极oe1、第二输入电极ie2和第二输出电极oe2以外,还可以配置多个信号布线(例如,扫描线或数据线)中各自的至少一部分。
[0070]
第四绝缘层l4可以配置在第三绝缘层l3上,覆盖第一输入电极ie1、第一输出电极oe1、第二输入电极ie2和第二输出电极oe2。第四绝缘层l4可以包括无机物质和/或有机物质,并且可以具有单层或多层的结构。在第四绝缘层l4上可以配置连接电极cne。在第四绝缘层l4上除了连接电极cne外,还可以配置多个信号布线(例如,扫描线或数据线)各自的至少另一部分。连接电极cne可以与第二输出电极oe2连接。
[0071]
第五绝缘层l5可以配置在第四绝缘层l4上,覆盖连接电极cne。第五绝缘层l5可以包括有机物质。第五绝缘层l5可以覆盖配置在下方的像素电路(未图示),并且可以在至少一部分提供平坦面。例如,第五绝缘层l5可以在除了定义有孔hm的区域外的区域提供平坦面。但是,这只是一例,在第五绝缘层l5也可以不定义孔hm。
[0072]
第一隔壁br1和第二隔壁br2可以配置在第五绝缘层l5上。第一隔壁br1和第二隔
壁br2可以在第一方向dr1上被间隔开。第一隔壁br1和第二隔壁br2分别可以包括有机物质。
[0073]
第一电极e1可以覆盖第一隔壁br1,第二电极e2可以覆盖第二隔壁br2。即,可以在第一电极e1与第五绝缘层l5之间配置第一隔壁br1,并且在第二电极e2与第五绝缘层l5之间配置第二隔壁br2。
[0074]
在第五绝缘层l5可以提供贯通孔,通过所述贯通孔可以使连接电极cne露出。第一电极e1可以与露出的连接电极cne电连接。虽然未图示,但是第二电极e2可以与第二电源线(未图示)电连接。即,向第二电极e2可以提供第二电源电压(未图示)。
[0075]
第一电极e1可以包括第一反射电极rfe1和第一盖电极cpe1,第二电极e2可以包括第二反射电极rfe2和第二盖电极cpe2。
[0076]
第一反射电极rfe1和第二反射电极rfe2分别可以包括反射性物质。第一反射电极rfe1和第二反射电极rfe2可以分别具有单层结构,也可以分别具有多个层叠结构。例如,第一反射电极rfe1和第二反射电极rfe2分别可以具有依次层叠了铟锡氧化物(ito)、银(ag)和铟锡氧化物(ito)的结构。
[0077]
第一盖电极cpe1可以覆盖第一反射电极rfe1,第二盖电极cpe2可以覆盖第二反射电极rfe2。例如,第一盖电极cpe1和第二盖电极cpe2分别可以包括铟锌氧化物(izo)、铟锡氧化物(ito)、铟镓氧化物(igo)、铟锌镓氧化物(igzo)和它们的混合物/化合物中的至少任一种。
[0078]
在平面上,在第一电极e1与第二电极e2之间的第五绝缘层l5的一区域,可以提供孔hm。在第三方向dr3上观察时,孔hm可以不与第一电极e1及第二电极e2重叠。
[0079]
第六绝缘层l6可以配置在孔hm上。第六绝缘层l6可以包括无机物质。在第六绝缘层l6中,在与孔hm对应的区域可以提供弯曲部gp。例如,孔hm和弯曲部gp可以在平面上重叠。在本发明的一实施例中,也可以不提供孔hm。在该情况下,在第六绝缘层l6也可以不提供弯曲部gp。
[0080]
发光元件ed可以配置在第六绝缘层l6上。发光元件ed可以配置在第一电极e1与第二电极e2之间。发光元件ed可以与第一电极e1及第二电极e2电连接。发光元件ed可以配置在第一隔壁br1与第二隔壁br2之间。例如,发光元件ed可以配置在孔hm和弯曲部gp内。
[0081]
参照图2b,示出了第一电极e1和第二电极e2。第一电极e1和第二电极e2分别可以沿着第二方向dr2延伸,并且第一电极e1和第二电极e2可以在第一方向dr1上彼此间隔开。图2b只是示出了一例,本发明并不限于此。第一电极e1和第二电极e2只要彼此间隔开即可,可以变形为各种结构。在图2b中例示性地示出了两个第一电极e1被设置成在其间夹着沿着第二方向dr2延伸的第二电极e2的结构。
[0082]
在平面上,发光元件ed可以配置在第一电极e1与第二电极e2之间,并且发光元件ed可以不与第一电极e1及第二电极e2重叠。可以设置多个发光元件ed,设置为多个的发光元件ed可以被并联连接。发光元件ed可以通过第一连接电极cne1而与第一电极e1电连接,并且可以通过第二连接电极cne2而与第二电极e2电连接。
[0083]
参照图2a,在发光元件ed上可以配置第七绝缘层(或绝缘图案)l7。第七绝缘层l7可以覆盖发光元件ed的上表面的至少一部分。
[0084]
第二连接电极cne2可以配置在第七绝缘层l7、发光元件ed、第六绝缘层l6和第二
电极e2上。第八绝缘层l8可以配置在第二连接电极cne2和第七绝缘层l7上。第一连接电极cne1可以配置在第八绝缘层l8、第七绝缘层l7、发光元件ed、第六绝缘层l6和第一电极e1上。即使发光元件ed的长度在数百微米以下,第二连接电极cne2和第一连接电极cne1也可以通过第八绝缘层l8而不会彼此直接接触。但是,这只是本发明的一实施例,在本发明的另一实施例中,第一连接电极cne1和第二连接电极cne2也可以通过同一工序同时形成。
[0085]
第一连接电极cne1和第二连接电极cne2可以包括导电物质。例如,所述导电物质可以包括铟锌氧化物(izo)、铟锡氧化物(ito)、铟镓氧化物(igo)、铟锌镓氧化物(igzo)和它们的混合物/化合物中的至少任一种。但是,本发明并不限于此。例如,所述导电物质可以是金属物质,所述金属物质例如可以包括钼、银、钛、铜、铝或它们的合金。
[0086]
第九绝缘层l9可以配置在第一连接电极cne1和第八绝缘层l8上。第九绝缘层l9可以是封装层。
[0087]
在与第一基底层bl1相向的第二基底层bl2的一面可以配置遮光层bm。在遮光层bm提供开口部,波长变换部cl可以覆盖开口部。通过开口部露出的区域可以与像素发光区域pxa对应。
[0088]
波长变换部cl可以包括发光体。例如,发光体可以吸收从发光元件ed提供的第一光并变换第一光的波长,从而射出与第一光不同的颜色的第二颜色光。所述发光体例如可以是量子点。所述第一光可以是蓝色光,所述第二颜色光可以是绿色光或者红色光。但是,这是例示,本发明并不限于此。此外,在本发明的另一实施例中,波长变换部cl可以被置换为滤色器。所述滤色器可以吸收特定波长的光来实现颜色。在本发明的又一实施例中,也可以省略波长变换部cl。在该情况下,发光元件ed可以射出蓝色光、绿色光或者红色光。
[0089]
第十绝缘层l10可以配置在第九绝缘层l9与波长变换部cl之间。例如,通过第十绝缘层l10可以结合配置了像素电路(未图示)和发光元件ed的第一基底层bl1与配置了波长变换部cl和遮光层bm的第二基底层bl2。例如,第十绝缘层l10可以是光学透明粘接膜(optically clear adhesive film)、光学透明粘接树脂(optically clear resin)或者压敏粘接膜(pressure sensitive adhesive film)。但是,这只是作为一例而示出的,在本发明的另一实施例中,也可以省略第十绝缘层l10。
[0090]
图3是本发明的一实施例涉及的发光元件ed的剖视图。
[0091]
参照图3,以四边形示出了发光元件ed,但是并不特别限于此。例如,发光元件ed可以具有圆柱形状或多角柱形状等各种形状。
[0092]
发光元件ed可以包括n型半导体层scn、p型半导体层scp和有源层al。有源层al可以配置在n型半导体层scn与p型半导体层scp之间。
[0093]
n型半导体层scn可以被设置成在半导体层掺杂有n型杂质,并且p型半导体层scp可以被设置成在半导体层掺杂有p型杂质。所述半导体层可以包括半导体物质,半导体物质例如可以是gan、aln、algan、ingan、inn、inalgan或alinn,并不限于此。所述n型杂质可以是硅(si)、锗(ge)、锡(sn)、硒(se)、碲(te)或它们的组合,并不限于此。所述p型杂质可以是镁(mg)、锌(zn)、钙(ca)、锶(sr)、钡(ba)或它们的组合,并不限于此。
[0094]
有源层al可以由单一量子阱结构、多量子阱结构、量子线结构或者量子点结构中的至少任一种。有源层al可以是通过n型半导体层scn注入的电子和通过p型半导体层scp注入的空穴复合的区域。有源层al是射出具有根据物质固有的能带决定的能量的光的层。有
源层al的位置可以根据发光元件ed的种类而具有各种变更。
[0095]
n型半导体层scn可以与第一电极e1(参照图2a)和第二电极e2(参照图2a)中的任一个连接,并且p型半导体层scp可以与第一电极e1和第二电极e2中的另一个连接。
[0096]
发光元件ed的长度lt可以在几纳米至数百微米之间。例如,发光元件ed的长度lt可以是1微米至100微米。
[0097]
图4表示制造图2a所示的显示面板dp的过程中的一部分。省略对于与参照图2a说明的构成相同的构成的重复说明。
[0098]
参照图4,向第一隔壁br1与第二隔壁br2之间提供包括发光元件ed在内的墨液或者膏体等溶剂。所述溶剂可以是能够在常温下或者通过热而被气化的物质。向第一电极e1和第二电极e2施加电源,从而在第一电极e1与第二电极e2之间形成电场。通过所述电场,可以在发光元件ed诱导出双极性,发光元件ed可以通过介电泳力而在第一电极e1和第二电极e2之间被对齐。
[0099]
由于在第一电极e1与第二电极e2之间设置有孔hm,因此可以防止因导电性残留物而使得第一电极e1与第二电极e2短路的现象。因此,可以进一步提高发光元件ed的对齐可靠性。此外,通过孔hm以及与孔hm对应的弯曲部gp,可以更加容易地使发光元件ed位于第一电极e1与第二电极e2之间。因此,可以进一步提高发光元件ed的对齐度。在本发明的一实施例中,也可以省略在第一电极e1与第二电极e2之间设置的孔hm。
[0100]
图5是在本发明的一实施例涉及的显示面板dp(参照图2a)涂布了发光元件ed的图像。
[0101]
参照图4和图5,发光元件ed可以包括于墨液或者膏体等的溶剂中而被设置在第一隔壁br1与第二隔壁br2之间,所述溶剂可以在常温下或者通过热而被气化。因此,发光元件ed可以具有随机地涂布在显示面板dp(参照图2a)上的特性。
[0102]
为了判断显示面板dp的不良(例如,异物),可以与基准图像比较拍摄了显示面板dp的图像,根据具有差异的部分来判断不良程度。在发光元件ed的尺寸为小型(例如,纳米尺寸的led)的情况下,发光元件ed可以随机地涂布在对象基板上之后被排列。在该情况下,由于随机地涂布了发光元件ed,因此与基准图像进行比较而具有差异的部分除了包括关于异物的差异外,还可以包括并非因异物引起而是因发光元件ed的排列引起的差异。
[0103]
根据本发明,可以与基准图像比较从拍摄了显示面板dp的图像中去除了关于发光元件ed的部分的检查图像。因此,与基准图像进行比较的检查图像可以不包括关于随机地配置的发光元件ed的部分。其结果,在比较检查图像与基准图像时,具有差异的部分相当于异物,因此可以提高不良判断的可靠性。
[0104]
图6是表示本发明的一实施例涉及的检查装置dtd的图。
[0105]
参照图6,检查装置dtd可以包括工作台st、多个光源sl1、sl2、第一滤波器ft1、第二滤波器ft2、光学部件otm、辐射滤波器emf、拍摄部ipu、控制部cm、处理部pcu和判断部jgu。
[0106]
基板sub是检查装置dtd想要检查的对象,可以被配置在工作台st上。在本发明中,基板sub与检查对象sub可以是相同的名称。
[0107]
多个光源sl1、sl2可以包括第一光源sl1和第二光源sl2。第一光源sl1和第二光源sl2可以被配置成在第一方向dr1上间隔开,并且可以在第一方向dr1上相向。第一光源sl1
可以朝向第一滤波器ft1射出第一光b1(参照图8a)。第一光b1可以具有可见光的波段。第二光源sl2可以朝向第二滤波器ft2射出第二光b2(参照图8c)。第二光b2可以是波段不同于第一光b1的光。例如,第二光b2可以具有紫外线的波段。在图6中示出了第一光源sl1配置在比第二光源sl2更靠左侧的情况,但是并不特别限于此。例如,第一光源sl1可以配置在比第二光源sl2更靠右侧的位置处。
[0108]
第一滤波器ft1可以配置在从第一光源sl1射出光的光路径上。第一滤波器ft1可以仅使第一光源sl1射出的第一光b1中的第一波段的光wbl1(参照图8a)透过。例如,第一滤波器ft1可以使作为白色光的第一光b1中的红色光、绿色光或者蓝色光透过。
[0109]
第二滤波器ft2可以配置在第二光源sl2射出光的光路径上。第二滤波器ft2可以仅使第二光源sl2射出的第二光b2中的第二波段的光wbl2(参照图8c)透过。例如,第二滤波器ft2可以仅使作为紫外线光的第二光b2中的检查对象sub的激发范围的光透过。根据本发明的一实施例,第二波段的光wbl2(参照图8c)的λ
peak
可以是450nm。
[0110]
光学部件otm可以配置在第一滤波器ft1与第二滤波器ft2之间。光学部件otm可以根据第一光源sl1和第二光源sl2的操作而旋转,从而反射光。例如,反射透过了第一滤波器ft1的第一波段的光wbl1(参照图8a)或者反射透过了第二滤波器ft2的第二波段的光wbl2(参照图8c),从而使光的路径变更为朝向配置在工作台st上的检查对象sub。
[0111]
在本发明的一实施例中,光学部件otm可以包括第一面sd1以及与第一面sd1对置的第二面sd2。第一光b1中的第一波段的光wbl1(参照图8a)可以在光学部件otm的第一面sd1被反射而朝向检查对象sub,并且第二光b2中的第二波段的光wbl2(参照图8c)可以在光学部件otm的第二面sd2被反射而朝向检查对象sub。例如,光学部件otm可以是二色性滤波器或者二色性镜子。
[0112]
辐射滤波器emf可以配置在光学部件otm与拍摄部ipu之间,并且可以移动。例如,在第一光源sl1射出第一光b1时,辐射滤波器emf可以进行移动以便不配置在光学部件otm与拍摄部ipu之间,并且在第二光源sl2射出第二光b2时,辐射滤波器emf可以进行移动以便配置在光学部件otm与拍摄部ipu之间。即,辐射滤波器emf可以仅在第二光源sl2工作时被使用。
[0113]
辐射滤波器emf可以仅使检查对象sub反射的光中的一部分辐射段的光ewl(参照图8c)透过。辐射滤波器emf起到仅使观察者想要进行观察的波段透过的作用,从而可以更加清晰地观察检查对象sub。
[0114]
拍摄部ipu可以配置在辐射滤波器emf射出的辐射段的光ewl(参照图8c)的光路径上。拍摄部ipu可以拍摄照射了第一光b1的检查对象sub来获得第一图像数据id1(参照图9a),并且可以拍摄照射第二光b2的检查对象sub来获得第二图像数据id2(参照图9b)。
[0115]
控制部cm可以控制第一光源sl1和第二光源sl2的操作,并且可以控制光学部件otm的旋转。例如,在第一光源sl1开启时,可以关闭第二光源sl2,并且在第二光源sl2开启时,可以关闭第一光源sl1。可以根据第一光源sl1和第二光源sl2的工作时序,使光学部件otm旋转。在光学部件otm旋转时,可以进行控制以便关闭第一光源sl1和第二光源sl2。
[0116]
处理部pcu可以在由拍摄部ipu拍摄的第一图像数据id1中去除第二图像数据id2,从而生成检查数据spd(参照图9c)。
[0117]
判断部jgu可以对由处理部pcu生成的检查数据spd进行比较、分析,从而判断检查
对象sub是否不良。
[0118]
图7是本发明的一实施例涉及的显示装置dd的检查方法的顺序图。图8a至图8c是表示本发明的一实施例涉及的检查装置dtd的操作的图。
[0119]
参照图7和图8a,第一光源sl1可以向检查对象sub照射可见光波段的第一光b1(s100)。第一光源sl1可以朝向第一滤波器ft1照射第一光b1。第一滤波器ft1可以使第一光b1中的第一波段的光wbl1透过。第一波段的光wbl1可以是红色光、绿色光或者蓝色光。光学部件otm可以将第一波段的光wbl1的光路径变更为朝向工作台st上的检查对象sub。
[0120]
拍摄部ipu可以拍摄照射了第一光b1的检查对象sub来生成第一图像数据id1(参照图9a)(s200)。可以移动辐射滤波器emf,以便辐射滤波器emf不配置在光学部件otm与拍摄部ipu之间。朝向检查对象sub照射的第一波段的光wbl1可以被检查对象sub反射,拍摄部ipu可以拍摄被检查对象sub反射的光,从而生成第一图像数据id1。例如,第一图像数据id1可以是wl拍摄图像。
[0121]
参照图7、图8b和图8c,第二光源sl2可以向检查对象sub照射紫外线波段的第二光b2(s300)。若照射第一光b1(参照图8a)并生成第一图像数据id1(参照图9a)的步骤s100、s200结束,则控制部cm(参照图6)可以关闭第一光源sl1,并且使光学部件otm旋转。
[0122]
光学部件otm可以包括第一面sd1(参照图6)以及与第一面sd1对置的第二面sd2(参照图6)。第一面sd1可以是将第一光b1(参照图8a)朝向检查对象sub反射的面,第二面sd2可以是将第二光b2朝向检查对象sub反射的面。因此,在第一光源sl1的第一光b1的照射步骤结束的情况下,光学部件otm可以为了反射从第二光源sl2照射的第二光b2而旋转。在图8b中例示性地示出了光学部件otm在顺时针方向上旋转的情况,但是并不特别限于此。例如,光学部件otm也可以在逆时针方向上旋转。
[0123]
第二光源sl2可以朝向第二滤波器ft2照射第二光b2。第二滤波器ft2可以使第二光b2中的第二波段的光wbl2透过。第二波段的光wbl2可以是使发光元件ed(参照图2a)发光的波长区域。例如,第二滤波器ft2可以是激发滤波器(excitation filter),第二波段的光wbl2可以是激发范围(excitation range)内的波长。旋转的光学部件otm可以将第二波段的光wbl2的光路径变更为朝向工作台st上的检查对象sub。
[0124]
拍摄部ipu可以拍摄照射了第二光b2的检查对象sub来生成第二图像数据id2(参照图9b)(s400)。可以使辐射滤波器emf移动,以便辐射滤波器emf配置在光学部件otm与拍摄部ipu之间。朝向检查对象sub照射的第二波段的光wbl2可以被检查对象sub反射,并且透过辐射滤波器emf。辐射滤波器emf可以仅使检查对象sub反射或者提供的光中的一部分辐射段的光ewl透过,并且使非辐射段范围的其他波长的光无法透过。例如,辐射滤波器emf可以是辐射滤波器(emission filter),辐射段的光ewl可以是辐射范围(emission range)内的波长。例如,辐射段的光ewl可以是发光元件ed(参照图2a)提供的光。因此,拍摄部ipu可以获取对于发光元件ed的图像。
[0125]
拍摄部ipu可以拍摄透过了辐射滤波器emf的辐射段的光ewl,从而生成第二图像数据id2(参照图9b)。例如,第二图像数据id2(参照图9b)可以是fl拍摄图像。
[0126]
图9a是表示本发明的一实施例涉及的第一图像数据id1的图。图9b是表示本发明的一实施例涉及的第二图像数据id2的图。图9c是表示本发明的一实施例涉及的检查数据spd的图。
[0127]
参照图7和图9a至图9c,处理部pcu(参照图6)可以从第一图像数据id1中去除第二图像数据id2来生成检查数据spd(s500)。
[0128]
参照图9a,第一图像数据id1可以是向检查对象sub(参照图6)照射第一光b1(参照图8a)而得到的图像。第一图像数据id1可以包括第一隔壁br1、第二隔壁br2、发光元件ed和不良ip的图像。多个发光元件ed可以配置在第一隔壁br1与第二隔壁br2之间,在覆盖第一隔壁br1的第一电极e1(参照图2a)与覆盖第二隔壁br2的第二电极e2(参照图2a)之间未被电对齐的发光元件ed可能会随机地涂布在基板sub上。除了在基板sub上随机地涂布的发光元件ed以外,还可能包括不良ip。但是,发光元件ed和不良ip在第一图像数据id1上可能无法区分。
[0129]
参照图9b,第二图像数据id2可以是向检查对象sub(参照图6)照射第二波段的光wbl2(参照图8c)而得到的图像。作为对于向发光元件ed内部的活性层(未图示)赋予光能而使其发光的情况进行了拍摄的图像,在第二图像数据id2中可以出现发光元件ed内的荧光性物质。因此,第二图像数据id2可以仅包括发光的发光元件ed的图像。
[0130]
参照图7和图9c,检查数据spd可以是从第一图像数据id1中去除第二图像数据id2而得到的图像。检查数据spd可以包括第一隔壁br1、第二隔壁br2和不良ip的图像。由于去除了出现发光元件ed的第二图像数据id2,因此检查数据spd可以不包括发光元件ed。
[0131]
图10是表示本发明的一实施例涉及的判断检查对象是否不良(s600)的顺序图。
[0132]
参照图7和图10,判断部jgu(参照图6)可以根据检查数据spd,判断检查对象sub是否不良(s600)。判断部jgu(参照图6)可以比较基准数据与检查数据spd,从而判断检查对象sub是否不良(s610)。基准数据可以是存储在检查装置dtd(参照图6)中的数据。不存在于基准数据而存在于检查数据spd中的图像可以是表示不良ip的图像。
[0133]
图11a是表示本发明的一实施例涉及的检查对象sub的多个区域ia的图。图11b是表示本发明的一实施例涉及的判断检查对象是否不良(s600)的顺序图。
[0134]
参照图11a,检查对象sub可以包括多个区域ia。多个区域ia分别可以具有相同的形状和大小。在图11a中例示性地示出了16个区域,但是多个区域ia的个数并不特别限于此。可以从多个区域ia获得多个检查数据spd(参照图9c)。
[0135]
参照图11a和图11b,判断部jgu可以彼此比较多个检查数据spd,从而判断检查对象sub是否不良(s610-1)。多个检查数据spd可以是从检查对象sub的多个区域ia得到的数据。比较多个检查数据spd而具有差异的图像可以是表示不良ip(参照图9a)的图像。例如,存在于从第二区域ia2得到的检查数据spd中但不存在于从第一区域ia1和第三区域ia3得到的检查数据spd中的图像的情况下,可以判断为第二区域ia2包括表示不良ip的图像。
[0136]
彼此比较多个检查数据spd来判断是否不良的方法相比于比较检查数据与基准数据来判断是否不良的方法,可以减少关于位置的偏差和照度引起的偏差,可以相对更加准确地判断是否不良。
[0137]
图12是表示本发明的一实施例涉及的检查装置dtd-1的图。省略对于与参照图6说明的构成相同的构成的重复说明。
[0138]
参照图12,检查装置dtd-1可以包括工作台st、多个光源sl1、sl2、第二滤波器ft2、光学部件otm、辐射滤波器bmf、拍摄部ipu、控制部cm和处理部pcu。即,图12中示出的检查装置dtd-1可以是在图6所示的检查装置dtd中省略了第一滤波器ft1(参照图6)的结构。即,第
一滤波器ft1可以是可安装/可拆卸的部件。
[0139]
第一光源sl1可以朝向光学部件otm射出第一光b1。第一光b1可以具有可见光的波段。例如,第一光b1可以是白色光、红色光、绿色光或者蓝色光,并不特别限于此。
[0140]
光学部件otm可以配置在第一光源sl1与第二滤波器ft1之间。光学部件otm可以反射第一光源sl1射出的第一光b1来将光的路径变更为朝向配置在工作台st上的检查对象sub。从第一光源sl1射出的第一光b1可以入射至检查对象sub,从而检查对象sub可以反射第一光b1中的一部分光。
[0141]
图13是本发明的一实施例涉及的检查对象sub的剖视图。
[0142]
参照图13,可以在排列发光元件ed之后,利用检查装置dtd(参照图6)来对检查对象sub进行检查。根据本发明,可以与基准图像比较从拍摄了检查对象sub的图像中去除了关于发光元件ed的部分的检查图像。因此,与基准图像进行比较的检查图像可以不包括关于随机地配置的发光元件ed的部分。其结果,在比较检查图像与基准图像时,具有差异的部分相当于异物,因此可以提高不良判断的可靠性。
[0143]
图14是本发明的一实施例涉及的检查对象sub-1的剖视图。
[0144]
参照图14,在发光元件ed上形成绝缘图案l7,并且对第六绝缘层l6-b(参照图13)进行图案化来形成第六绝缘层l6。然后,可以依次形成第二连接电极cne2、第八绝缘层l8、第一连接电极cne1和第九绝缘层l9。在进行图案工序时,可以在每一层反复沉积过程、涂布过程、蚀刻过程。
[0145]
可以在排列发光元件ed之后到覆盖显示面板dp(参照图1)的第二基底层bl2之前为止在所有步骤中执行利用了本发明的一实施例涉及的检查装置dtd(参照图6)的检查方法。根据本发明,可以与基准图像比较从拍摄了检查对象sub-1的图像中去除了关于发光元件ed的部分的检查图像。因此,与基准图像进行比较的检查图像可以不包括关于随机地配置的发光元件ed的部分。其结果,在比较检查图像与基准图像时,具有差异的部分相当于异物,因此可以提高不良判断的可靠性。
[0146]
以上,参照本发明的优选实施例进行了说明,但是本领域的熟练技术人员或者本领域的普通技术人员应当能够理解在不超出权利要求书所记载的本发明的思想和技术领域的范围内可以对本发明进行各种修正以及变更。因此,本发明的技术范围不应限于说明书的详细说明所记载的内容,应仅由权利要求书来确定。
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